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贾小欣

作品数：1 被引量：0H指数：0
供职机构：河北工业大学信息工程学院微电子技术与材料研究所更多>>
相关领域：一般工业技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇国内会议论文

领域

  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇数对
  • 1篇去除率
  • 1篇铌酸锂
  • 1篇化学机械抛光
  • 1篇机械抛光
  • 1篇工艺参
  • 1篇CMP

机构

  • 1篇河北工业大学

作者

  • 1篇武晓玲
  • 1篇王胜利
  • 1篇刘玉岭
  • 1篇贾小欣

年份

  • 1篇2006
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
铌酸锂晶片CMP中工艺参数对去除率的影响
采用二氧化硅胶体碱性抛光液对铌酸锂晶片进行化学机械抛光研究,讨论了抛光压力、转速、流速等工艺参数对材料去除率的影响。结果表明,铌酸锂晶片化学机械抛光去除率与抛光工艺参数有着密切的关系。不降低表面质量,在抛光压力为140k...
王胜利武晓玲刘玉岭贾小欣
关键词：铌酸锂化学机械抛光去除率
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