周爱萍
- 作品数：16 被引量：41H指数：3
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- 相关领域：理学天文地球化学工程自动化与计算机技术更多>>
- 利用反常粘滞研究吸积盘的脉动不稳定性
- 2012年
- 从磁流体动力学方程组出发,用微扰法得出含反常粘滞、反常阻抗、环向磁场和垂向磁场的吸积盘的色散方程。在弱磁场情况下,数值计算结果表明盘内区存在1种不稳定的单调模式和3种稳定的单调模式,磁场对单调不稳定性表现为非稳因素。随着磁场的增强,单调模式消失,盘内出现4种轴对称振荡模式,其中两种振荡模式是脉动稳定的,环向磁场对其表现为非稳因素,垂向磁场对其表现为致稳因素;另两种振荡模式在波数比较小时是不稳定的,随着波数的增大,这两种模式也是脉动稳定的,环向磁场和垂向磁场分别对他们表现为致稳因素和非稳因素。
- 周爱萍臧永丽
- 关键词：反常粘滞吸积盘
- 溅射功率对铝铬共掺杂氧化锌透明导电薄膜特性的影响(英文)被引量：2
- 2011年
- 室温下,利用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备了铝铬共掺杂氧化锌薄膜,研究了溅射功率(55-130 W)对薄膜结构、残余应力、表面形貌及其光电性能的影响。结果表明,ZnO(002)衍射峰的强度随着溅射功率的增大而增强,晶体结构得以改善。晶格常数、压应力和电阻率均随着溅射功率的增大而减小。当溅射功率为130 W时,制备的ZnO∶Al,Cr薄膜的最低电阻率可达1.09×10-3Ω.cm。功率由55 W增大到130 W时,光学带隙由3.39 eV增大到3.45 eV。紫外-可见透射光谱表明,所有薄膜在可见光范围内平均透过率均超过89%。
- 周爱萍张化福刘汉法
- 关键词：溅射功率磁控溅射
- Zn_(0.9)Mg_(0.1)O∶Ti透明导电薄膜的制备及研究
- 2012年
- 采用磁控溅射法在不同的溅射压强下制备了ZnMgO∶Ti透明导电薄膜。着重研究了溅射压强对ZnMgO∶Ti薄膜的晶体结构、电学和光学性能的影响。结果表明:当溅射功率为80W时,电阻率随着溅射压强的增加先减小后增加,在12 Pa时达到最小值1.9×10-3Ω.cm。薄膜结晶程度、晶粒的均匀性及致密性对电阻率有较大影响。所有条件下制备的薄膜在400～900 nm范围内的透射率均超过90%。相对于6 Pa下沉积的薄膜,在9 Pa和12 Pa下沉积薄膜的光学吸收边界出现"蓝移"现象。用ZnMgO∶Ti透明导电薄膜作透明电极有可能提高太阳能电池的效率。
- 孙艳王晓晨周爱萍刘汉法张化福
- 关键词：透明导电薄膜磁控溅射溅射压强透光率
- ZnAl_2O_4:Mn纳米晶的红-绿发光被引量：2
- 2012年
- 利用溶胶-凝胶法制备了掺杂1.5%锰离子的ZnAl2O4晶体,通过X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)以及荧光光谱仪对样品的结构和光致发光(PL)性能进行测试分析。结果表明,随着烧结温度的升高,晶体的X射线衍射峰逐渐增强,晶体结构得以改善。当受到427nm的激光源激发时,晶体会发射出峰值为512nm的绿光和680nm的红光。绿光是由Mn2+的4 T1→6 A1跃迁引起的,而红光是源于4价锰离子。在还原气氛下,烧结温度由600℃上升到900℃时,红光发射峰强度降低并继而消失,而绿光发射峰的强度逐渐增强。
- 周爱萍张化福臧永丽
- 关键词：溶胶-凝胶法光致发光
- 直流磁控溅射法制备铝铬共掺杂氧化锌薄膜及其结构和光电性能的研究被引量：1
- 2010年
