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王正昌

作品数：5 被引量：1H指数：1
供职机构：云南民族学院物理与电子电气信息工程学院物理系更多>>
相关领域：理学一般工业技术电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇理学
  • 1篇电子电信
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 2篇溅射
  • 2篇SI
  • 2篇A-SI
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇导体
  • 1篇多层膜
  • 1篇旋光
  • 1篇旋光度
  • 1篇能谱
  • 1篇偏振
  • 1篇偏振器
  • 1篇光电
  • 1篇光度
  • 1篇光偏振
  • 1篇光谱
  • 1篇非晶
  • 1篇非晶半导体
  • 1篇半导体
  • 1篇半导体薄膜

机构

  • 5篇云南民族学院
  • 3篇云南大学

作者

  • 5篇王正昌
  • 3篇张硕
  • 3篇吴兴惠
  • 3篇李燕卿
  • 1篇李燕卿

传媒

  • 2篇云南民族大学...
  • 1篇物理实验
  • 1篇电子显微学报

年份

  • 1篇1998
  • 2篇1997
  • 1篇1996
  • 1篇1994
共 5 条 记 录，以下是 1-5
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排序方式：
α-Si/Ni多层膜的制备及光电特性研究
1998年
简述用超高真空多靶磁控设备制取α－Ｓｉ／Ｎｉ多层膜，用ＸＰＳ和Ｒａｍａｎ谱对新研制的多层膜进行组份分析，结果表明α－Ｓｉ／Ｎｉ多层膜具有周期性成份调制结构．对其光偏振特性及横向光电特性进行了部分测试，结果表明入射线偏振光经α－Ｓｉ／Ｎｉ多层膜反射后出现旋光现象，按设计的电极进行测试，α－Ｓｉ／Ｎｉ多层膜具有横向光电效应．
王正昌李燕卿李燕卿李燕卿张硕
关键词：RAMAN光谱
磁控溅射a-Si/Ni多层膜的研究
利用超高真空多靶磁控溅射设备制备 a-Si/Ni 多层膜,经 XPS 和 Raman 谱的分析研究表明：在所取工艺参数条件下制备的 a-Si/Ni 多层膜为周期性的成份调制结构。以特殊的表面电极结构。讨论了 a-Si/N...
张硕虎志明吴兴惠李燕卿王正昌
文献传递
模拟电场法用于薄膜性质的研究
1996年
模拟电场法用于薄膜性质的研究王正昌（云南民族学院物理系昆明６５００３１）一、引言随着薄膜研制工作的发展，薄膜的类型越来越繁多，应用极为广泛．为搞清薄膜的各种特性．相应的各种测试手段及探测方法应运而生．物理学中的模拟电场法应当充实发展使之能用于物质性质...
王正昌
磁控溅射a-Si/Ni多层膜的研究
1997年
利用超高真空多靶磁控溅射设备制备ａＳｉ／Ｎｉ多层膜，经ＸＰＳ和Ｒａｍａｎ谱的分析研究表明：在所取工艺参数条件下制备的ａＳｉ／Ｎｉ多层膜为周期性的成份调制结构。以特殊的表面电极结构。
张硕虎志明吴兴惠李燕卿王正昌
关键词：非晶半导体磁控溅射半导体薄膜
Si、Ge、Ni薄膜的光偏振特性研究被引量：1
1994年
自十八世纪中期，通过化学沉积和辉光放电沉积，人们制得固体薄膜以来，对薄膜的研制和特性探测已成为相辅相成的两个方面。本文仅就用溅射法制备的三种薄膜进行了光偏振特性的实验观测和理论探索。
王正昌
关键词：偏振器旋光度
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