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危亮华

作品数:6 被引量:22H指数:3
供职机构:南昌大学理学院稀土与微纳米功能材料研究中心更多>>
发文基金:江西省自然科学基金国家自然科学基金江西省教育厅资助项目更多>>
相关领域:理学化学工程机械工程更多>>

文献类型

  • 5篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 4篇理学
  • 2篇化学工程
  • 1篇机械工程

主题

  • 3篇氧化铈
  • 3篇化学机械抛光
  • 3篇机械抛光
  • 2篇抛光
  • 2篇氯化钠
  • 1篇直接沉淀法
  • 1篇配合物
  • 1篇球形
  • 1篇去除速率
  • 1篇铈配合物
  • 1篇无机
  • 1篇无机电解质
  • 1篇稀土
  • 1篇粒度
  • 1篇六偏磷酸钠
  • 1篇磨料
  • 1篇晶片
  • 1篇机械化学
  • 1篇机械化学法
  • 1篇固溶

机构

  • 6篇南昌大学
  • 2篇南昌航空大学

作者

  • 6篇危亮华
  • 5篇李永绣
  • 5篇傅毛生
  • 2篇李艳花
  • 2篇周雪珍
  • 2篇周新木
  • 1篇胡建东
  • 1篇焦晓燕
  • 1篇邓苏君
  • 1篇陈伟凡
  • 1篇刘艳珠

