刘雪华
- 作品数：52 被引量：82H指数：6
- 供职机构：福建工程学院更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划福建省发展和改革委员会项目更多>>
- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术化学工程理学更多>>
- 一种含Ce活性氧化物材料及其制备方法
- 本发明公开了一种含Ce活性氧化物材料及其制备方法，该活性氧化物材料的Ce和Ru的摩尔比为3∶7-7∶3，以CeCl<Sub>3</Sub>和RuCl<Sub>3</Sub>为源物质，溶于乙醇制成活性浆液，经加热蒸发、加热...
- 王欣张腾唐电孙俊梅刘雪华邵艳群李炯
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- 一种嵌入钌硅复合氧化物的镍基活性电极材料及其制备方法
- 本发明提供了一种嵌入钌硅复合氧化物的镍基活性电极材料及其制备方法。所述的活性材料的嵌入体为钌硅复合氧化物，平均颗粒尺度为12 nm，其中Si∶Si+Ru摩尔比为0.18～0.22∶1。所述的嵌入钌硅复合氧化物的镍基活性电...
- 王欣唐电刘雪华周迎朝张腾邹翔达李国荣王启凡唐中帜周杨杰
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- 一种新型TiO<Sub>2</Sub>/MXene复合材料的制备方法
- 本发明公开了一种新型TiO<Sub>2</Sub>/MXene复合材料及其制备方法，这里的MXene包括Ti<Sub>3</Sub>C<Sub>2</Sub>、Ti<Sub>2</Sub>C，其以MXene为基底，采用煅...
- 叶晓云陈龙陈炳淞王乾廷马立安刘雪华林永南陈文哲
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- 纳米金属钌的非水溶液均相还原制备方法
- 本发明提供一种纳米金属钌的非水溶液均相还原制备方法，将钌离子溶解于含用于吸收钌离子的配位化合物的惰性溶剂中制成反应溶液I，将一价铜离子溶解于含有用于吸收一价铜离子的配位化合物的惰性溶剂中制成反应溶液II，将反应溶液I和反...
- 唐电陈永毅王欣邵艳群张腾刘雪华颜琦浦达昌
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- RuO_2-SiO_2二元氧化物被覆钛涂层的制备被引量：11
- 2007年
- 采用Pechini法,通过涂覆、烧结和退火,制备成系列含硅的RuO_2-SiO_2/Ti样品。二元涂层的摩尔成分为X%RuO_2-Y%SiO_2(以下简写为Ru_xSi_yO_2)。采用SEM和XRD方法分析了该阳极涂层材料的组织结构特征。结果表明所制备的涂层的相结构主要由金红石相的RuO_2所组成,高温处理出现金红石相TiO_2,加入的硅以非晶态SiO_2的形式存在。经450℃处理的含硅样品的平均晶粒尺寸均小于10nm,明显低于不含硅的样品。同时具有很强的尺寸稳定性,即使经800℃退火处理后,涂层的平均晶粒尺寸仍在45nm以下。这表明掺杂适量的非晶态SiO_2组元,可以明显细化晶粒,稳定相结构,同时可粘连分散的活性组元颗粒,起到"支架"的作用。
- 刘雪华唐电
- 关键词：显微结构相结构
- Sn基无铅焊料/Cu界面间Cu6Sn5形成机理的研究进展
- 刘雪华
- 关键词：形貌
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- 高均匀度高性能复合Ni-P-TiO<Sub>2</Sub>镀层的制备方法
- 本发明公开了一种高均匀度高性能复合Ni‑P‑TiO<Sub>2</Sub>镀层的制备方法，采用溶胶凝胶法制备二氧化钛溶胶，以液态形式直接加入Ni‑P镀液之中，可实现分子级别的均匀混合，经恰当温度的热处理后，不仅可以获得致...
- 刘雪华
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- 印刷电路板上浸镀纯金属的机理及显微形貌研究
- 2009年
- 浸镀是印刷电路板(PCB)终饰工艺中的主流技术.对比研究了PCB上浸镀银和锡的机理、基本过程及其形成镀层的显微形貌,并对PCB上浸镀金和钯的技术特点、显微形貌进行了说明.
- 刘雪华
- 关键词：浸镀显微形貌
- 电偶电流法研究置换镀锡工艺被引量：3
- 2008年
- 采用电偶电流法研究了甲基磺酸锡镀液中,锡离子质量浓度、甲基磺酸体积分数、硫脲质量浓度、温度等参数对镀覆效果的影响,得出了优化工艺参数如下:40g/L甲基磺酸锡、150mL/L甲基磺酸,100g/L硫脲,温度70°C。采用优化工艺在铜基体上得到的锡镀层致密、光亮,晶粒尺寸小于20nm。
- 刘雪华唐电
- 关键词：铜
- 纳米金属钌的非水溶液均相还原制备方法
- 本发明提供一种纳米金属钌的非水溶液均相还原制备方法，将钌离子溶解于含用于吸收钌离子的配位化合物的惰性溶剂中制成反应溶液I，将一价铜离子溶解于含有用于吸收一价铜离子的配位化合物的惰性溶剂中制成反应溶液II，将反应溶液I和反...
- 唐电陈永毅王欣邵艳群张腾刘雪华颜琦浦达昌
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