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徐洪波

作品数：7 被引量：1H指数：1
供职机构：吉林大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：政治法律电气工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 5篇专利
  • 2篇学位论文

领域

  • 1篇电气工程
  • 1篇政治法律

主题

  • 5篇抗反射
  • 4篇刻蚀
  • 2篇单层膜
  • 2篇氧化硅
  • 2篇有机分子
  • 2篇湿法刻蚀
  • 2篇阻挡层
  • 2篇微结构
  • 2篇微球
  • 2篇离子束
  • 2篇离子束刻蚀
  • 2篇利用率
  • 2篇基底
  • 2篇光能
  • 2篇光能利用
  • 2篇光能利用率
  • 2篇二氧化硅
  • 2篇二氧化硅微球
  • 2篇反应离子
  • 2篇反应离子束刻...

机构

  • 7篇吉林大学

作者

  • 7篇徐洪波
  • 5篇吕男
  • 5篇高立国
  • 3篇齐殿鹏
  • 3篇迟力峰
  • 2篇王文涛
  • 2篇郝娟媛
  • 1篇黄春玉

年份

  • 1篇2011
  • 1篇2010
  • 2篇2009
  • 2篇2008
  • 1篇2007
共 7 条 记 录，以下是 1-7
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排序方式：
在基底表面构筑抗反射结构的方法
本发明涉及利用LB技术或自组装技术在单晶硅基底上形成有机分子单层膜图案，并以此单层膜图案为掩模，进行湿法刻蚀，在单晶硅表面形成具有亚波长锥形结构的表面，从而使单晶硅基底具有抗反射性能的方法。通过本专利所述法得到的材料表面...
吕男郝娟媛徐洪波王文涛高立国
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基于自组装单层纳米粒子构筑抗反射结构
降低材料表面的菲涅耳反射是提高入射光利用率的重要手段,对于提高太阳能电池的光电转化效率和光学传感器的灵敏度具有非常重要的意义。菲涅耳反射是指由于入射光在两种介质中的折射系数不同,导致折射系数在两种介质的界面处不连续,从而...
徐洪波
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在基底表面构筑抗反射结构的方法
本发明涉及利用LB技术或自组装技术在单晶硅基底上形成有机分子单层膜图案，并以此单层膜图案为掩模，进行湿法刻蚀，在单晶硅表面形成具有亚波长锥形结构的表面，从而使单晶硅基底具有抗反射性能的方法。通过本专利所述法得到的材料表面...
吕男郝娟媛徐洪波王文涛高立国
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董事对第三人民事责任研究
在公司法理论上，董事的责任有对公司的责任与对第三人的责任之分。在现代公司治理中，董事日渐拥有广泛的实权，成为公司权力的核心。为防止董事滥用权力，保护公司股东与债权人的合法权益不至于因为董事的不法行为遭受损失，根据权利与义...
徐洪波
关键词：董事民事责任法定责任
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以单层纳米粒子为刻蚀阻挡层构筑抗反射微结构的方法
本发明属于表面图案化微结构构筑技术，涉及利用自组装技术与反应离子束刻蚀技术相结合，在基底上构筑具有抗反射性能的微结构的方法。其是以单层聚合物微球、二氧化硅微球、金属或金属氧化物的纳米粒子为阻挡层，对基底进行RIE刻蚀，这...
吕男徐洪波齐殿鹏高立国迟力峰
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一种制备超疏水抗反射微米和纳米复合结构表面的方法
本发明属于复合结构表面的制备技术领域，具体涉及一种微米和纳米复合结构的超疏水抗反射硅表面的制备方法。包括硅片的清洁处理，在硅片的表面制作微米级硅岛及网格结构，以银或金纳米粒子为阻挡进行催化刻蚀，得到微米和纳米复合结构表面...
吕男齐殿鹏徐洪波黄春玉高立国迟力峰
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以单层纳米粒子为刻蚀阻挡层构筑抗反射微结构的方法
本发明属于表面图案化微结构构筑技术，涉及利用自组装技术与反应离子束刻蚀技术相结合，在基底上构筑具有抗反射性能的微结构的方法。其是以单层聚合物微球、二氧化硅微球、金属或金属氧化物的纳米粒子为阻挡层，对基底进行RIE刻蚀，这...
吕男徐洪波齐殿鹏高立国迟力峰
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