褚向前
- 作品数：22 被引量：76H指数：5
- 供职机构：合肥工业大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金安徽省自然科学基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术自动化与计算机技术理学金属学及工艺更多>>
- 掺硼金刚石膜的制备及其应用被引量：4
- 2011年
- 金刚石虽然具有极为优异的性能,如具有很大的能隙,高的电子迁移率、空穴迁移率和高热导率,以及负的电子亲和势,但要将它用于半导体材料时还不能直接使用,必须要先进行金刚石的P型和n型掺杂。因此,研究金刚石的P型和n型掺杂具有很重要的现实意义。在金刚石薄膜中掺杂时,一般是掺入硼原子以实现P型掺杂,掺入氮原子或磷原子以实现n型掺杂。然而,由于N和P在金刚石中的施主能级太深,现在n型掺杂金刚石薄膜制备尚不成功,这是金刚石实用化的障碍。本文介绍了金刚石膜掺硼目的、方法和制备,总结了掺硼金刚石膜在微电子、电化学、光电子、工具等领域应用状况以及存在问题。
- 褚向前朱武左敦稳
- HFCVD金刚石膜衬底温度的计算机控制
- 2007年
- 针对CVD金刚石膜生长手动控制的种种不便,在生长系统中引入了计算机控制,实现了用计算机控制生长金刚石膜的衬底温度。详细介绍了计算机控制系统的设计和实现方法。实际运行结果表明,该系统稳定性好、可靠性高,实现了金刚石膜稳定生长。
- 褚向前朱武陈长琦左敦稳朱胤
- 关键词：HFCVD金刚石膜衬底温度计算机控制
- EACVD掺硼金刚石膜制备及加工性研究
- 金刚石具有一系列独特的力学、热学、声学、电学、光学和化学性能,在高科技领域具有广阔的应用前景.未掺杂CVD金刚石膜是高度绝缘的,不能采用如电火花等加工导电聚晶金刚石(PCD)的方法和设备对其进行加工.为改善EACVD金刚...
- 褚向前
- 关键词：CVD金刚石膜掺硼电火花加工
- 文献传递
- 螺栓联接结构接触应力及结合面刚度影响因素研究被引量：8
- 2015年
- 在考虑板与板以及螺栓与板间非线性接触、摩擦和螺栓预紧力等影响因素基础上,构建螺栓联接结构的三维有限元分析模型。基于被联接件压应力呈圆锥体分布假设,推导出接触应力分布三次数学表达式,计算结果与有限元数值模拟结果相比最大偏差为9.2%;基于有限元计算,分析不同被联接件厚度、不同螺孔间隙以及不同螺母直径对结合面刚度影响规律,获得结合面刚度计算经验公式,与有限元分析结果相比,公式计算最大偏差为5.24%。
- 杨辉韩江褚向前
- 关键词：螺栓联接螺栓预紧力接触应力
- 大面积B掺杂CVD金刚石膜的制备研究被引量：22
- 2004年
- 研究了采用B2O3作为掺杂源以EACVD法沉积大面积掺杂VCD金刚石膜,用SEM、Raman、二次离子质谱仪、四探针电阻仪等对B掺杂金刚石膜进行了分析。结果表明直径达100mm的大面积B掺杂金刚石膜的晶粒分布均匀,非金刚石碳含量较少,生长速率达到10μm／h以上;B掺杂改变了金刚石膜的成分和结构,高浓度掺杂可以细化晶粒,在高浓度掺杂的膜中存在一定的非晶态碳;金刚石膜中B的含量在一定范围内随着掺杂源浓度的增加而正比增加;金刚石膜的电阻率随着掺杂源B2O3的浓度的增加而下降,当掺杂达到一定浓度时,金刚石膜的电阻率逐渐趋向稳定。
- 卢文壮左敦稳王珉黎向锋徐锋褚向前
