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肖绍铸

作品数:7 被引量:6H指数:2
供职机构:清华大学深圳研究生院更多>>
发文基金:国家自然科学基金深圳市基础研究计划项目中国博士后科学基金更多>>
相关领域:一般工业技术电气工程金属学及工艺电子电信更多>>

文献类型

  • 4篇专利
  • 2篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇一般工业技术
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇电子电信
  • 1篇电气工程

主题

  • 2篇氧化物薄膜
  • 2篇照射
  • 2篇探测器
  • 2篇基底表面
  • 2篇激光
  • 2篇激光探测
  • 2篇激光探测器
  • 2篇激光源
  • 2篇溅射
  • 2篇工作气压
  • 2篇光探测
  • 2篇光探测器
  • 2篇光源
  • 2篇厚度变化
  • 2篇法线
  • 1篇导体
  • 1篇原子力显微镜
  • 1篇织构
  • 1篇双轴
  • 1篇涂层导体

机构

  • 7篇清华大学

作者

  • 7篇冯峰
  • 7篇肖绍铸
  • 7篇韩征和
  • 6篇瞿体明
  • 4篇朱宇平
  • 3篇史锴
  • 3篇张燕怡
  • 2篇周倩
  • 2篇吴蔚
  • 1篇王志
  • 1篇魏俊俊

传媒

  • 1篇稀有金属
  • 1篇中国材料进展

年份

  • 2篇2017
  • 2篇2015
  • 1篇2014
  • 1篇2013
  • 1篇2011
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
哈氏合金表面粗糙度AFM测量中扫描尺度等问题研究被引量:2
2014年
哈氏合金HastelloyC276是一种被广泛应用的镍基合金,具有机械性能优良、抗腐蚀能力强等优势,在第二代高温超导导线的离子柬辅助沉积(IBAD)技术路线中被用作金属基底,因此其表面抛光与粗糙度测量受到了广泛重视。哈氏合金的表面形貌和粗糙度测量一般采用原子力显微镜(AFM)方法,在该方法中扫描尺度对测量结果具有显著的影响。本研究对两个分别进行了电化学抛光和机械抛光的哈氏合金带材短样,在1N70μm范围内选取不同扫描尺度进行了AFM测量,从而对其表面形貌获得了全面的了解,并发现其表面粗糙度随着扫描尺度的变大出现了明显的增大,文中还在不同扫描尺度下考察了电化学抛光与机械抛光的作用区别。此外,本研究中分析了AFM图像的后处理中flatten阶数的影响,对从AFM图像中分割出小尺度局域计算粗糙度的方法进行了改进,并讨论了AFM测量粗糙度的可重复性问题。通过这些研究,对表面粗糙度的AFM测量方法在全面性和有效性方面进行了完善,提出了粗糙度描述时有必要给出的相关参数。
冯峰瞿体明肖绍铸张燕怡史锴韩征和
关键词:原子力显微镜哈氏合金表面粗糙度抛光
一种制备具有双轴织构的氧化物薄膜的设备和方法
一种制备具有双轴织构的氧化物薄膜的设备和方法,该设备包括磁控溅射真空室以及安装在磁控溅射真空室内的磁控溅射靶材和样品架,磁控溅射靶材与基底材料之间的距离在1厘米~100厘米范围内,且从磁控溅射靶材上射出的粒子束流在基底材...
肖绍铸冯峰瞿体明朱宇平卢弘愿韩征和
文献传递
原位测量薄膜厚度变化的设备和方法
本发明公开了一种原位测量薄膜厚度变化的设备和方法,其中设备包括样品台、激光源和激光探测器,所述样品台承载待测样品,所述激光源发出第一束激光、第二束激光分别照射在待测样品的薄膜表面和基底表面,所述激光探测器接收被待测样品反...
冯峰卢弘愿周倩瞿体明肖绍铸朱宇平韩征和
文献传递
CeO2缓冲层表面形貌随磁控溅射参数的演化及其对YBCO层的影响
本文采用射频磁控溅射方法在单晶YSZ上沉积高温超导涂层导体CeO2缓冲层,通过原子力显微镜(AFM)对薄膜表面形貌进行表征,发现其随沉积参数(溅射气压,射频功率)出现明显的演化规律,缓冲层表面可呈现平整结构、纳米颗粒结构...
张燕怡冯峰黄荣厦卢会平肖绍铸吴蔚史锴王志韩征和
一种制备具有双轴织构的氧化物薄膜的设备和方法
一种制备具有双轴织构的氧化物薄膜的设备和方法,该设备包括磁控溅射真空室以及安装在磁控溅射真空室内的磁控溅射靶材和样品架,磁控溅射靶材与基底材料之间的距离在1厘米~100厘米范围内,且从磁控溅射靶材上射出的粒子束流在基底材...
肖绍铸冯峰瞿体明朱宇平卢弘愿韩征和
原位测量薄膜厚度变化的设备和方法
本发明公开了一种原位测量薄膜厚度变化的设备和方法,其中设备包括样品台、激光源和激光探测器,所述样品台承载待测样品,所述激光源发出第一束激光、第二束激光分别照射在待测样品的薄膜表面和基底表面,所述激光探测器接收被待测样品反...
冯峰卢弘愿周倩瞿体明肖绍铸朱宇平韩征和
制备高温超导涂层导体的技术路线分析被引量:4
2011年
钇系高温超导涂层导体具备优异的超导性能,有广泛的应用前景,因此成为国际上的研究热点之一。近年来涂层导体长带的研制在日本和美国等国家取得了巨大进展,目前主要的技术路线为离子束辅助沉积(IBAD)和轧制辅助双轴织构基带(RABiTS)2种,其中IBAD技术路线的使用更为广泛而且产品性能处于领先地位。基于对上述2种技术路线进行的对比分析研究,介绍了目前世界范围内主要研究单位的进展情况,并对这2种技术路线在涂层导体结构的3个基本部分(金属基带、过渡层、超导层)的制备情况进行了具体对比分析。
冯峰史锴瞿体明魏俊俊吴蔚张燕怡肖绍铸韩征和
关键词:高温超导涂层导体
共1页<1>
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