卢恒炜
- 作品数：13 被引量：14H指数：2
- 供职机构：山东理工大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金甘肃省自然科学基金更多>>
- 相关领域：电子电信自动化与计算机技术文化科学更多>>
- 双包层单模光纤结构参数对传输特性的影响被引量：2
- 2004年
- 推导了双包层单模光纤的特征方程,对特征方程直接求导解得了基模群时延和群速色散,讨论了结构参数对传播常数、群时延以及群速色散的影响.研究结果表明:纤芯半径(a)和纤芯半径与内包层外半径之比(Q)对光纤的传输特性参数传播常数、群速度以及群速色散均有不同程度的影响,影响的大小及规律与a和Q的值有关.
- 侯尚林卢恒炜漆晓琼胡春莲
- 关键词：双包层群速色散传输特性群时延内包层群速度
- 数字阵列光电位置敏感器件新型结构的研究
- 2006年
- 简要阐述光电位置敏感器件的特点、工作原理,根据光电位置敏感器件的原理和光电位置方程,分析了背景光与测量精度的关系.在此基础上,采用分布图像的峰值检波器来模拟预处理光电信号,通过数字转换得到图像的重心位置;采用集中平行的模拟计算估算射到感光区的光分布的重心,并通过时钟比较器得到数字化图像.给出了检测位置的二维光传感器阵列、显示与图像数量的平方根成正比功耗关系式以及几个重要结论.
- 李田泽王生德申晋卢恒炜王雅静
- 关键词：光电位置敏感器件峰值检波器
- 基于NSCT和块匹配滤波的光子计数图像去噪算法
- 基于NSCT和块匹配滤波的光子计数图像去噪算法，属于图像去噪技术领域。其特征在于：包括如下步骤：步骤1：选取不同的层数和方向数，对光子计数源图像进行非下采样Contourlet变换，获得高低频系数子带。步骤2：通过单尺度...
- 尹丽菊王炫马立修高明亮邹国锋周辉卢恒炜潘金凤于毅王季峥李英陈尧
- 文献传递
- 陶瓷球磨机研磨过程在线实时检测装置
- 本发明提供一种陶瓷球磨机研磨过程在线实时检测装置，其特征在于：包括接收光纤、发射光纤、球磨机盖、螺母、空心螺杆、垫圈、信号处理模块、保护罩、球磨机筒；其中，球磨机盖安装在球磨机筒的开口上，接收光纤、发射光纤并行靠近排列，...
- 马立修李田泽谭博学盛翠霞申晋刘伟孙贤明卢恒炜
- 文献传递
- 面向卓越计划的软件人才培养模式改革与实践
- 2015年
- 针对"卓越工程师教育培养计划"的培养标准,围绕强化学生科技创新与创业能力的培养,提出教学体系、实验资源优化、实践教学、校企合作等方面的一系列改革措施。
- 卢恒炜
- 关键词：卓越工程师教育培养计划教学改革实践教学校企合作
- 光电位置敏感器件的非线性分析及应用被引量：8
- 2006年
- 阐述光电位置敏感器件(PSD)的结构、特性和工作原理,并根据PSD的原理和特性分析其产生非线性的几种主要因素。导出PSD的输出信号与光强无关的位置方程。设计出一种低温漂高精度的PSD非线性硬件调制电路。分析了插值算法、神经网络优化法以及解析法等对PSD的非线性进行修正的有效性,并对给出的部分实验数据进行了分析。最后对PSD在光学三角法测量、自动检测以及高精度测量中的应用作了进一步的讨论与展望。
- 李田泽王生德卢恒炜王雅静
- 关键词：光电位置敏感器件非线性修正
- 陶瓷球磨机研磨过程在线实时检测装置
- 本实用新型提供一种陶瓷球磨机研磨过程在线实时检测装置，其特征在于：包括接收光纤、发射光纤、球磨机盖、螺母、空心螺杆、垫圈、信号处理模块、保护罩、球磨机筒；其中，球磨机盖安装在球磨机筒的开口上，接收光纤、发射光纤并行靠近排...
- 马立修李田泽谭博学盛翠霞申晋刘伟孙贤明卢恒炜
- 文献传递
- 具有角度稳定性的频率选择表面被引量：1
- 2016年
- 利用十字图案与自身旋转45°叠加得到的图形为基本周期单元,设计了一种新型周期图案的频率选择表面(FSS)。利用模式匹配法对常用十字周期图案FSS和这种新型周期图案FSS进行了理论上的对比分析,同时进行了实验测试,测试与理论仿真基本一致,结果表明:两者都具有对不同偏振方式正入射波的稳定性,但是优化的新型周期图案FSS的大角度入射偏振稳定性及中心频率的角度稳定性都优于常用十字周期图案FSS,对于不同的投射角度,中心频率处的传输损耗接近为零。
- 贾宏燕刘洋魏芹芹徐芝美卢恒炜
- 关键词：频率选择表面谐振频率
- 一种陆空两用仿生多足机器人
- 本实用新型公开了一种陆空两用仿生多足机器人，包括四旋翼飞行动力机构、电源以及主控和姿态检测机构、六足动力机构，所述四旋翼飞行动力机构包括核心连接板、机臂、无刷电机、正反螺旋桨，所述核心连接板和机臂通过固定孔连接，所述机臂...
- 尹丽菊杨霖马立修宋昊卢恒炜徐明博马继康韩光宇王澎
- 文献传递
- 以ZnO为缓冲层制备硅基氮化镓薄膜被引量：3
- 2010年
- 用脉冲激光沉积法(PLD)先在600℃的Si(111)衬底上沉积ZnO薄膜,然后用磁控溅射法再沉积GaN薄膜。直接沉积得到的GaN薄膜是非晶结构,将样品在氨气氛围中在850、900、950℃下退火15min得到结晶的GaN薄膜。用X射线衍射(XRD)、傅立叶红外吸收谱(FTIR)、光致发光谱(PL)和扫描电子显微镜(SEM)研究了ZnO缓冲层对GaN薄膜的结晶和形貌的影响。
- 何建廷宿元斌杨淑连卢恒炜
- 关键词：GAN薄膜退火