- 关键词：硼掺杂金刚石膜化学气相沉积法电阻率
- 复合肥反应釜温度控制系统的探究
- 2011年
- 针对复合肥转化和复肥工段反应釜温度PID控制不精确,在生产过程中引入了模糊-PID控制策略,实现了反应釜温度的精确控制。实际运行结果表明,此复合控制方式控制精度在±2.0℃,控制精度更高,控制效果更好。
- 褚向前
- 关键词：模糊-PID复合肥温度控制反应釜
- 真空镀膜法制备纳米铝颗粒膜及其表面等离激元共振特性研究被引量：1
- 2022年
- 采用直流磁控溅射镀膜技术制备了纳米铝颗粒膜,并尝试通过两种方式获得纳米铝的表面等离激元共振吸收峰,一种是先在室温石英基底上沉积纳米铝,再进行真空退火;另一种是在热石英基底上沉积纳米铝。用透射电镜和扫描电子显微镜、X-射线光电子谱、紫外-可见吸收光谱表征了样品的形貌和晶态结构、成份和吸收特性。采用比对的方式,研究了基底温度、沉积时间对两种方法制备的纳米铝表面等离激元共振的影响。结果表明,先沉积纳米铝,再进行真空退火,不能获得表面等离激元共振吸收峰,而在热基底上沉积纳米铝,可以获得明显的表面等离激元共振吸收峰。通过调控沉积时间和沉积温度实现了纳米铝表面等离激元共振峰从紫外光区到可见光区的可控移动。而且,研究发现对于平均厚度大于3 nm的纳米铝薄膜,由于纳米铝氧化具有自限性,其表面等离激元共振特性在空气中稳定且主要取决于纳米铝颗粒的团聚度。本研究对理解纳米铝表面等离激元共振特性及其应用具有指导意义。
- 赵世奇郝宏亮巩燕龙吴俊褚向前刘月豹方应翠
- 关键词：真空镀膜
- 介质/金属/介质透明导电薄膜研究进展被引量：1
- 2017年
- 介质/金属/介质(dielectric/metal/dielectric,D/M/D)多层膜既透明又导电且具有柔性,最有可能替代ITO膜,作为透明导电电极,应用于柔性显示、太阳能电池等光电器件。本文介绍D/M/D膜系的起源,分析了透明导电机理,然后,从多层膜制备参数,热处理工艺及纳米银层表面等离激元共振对多层膜光电性能的影响三个方面综述了D/M/D膜系中得到广泛研究的二氧化钛/银/二氧化钛多层膜的最新研究进展,并展望了D/M/D透明导电薄膜的研究方向。
- 张康褚向前刘丽华万磊何金俊李欢欢方应翠
- 关键词：透明导电薄膜光电性能
- 温室温度多传感器数据融合被引量：8
- 2008年
- 针对目前温室面积不断增大、温室内传感器种类和数量不断增多等情况,以及为解决温室温度检测的测量误差大等问题,提出了温度检测疏失误差剔除方法和多传感器数据融合方法。实验结果表明,通过有限次温度测量和数据融合得到的测量结果比算术平均值结果更接近真实值,大大提高了测量的可靠性。
- 褚向前朱武
- 关键词：园艺学温室温度多传感器数据融合
- 真空烧结炉温度模糊控制系统仿真被引量：1
- 2011年
- 针对粉末冶金真空烧结炉时变性、大滞后、非线性的特点,采用PID控制效果不理想,选用了模糊控制算法。建立了PID控制和模糊控制仿真模型,进行了对比,结果表明,采用模糊控制后,系统响应速度很快,达到稳态时间仅为3.2 s,不存在超调量,稳态误差为1.2℃,稳态精度很高;系统仿真输出与给定输入波形较接近,系统调节时间短,很快进入稳定状态,且振荡很微小。模糊控制优于传统PID控制,能够满足粉末冶金真空烧结炉温度的控制要求。
- 褚向前朱武黄胜峰
- 关键词：真空烧结炉模糊控制系统仿真