传媒

  • 1篇稀土
  • 1篇摩擦学学报(...
  • 1篇稀有金属
  • 1篇中国稀土学报
  • 1篇过程工程学报

年份

  • 1篇2010
  • 3篇2009
  • 2篇2008
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
直接沉淀法制备纳米氧化铈及其抛光硅晶片的性能与影响因素被引量:12
2010年
以硝酸铈为原料,十二烷基苯磺酸钠为分散剂,过氧化氢为氧化剂,氨水为沉淀剂,采用直接沉淀法制备了粒径分布均匀的纳米氧化铈粉体,并通过XRD,TEM等手段对粉体进行了表征。采用所制备的氧化铈粉体配置成抛光浆料对硅片进行抛光,研究了浆料pH值、固含量及过氧化氢浓度对n型半导体硅晶片(111)晶面抛光性能的影响。确定了最佳的抛光条件为:pH值10.5,含固量为0.5%,过氧化氢体积分数为1.5%,此时的抛光速率为61.1 nm.min-1,所抛光的硅晶片的表面粗糙度为0.148 nm。
李艳花傅毛生危亮华周雪珍周新木李永绣
关键词:化学机械抛光硅晶片稀土
Ce_(0.8)Zr_(0.2)O_2固溶体磨料对ZF7光学玻璃抛光性能的改善被引量:9
2009年
采用改进的湿固相机械化学反应法制备出超细锆掺杂氧化铈磨料Ce1-xZrxO2(x=0,0.2),运用X射线衍射(XRD)、透射电镜(TEM)等手段表征其物相类型、外观形貌、比表面积、粒度、表面电位等物理性质,通过测定抛光速率和观察表面的微观形貌考察它们对ZF7光学玻璃的抛光性能影响.结果表明,Ce0.8Zr0.2O2固溶体磨料对ZF7光学玻璃抛光性能比纯CeO2磨料有明显的提高,抛光速率达到463 nm/min,5.0μm×5.0μm的范围内微观表面粗糙度Ra值达到1.054 nm,而纯CeO2磨料的抛光速率只有292 nm/min,Ra值却增大到1.441 nm.Ce0.8Zr0.2O2固溶体的抛光速率的明显增大和表面粗糙度Ra的下降主要与其负表面电位的增大和颗粒尺寸、粒度的减小密切相关.
傅毛生李永绣陈伟凡危亮华胡建东
关键词:化学机械抛光
氯化钠在直接热分解醋酸铈制备球形超细氧化铈粉末过程中的作用被引量:2
2009年
采用醋酸与碳酸铈反应获得醋酸铈前驱体,通过直接热分解制备氧化铈粉末,运用XRD、SEM、粒度测试仪和表面电位微电泳仪等表征手段,探讨氯化钠加入到醋酸铈前驱体中对氧化铈粉末形貌和粒度大小的影响。研究结果表明,氯化钠能促进氧化铈的晶化,而且煅烧温度对氧化铈的形貌和粒度大小有重要影响。当煅烧温度从600℃升高到1000℃,所得氧化铈粉末的中位粒径(D50)先增加后下降然后又增加,其中在800℃发生转折,其CeO2粉末的D50为1.57μm,粒子形貌为球状而且大小均匀,晶粒间只存在轻度团聚;当煅烧温度高于800℃,熔融氯化钠加速晶粒长大,粉末粒度增加较明显;而无氯化钠参与的醋酸铈前驱体在800℃热分解得到的CeO2粉末形貌各异而且大小不均匀,存在明显的局部烧结长大和粒子团聚现象,其D50为1.75μm。运用盐助机理模型对氯化钠在直接热分解醋酸铈前驱体制备氧化铈过程中的作用进行探讨。
傅毛生李永绣危亮华
关键词:氯化钠粒度氧化铈XRD
氧化铈浆料中无机电解质的加入对ZF7玻璃抛光材料去除速率的显著促进作用
抛光粒子的微结构控制合成及抛光浆料的调配是化学机械抛光/(CMP/)领域的研究热点,其技术突破直接促进到超大规模集成电路和许多高精度光学器械的发展。本论文采用不同类型的无机电解质来调配氧化铈抛光浆料,评价其对ZF7玻璃抛...
危亮华
关键词:化学机械抛光无机电解质
文献传递
氯化钠和六偏磷酸钠对氧化铈抛光ZF7玻璃的协同增强作用被引量:5
2008年
研究了添加NaCl或(NaPO3)6的氧化铈浆料对ZF7光学玻璃抛光的材料去除速率(MRR)及对应的粒子表面Zeta电位和悬浮稳定性的影响.结果表明,加入NaCl使CeO2浆料的抛光速率下降,而(NaPO3)6则可有效提高MRR;同时添加NaCl和(NaPO3)6对MRR值有明显的协同增强作用.用原子力显微镜测定了最大MRR值(351.26nm/min)时抛光玻璃的表面粗糙度Ra为0.799nm,完全可以满足高质量玻璃抛光的要求,比未加添加剂的MRR(199.36nm/min)和Ra(0.754nm)分别提高了76.2%和5.97%.MRR与粒子表面Zeta电位呈线性关系,证明可通过合理构筑粒子表面双电层来提高表面电性,进而提高抛光效果.
危亮华傅毛生李艳花周雪珍周新木焦晓燕李永绣
关键词:氧化铈氯化钠六偏磷酸钠抛光
阿魏酸铈配合物的机械化学法合成与表征
2009年
以水合硝酸铈和阿魏酸为原料,采用机械化学法合成了阿魏酸铈配合物。研究了反应加料比和质子接受剂以及分散剂对铈转化率的影响,并对合成产物进行了表征。结果表明:由于阿魏酸的酸性弱,铈离子与阿魏酸的阳离子交换反应难以发生,因此,六次甲基四胺的加入对于促进阿魏酸铈配合物的形成起主要作用。随六次甲基四胺加入量的增加,铈的转化率增大;但要使铈转化完全,阿魏酸与铈的摩尔比应达到6:1,六次甲基四胺与阿魏酸的摩尔比应达到1.5:1。聚乙二醇(2000)添加量的增加也能提高铈转化率,其合理的添加量为1%~2%(质量分数)。在此条件下只需球磨30min,就可以使铈转化率超过99.5%。元素分析结果证明,合成配合物的组成为(C10H9O4)3Ce·3H2O,红外和核磁共振谱的结果表明是阿魏酸中的羧基与铈直接配位的。
邓苏君刘艳珠傅毛生危亮华李永绣
关键词:
共1页<1>
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