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邱健

作品数:2 被引量:1H指数:1
供职机构:兰州大学化学化工学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:化学工程理学金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 1篇化学工程
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇理学

主题

  • 2篇化学镀
  • 2篇伏安法
  • 1篇电沉积
  • 1篇电沉积法
  • 1篇电极
  • 1篇电极表面
  • 1篇铜离子
  • 1篇铜粒子
  • 1篇镍磷
  • 1篇镍磷合金
  • 1篇离子
  • 1篇磷合金
  • 1篇金电极
  • 1篇金电极表面
  • 1篇金刚石
  • 1篇化学镀工艺
  • 1篇还原剂
  • 1篇合金
  • 1篇分析化学
  • 1篇刚石

机构

  • 2篇兰州大学

作者

  • 2篇邱健
  • 1篇王春明
  • 1篇何丽君
  • 1篇景粉宁

传媒

  • 1篇分析化学

年份

  • 2篇2005
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
化学镀薄膜的制备及其在分析化学中的应用研究
本硕士学位论文主要利用化学镀(Electrolessdeposition)技术的高选择性特点,以多晶金盘电极为施镀基体,研究了在其表面沉积单层铜膜的化学镀浴组成及浸镀技术。用化学镀的方法在纳米金刚石粉末表面镀覆镍磷合金,...
邱健
关键词:铜离子化学镀伏安法金刚石镍磷合金
文献传递
铜在金电极表面的选择性化学镀富集的研究被引量:1
2005年
在具有催化还原活性的金电极表面,以水合肼为还原剂,在pH10.5酒石酸钾钠溶液中,通过化学镀方法,选择性地在金电极表面沉积了单层结构的铜膜。用开路电位时间谱技术(Op~t)、循环伏安法(CV)和微分脉冲伏安法(DPV)表征了该溶液还原法对铜进行选择性富集的机理和效果。证明在多种金属离子共存的复杂溶液体系中,可以避免其它离子的干扰,使铜选择性地富集到金电极表面。化学镀浴中富集到金电极表面的单层铜膜溶出电流与Cu2+的浓度在3×10-6~1×10-4mol/L范围内呈线性关系。该法已用于矿样中铜的还原富集、分离和测定,分析结果与电感耦合等离子体发射光谱法(ICP/AES)作了比较,结果满意。
邱健景粉宁何丽君王春明
关键词:铜粒子化学镀工艺伏安法还原剂电沉积法
共1页<1>
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