- 利用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备了铝铬共掺杂氧化锌（ZACO）透明导电薄膜。通过X射线衍射（XRD）和扫描电镜（SEM）等表征方法对薄膜特性进行测试分析,研究了溅射压强和溅射功率对薄膜生长速率以及光电特性的影响。结果表明,随着溅射气压（1.5-4.5 Pa）的增大,薄膜沿c轴方向的结晶质量提高,薄膜表面更加致密,晶粒大小更加均匀。薄膜生长率随压强的增大而减小,但电阻率先减小后增大。当溅射功率由80 W增大到100 W时,薄膜的生长速率增大,电阻率减小。溅射压强为3.5 Pa,溅射功率为100 W时,薄膜的电阻率达到最小值2.574×10-3Ω.cm。紫外-可见透射光谱表明,所有薄膜在可见光区的透过率均超过89.9%。
- 周爱萍刘汉法张化福
- 关键词：溅射压强溅射功率透明导电薄膜
- NZO透明导电薄膜的制备及其性能研究
- 2012年
- 室温下,采用直流磁控溅射法,在玻璃衬底上制备出Nb掺杂ZnO(NZO,ZnO:Nb)透明导电薄膜。研究了靶与衬底之间的距离对NZO薄膜结构、形貌、光学及电学性能的影响。实验结果表明,不同靶基距下制备的NZO薄膜均为c轴择优取向生长,(002)衍射峰的强度随着靶基距的减小而增大。靶基距增大时,薄膜表面逐步趋向平整光滑、均匀致密,薄膜的厚度逐渐减小。在靶基距为60mm时,制备的薄膜厚为355.4nm,电阻率具有最小值(6.04×10-4Ω.cm),在可见光区的平均透过率达到92.5%,其光学带隙为3.39eV。
- 周爱萍刘汉法高金霞张化福
- 关键词：透明导电薄膜磁控溅射
- 基于TN-LCSLM的计算全息实时再现被引量：1
- 2006年
- 分析了计算全息图编码原理,介绍了用MATLAB编程计算全息编码的主要步骤.用Matlab模拟了计算全息图的再现结果.将编码全息图实时输出到高分辨扭曲向列型液晶空间光调制器(TN LCSLM)上,和傅里叶变换透镜、滤波器、CCD等组成计算全息实时再现系统,实现了全息图的实时再现.最后,分析了提高再现像质量的方法.
- 魏功祥袁长坤张化福类成新刘云燕周爱萍王新峰
- 关键词：计算全息傅里叶变换滤波
- 磁化吸积盘的不稳定性研究被引量：1
- 2010年
- 从磁流体动力学方程组出发,用微扰法得到的色散方程中含有环向磁场。利用全新的反常粘滞和反常阻抗,对吸积盘进行数值计算,结果表明,只有竖直方向的弱磁场才可以引发一种单调不稳定性。磁场对粘性吸积盘表现为非稳定性因素,增长率随磁场的增强而增大,且最大增长率大于理想情况下的值。垂向磁场足够强时,单调不稳定性不会出现。
- 周爱萍
- 关键词：吸积盘磁场反常粘滞
- 氩气压强对直流磁控溅射法制备ZnO∶Nb透明导电薄膜性质的影响被引量：3
- 2012年
- 室温下,利用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备了铌掺杂氧化锌(NZO)薄膜,研究了溅射压强(2～12 Pa)对薄膜结构、残余应力、表面形貌及其光电性能的影响。X射线衍射测量结果表明,所有样品都具有c轴择优取向的六角纤锌矿多晶结构,薄膜应力随压强的增大而减小。扫描电镜表明,随着溅射压强的增大,薄膜表面逐步趋向平整光滑、均匀致密。当溅射压强为10 Pa时,制备的ZnO∶Nb薄膜的最低电阻率可达3.52×10-4Ω.cm,残余应力为-0.37 GPa。压强由2 Pa增大到12 Pa时,光学带隙由3.29 eV增大到3.43 eV。紫外-可见透射光谱表明,所有薄膜在可见光范围内平均透过率均超过87%。
- 周爱萍刘汉法袁玉珍
- 关键词：溅射压强透明导电薄膜
- 耗散过程对吸积盘磁不稳定性的影响
- 2009年
- 在新的反常黏滞机制的基础上,利用微扰方法导出色散方程,分析了耗散过程对吸积盘磁不稳定性的影响。结果表明:耗散率随半径的增大而减小;在磁场较小时,耗散过程的影响不可忽略。这不同于在微观黏滞和阻抗基础上得到的结论。
- 周爱萍
- 关键词：阻抗
