刘庭芝
- 作品数：29 被引量：42H指数：4
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- 相关领域：理学一般工业技术金属学及工艺化学工程更多>>
- 化学水浴沉积ZnS薄膜时联氨的作用
- 采用化学水浴法在玻璃衬底上制备Zn S薄膜。为了解联氨沉积作用,用金相显微镜、XRD、nkd-薄膜分析系统对薄膜形貌、结构和光学性能进行分析。结果表明:随着联氨浓度的增加,衬底表面形核活化点
- 刘庭芝多树旺张萌向军淮李文魁张荣发胡长员
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- 化学溶池法制备CuInGaSe2太阳能电池缓冲层ZnS薄膜的研究进展
- ZnS无毒、来源丰富、价格低廉、禁带宽度大,可提高电池的蓝光光谱响应、开路电压和短路电路,减小电子亲和势,电池转换效率高等。这些优点使其成为近年来CuInGaSe2太阳能电池缓冲层的研究热点之一。本文综述了化学溶池法(C...
- 刘庭芝多树旺张荣发杨干兰黄隆周泽华
- 关键词：缓冲层太阳能电池
- 文献传递
- 联氨浓度对化学溶池沉积ZnS薄膜的影响被引量：1
- 2009年
- 采用化学溶池沉积法在玻璃衬底上制备ZnS薄膜。为了解联氨在沉积过程中的作用,采用金相显微镜、XRD、nkd-薄膜分析系统对薄膜形貌、结构和光学性能进行分析。结果表明:随着联氨浓度的增加,衬底表面形核点数目增加,分布均匀,薄膜颗粒得到细化。结合Zn2+的络合前驱体、络合常数及其三元络合常数计算、氢键及空间位阻等方面的分析,认为会出现3种不同的络合前驱离子,分别为Zn(NH3)24+、Zn(NH3)x(N2H4)2y+、2+Zn(NH3)3。这些Zn2+的前驱体影响着衬底形核点的数目、分布与薄膜的均匀性。在适当条件下,联氨不再起辅助沉积的作用,而是与氨一起形成三元络合配位体系,共同参与沉积。通过改变联氨浓度,可以制备出在550～1000nm的波长范围内透过率达95%以上、反射率与透过率相对应、均匀平整的非晶薄膜。
- 刘庭芝多树旺张萌向军淮张荣发胡长员朱世峰
- 关键词：ZNS薄膜
- 有机硅/二氧化硅杂化涂层抗原子氧侵蚀性能研究被引量：8
- 2011年
- 采用溶胶-凝胶法,以一甲基三乙氧基硅烷(MTES)和正硅酸乙酯(TEOS)为原料,乙醇为溶剂,盐酸为催化剂,通过溶胶-凝胶法制备出分子级复合的SiO2杂化有机硅树脂,浸涂在聚酰亚胺表面干燥后获得了透明致密的涂层。采用自己研制的空间综合环境地面模拟设备对试样进行了原子氧暴露实验。测试表明,溶胶-凝胶制备的有机硅/SiO2涂层抗原子氧侵蚀性能优异,抗原子氧侵蚀性能比聚酰亚胺基体提高了2个数量级以上。经AO暴露后的杂化涂层质量几乎没有发生变化。经FTIR和XPS分析表明,在原子氧暴露后涂层表面产生的是SiO2陶瓷层。SEM分析表明无涂层的聚酰亚胺原子氧暴露后表面非常粗糙,表面呈现地毯状形貌而涂覆涂层试样暴露前后表面形貌没有发生变化。采用紫外-可见光-近红外分光光度计对涂覆有机硅/SiO2涂层试样分析表明,原子氧暴露前后试样表面的光学性能也未发生变化。实验证明,制备抗原子氧侵蚀的防护涂层的溶胶-凝胶法是一种行之有效的方法。
- 多树旺宋密密刘庭芝罗英李美栓周延春
- 关键词：原子氧SIO2溶胶-凝胶杂化材料
- 有机硅／二氧化硅杂化涂层抗原子氧侵蚀性能研究
- 溶胶-凝胶法，以一甲基三乙氧基硅烷(MTES)和正硅酸乙酯(TEOS)为原料。乙醇为溶剂，盐酸为催化剂，通过溶胶-凝胶法制备出分子级复合的Si02杂化有机硅树脂，浸涂在聚酰亚胺表面干燥后获得了透明致密的涂层。采用自己研制...
