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纳米压印技术中模板表面的气相法抗粘连修饰被引量：6: 2007年; 研究了采用全氟四氢辛基硅烷(F13-TCS)对纳米压印技术中所用SiO2模板进行表面修饰的情况,分析了用气相法在SiO2模板表面形成F13-TCS单分子膜的形成过程及化学机理,并用X射线光电子能谱仪(XPS)和视频光学接触角测试仪对模板修饰表面的元素成分、价态和表面能进行了测试表征,用原子力显微镜(AFM)对压印过程中的模板结构及模板复制结构进行了对比分析.结果表明,通过F13-TCS对SiO2模板的表面修饰,可以大大降低模板与压印聚合物层之间的相互作用力,在纳米压印过程中实现结构较好的转移、复制.; 李海华李小丽王庆康; 关键词：纳米压印气相法表面修饰

纳米压印技术制作光子晶体结构及其应用研究: 作为最有影响力的纳米结构加工技术之一,纳米压印技术因具有高分辨率、低成本、可大规模生产等优势,在国际半导体技术蓝图/(ITRS/)中被列为下一代32nm、22nm和16nm节点光刻技术的重要代表。自1995年华裔科学家周...; 李小丽; 关键词：纳米压印光子晶体 LED; 文献传递

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李小丽