刘吉燕
- 作品数：1 被引量：6H指数：1
- 供职机构：国防科学技术大学航天与材料工程学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术电气工程更多>>
- 磁控溅射制备SmCo薄膜的工艺及磁性研究被引量：6
- 2003年
- 用直流磁控溅射方法制备了SmCo薄膜,通过正交设计实验考察了工艺因素对薄膜沉积速率的影响规律。研究结果表明,影响薄膜沉积速率的主要因素是溅射功率,其次为靶基距,在0.5～2.0Pa的压强范围内,Ar气压强的大小对溅射速率的影响很小。X-射线衍射结果表明:制备态的SmCo薄膜为非晶结构,500℃真空热处理后,薄膜中出现少量的微晶SmCo5化合物。磁性能测试表明:制备态SmCo薄膜的矫顽力随薄膜厚度的增加而显著下降;真空热处理过程中,薄膜结构缺陷及成分起伏减少,薄膜的矫顽力和饱和磁场强度显著下降,初始磁导率和饱和磁化强度显著增加。
- 邱轶万红刘吉燕斯永敏赵恂
- 关键词：直流磁控溅射工艺参数磁化
