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何正彪

作品数：2 被引量：2H指数：1
供职机构：哈尔滨工程大学材料科学与化学工程学院更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇金属学及工艺

主题

  • 2篇氮化
  • 2篇氮化钛
  • 2篇性能研究
  • 2篇溅射
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 2篇TIN

机构

  • 2篇哈尔滨工程大...
  • 2篇泰州师范高等...

作者

  • 2篇何正彪
  • 2篇崔秀芳
  • 2篇肖卫华

传媒

  • 1篇苏州科技学院...
  • 1篇河南理工大学...

年份

  • 1篇2011
  • 1篇2010
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
TiN薄膜的制备及其纳米力学性能研究
2011年
采用磁控溅射工艺制备了TiN薄膜,借助X射线衍射仪、场发射扫描电子显微镜、原子力显微镜和纳米压痕仪等设备,研究了薄膜制备工艺参数(如基体温度、溅射功率、基体负偏压等)对薄膜的相结构、表面微观形貌、纳米硬度、弹性模量等的影响。结果表明:TiN薄膜为多晶态,其溅射功率、基体负偏压和基体温度等条件对薄膜的形貌、结构及纳米硬度、弹性模量等的影响比较复杂。
肖卫华崔秀芳何正彪
关键词：磁控溅射氮化钛
TiN薄膜的制备及其纳米力学性能研究被引量：2
2010年
采用磁控溅射工艺制备了TiN薄膜,借助X射线衍射仪（XRD）、场发射扫描电子显微镜（FESEM）、原子力显微镜（AFM）和纳米压痕仪（nano-indentation）等,研究了薄膜的相结构、表面微观形貌、纳米硬度、弹性模量等,讨论了薄膜制备工艺参数,如基体温度、溅射功率、基体负偏压等的影响.结果表明,Ti N薄膜为多晶态,溅射功率、基体负偏压和基体温度等条件对薄膜的形貌、结构及纳米硬度、弹性模量等的影响比较复杂.
肖卫华崔秀芳何正彪
关键词：磁控溅射氮化钛
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