- 多树旺宋密密刘庭芝罗英李美栓周延春
- 关键词：原子氧杂化材料抗侵蚀性能光学性能溶胶-凝胶法
- pH值的变化对ZnS薄膜光学性质的影响
- 2011年
- 采用化学水浴法(CBD)制备ZnS薄膜,用NKD-7000v薄膜分析系统测试薄膜的透过率和反射率,拟合出薄膜厚度和吸收系数。研究了制备过程中不同的pH值调节剂对薄膜光学性质的影响。结果表明:加入pH值调节剂使薄膜禁带宽度增加,可达3.95eV,即对薄膜颗粒有细化作用。比较透过率和反射率,表明加NaOH把pH值控制在11和加NH_3把pH值控制在10.9时溶液沉积环境基本相似,反之亦然。但是加入氨水更有利于薄膜沉积速率的提高,且当pH值为11时加入调节剂,可以提升溶液进入亚稳态的pH值。
- 徐鹏刘庭芝多树旺郭岚
- 关键词：ZNS薄膜透过率禁带宽度
- 植酸对镁合金微弧氧化膜性能影响被引量：3
- 2007年
- 在18g／L的碱性硅酸钠溶液中，加入7．5gm的环保无毒植酸，研究它对镁合金氧化膜表面形貌、成分、颜色、厚度以及耐蚀性影响。加入植酸后，氧化膜孔的直径范围由1～5μm增加到1～8μm，但氧化膜表面单位面积孔的个数由0.05个／μm^2减少到0．02个／μm^2。植酸参与氧化膜的形成过程，并使氧化膜颜色随着植酸加入量的增加逐渐加深。植酸使氧化膜的厚度由11gm增加到16μm。浸泡实验表明，植酸可进一步提高氧化膜耐蚀性，产生第一个腐蚀点时间由24h延长到50h。
- 张荣发王方圆娄瑾白凌云张淑娟周泽华杨干兰刘庭芝张淑芳
- 关键词：镁合金氧化膜电解质植酸
- 温度对化学水浴法制备ZnS薄膜的影响被引量：3
- 2010年
- 采用化学水浴法在玻璃上制备了太阳能电池中的ZnS缓冲层。采用SEM、EDS、XRD和nkd-分光光度计等手段研究了水浴温度对ZnS薄膜的表面形貌、结构和光学性能的影响。结果表明,升高温度不能明显改变薄膜的结晶性、形貌和沉积生长方式,能否成膜与温度的关系也不大,但成膜速率对温度的依赖性较大。随温度的升高,薄膜的透过率先减小后增大,反射率则先增大后减小。对同一试样而言,透过率和反射率对应较好。当温度为70℃时,可制得禁带宽度为3.83eV、符合化学计量比、平整的非晶ZnS薄膜。
- 徐鹏刘庭芝郭岚
- 关键词：ZNS薄膜沉积温度
- 铝含量及基体脉冲偏压对非对称双极脉冲磁控溅射沉积氮化铬铝涂层结构和硬度的影响
- 本文利用非对称双极脉冲磁控溅射技术,双极分别接纯铬靶和纯铝靶,通过调整两靶的功率,以反应溅射的方式沉积不同铬铝比的氮化铬铝涂层。研究了两靶的功率比及基体脉冲偏压对涂层成分、结构及硬
- 张淑娟娄瑾刘庭芝多数旺李明升
- 文献传递
- 溶胶-凝胶法制备的SiO2涂层抗原子氧侵蚀性能研穷
- 2007年
- 以正硅酸乙酯（TEOS）为原料，在乙醇共溶剂和盐酸催化剂条件下，采用溶胶-凝胶方法制备SiO2胶体溶液，通过旋涂法在Kapton基体上制备了SiO2薄膜。采用自己研制的空间综合环境地面模拟设备对试样进行了原子氧暴露实验，测试表明溶胶-凝胶制备的SiO2涂层抗原子氧侵蚀性能优异，抗原子氧侵蚀性能比聚酰亚胺基体提高了2个数量级以上。经FTIR和XPS分析表明在原子氧暴露后涂层表面生成了一层SiO2，它阻止了原子氧对基体材料的进一步侵蚀。涂覆涂层后基体的光学性能没有受到影响。实验证明溶胶-凝胶制备抗原子氧侵蚀的防护涂层是一种行之有效的方法。
- 多树旺李美栓刘庭芝
- 关键词：溶胶-凝胶法原子氧SIO2
