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胡佳宝

作品数：3 被引量：5H指数：1
供职机构：合肥工业大学电子科学与应用物理学院更多>>
发文基金：安徽省自然科学基金安徽省高校省级自然科学研究项目更多>>
相关领域：电子电信兵器科学与技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇兵器科学与技...

主题

  • 2篇多晶
  • 2篇多晶硅
  • 2篇多晶硅薄膜
  • 2篇硅薄膜
  • 2篇表面形貌
  • 1篇性能研究
  • 1篇射线衍射
  • 1篇减反膜
  • 1篇溅射
  • 1篇半导体
  • 1篇SIO
  • 1篇TIO
  • 1篇X射线衍射
  • 1篇LPCVD
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 3篇合肥工业大学

作者

  • 3篇胡佳宝
  • 2篇何晓雄
  • 1篇杨旭
  • 1篇王曦雯

传媒

  • 2篇合肥工业大学...

年份

  • 3篇2012
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
LPCVD制备多晶Si薄膜的工艺和性能分析被引量：1
2012年
文章利用低压化学气相沉积法(LPCVD),在单晶Si衬底上制备多晶Si薄膜。利用原子力显微镜观察薄膜厚度和镀膜温度对多晶Si薄膜表面形貌的影响,并利用XRD研究退火温度对多晶Si薄膜结晶性能的影响。结果表明:镀膜温度越高、薄膜越厚,薄膜的晶粒尺寸越大;退火温度越高,薄膜的结晶越好。
胡佳宝何晓雄杨旭
关键词：多晶硅薄膜表面形貌X射线衍射
SiO_2/TiO_2减反膜系的制备和性能测试被引量：4
2012年
由于减反射薄膜的性能受制备工艺的影响很大,文章采用SiO2和TiO2作为低、高折射率膜料,采用磁控溅射法在玻璃基片上制备了多层减反射膜系,研究了制备工艺对薄膜性能的影响,从理论和实验2个方面得出了制备的多层减反射膜系在450～625nm波段具有明显的增透效果,在520nm处有98%的透过率。
王曦雯何晓雄胡佳宝
关键词：磁控溅射
半导体火工桥用多晶硅薄膜的制备及性能研究
火工品是一种小型敏感元件，它能用很小的能量发火，从而引发爆炸或燃烧。火工品历史悠久，种类繁多。近年来，火工品开始采用新技术、新材料和新工艺，出现了MEMs火工品、激光点火起爆火工品以及半导体火工桥等新型火工品，以满足低发...
胡佳宝
关键词：多晶硅薄膜表面形貌
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