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郭富东

作品数：18 被引量：3H指数：1
供职机构：中国恩菲工程技术有限公司更多>>
相关领域：化学工程冶金工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 15篇专利
  • 2篇期刊文章
  • 1篇科技成果

领域

  • 7篇化学工程
  • 1篇冶金工程

主题

  • 15篇四氯化硅
  • 15篇氯化
  • 15篇氯化硅
  • 10篇多晶
  • 10篇多晶硅
  • 10篇氧化硅
  • 10篇二氧化硅
  • 9篇氯化氢
  • 9篇纳米
  • 9篇纳米级
  • 9篇纳米级二氧化...
  • 7篇脱酸
  • 6篇微米
  • 6篇微米级
  • 6篇反应器
  • 3篇电加热管
  • 3篇氢气
  • 3篇加热管
  • 3篇硅产品
  • 3篇分布器

机构

  • 18篇中国恩菲工程...

作者

  • 18篇郭富东
  • 18篇杜俊平
  • 16篇严大洲
  • 15篇汤传斌
  • 15篇肖荣晖
  • 15篇谢冬晖
  • 15篇谢正和
  • 15篇汪绍芬
  • 15篇毋克力
  • 1篇赵雄
  • 1篇张升学
  • 1篇石何武
  • 1篇万烨
  • 1篇姚心
  • 1篇孙强
  • 1篇郭树虎
  • 1篇辛超
  • 1篇高晓辉

传媒

  • 2篇化工管理

年份

  • 1篇2017
  • 2篇2015
  • 2篇2013
  • 3篇2012
  • 10篇2011
共 18 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
用于多晶硅副产物四氯化硅处理的收集冷却器
本发明提出一种用于多晶硅副产物四氯化硅处理的收集冷却器，包括：内壳，所述内壳限定有内腔，所述内壳的上部设有冷却器进料口且所述内壳的下部设有冷却器出料口；外壳，所述外壳套设在所述内壳外面且与所述内壳限定出冷却介质空间，所述...
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文献传递
多晶硅副产物四氯化硅处理方法
本发明提出一种多晶硅副产物四氯化硅处理方法，包括：向反应器中供给四氯化硅、氢气和含氧气体发生高温燃烧水解反应，以生成包含氯化氢气体和纳米级二氧化硅的第一气固混合物；然后引入收集冷却器内冷却；接着引入聚集器中，以使纳米级二...
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文献传递
用于多晶硅副产物四氯化硅处理的聚集器
本发明提出一种用于多晶硅副产物四氯化硅处理的聚集器，包括：多个聚集管，所述多个聚集管依次相连以限定出以曲线形式延伸的聚集腔，其中所述多个聚集管中的第一个聚集管的自由端用作聚集器入口且最后一个聚集管的自由端用作聚集器出口。...
严大洲毋克力肖荣晖汤传斌谢正和杜俊平谢冬晖汪绍芬郭富东
多晶硅副产物四氯化硅处理设备
本实用新型公开一种多晶硅副产物四氯化硅处理设备，包括反应器，收集冷却器，聚集器，分离器，和脱酸器，收集冷却器位于反应器下方以便冷却器进料口与反应器出口相连；聚集器入口与冷却器出料口相连；分离器具有分离器入口、气体出口和固...
严大洲毋克力肖荣晖汤传斌谢正和杜俊平谢冬晖汪绍芬郭富东
文献传递
多晶硅副产物四氯化硅处理设备
本发明公开一种多晶硅副产物四氯化硅处理设备，包括反应器，收集冷却器，聚集器，分离器，和脱酸器，收集冷却器位于反应器下方以便冷却器进料口与反应器出口相连；聚集器入口与冷却器出料口相连；分离器具有分离器入口、气体出口和固体出...
严大洲毋克力肖荣晖汤传斌谢正和杜俊平谢冬晖汪绍芬郭富东
文献传递
用于多晶硅副产物四氯化硅处理的反应器
本发明提出一种用于多晶硅副产物四氯化硅处理的反应器，包括：限定有反应腔的反应器本体，所述反应器本体的上部设有四氯化硅-空气入口和氢气入口，所述反应器本体的底部设有反应器出口；嘴套，所述嘴套套设在所述反应器本体的下端以与所...
严大洲毋克力肖荣晖汤传斌谢正和杜俊平谢冬晖汪绍芬郭富东
用于多晶硅副产物四氯化硅处理的脱酸器
本发明提出一种用于多晶硅副产物四氯化硅处理的脱酸器，包括：脱酸器本体，所述脱酸器本体内限定有脱酸腔，所述脱酸器本体的上部设有尾气出口和脱酸器出料口，所述脱酸器本体的下部设有脱酸蒸汽入口和脱酸器进料口；和加热管，所述电加热...
严大洲毋克力肖荣晖汤传斌谢正和杜俊平谢冬晖汪绍芬郭富东
文献传递
浅谈气相法二氧化硅结构及表面特性被引量：2
2015年
介绍了气相二氧化硅结构及其表面官能团、水分平衡等特性,对其的应用及开发具有重要意义。
辛超郭富东杜俊平
关键词：二氧化硅硅羟基
横河CS3000控制系统在多晶硅生产中的应用被引量：1
2015年
本文简述了改良西门子法生产多晶硅的工艺流程,结合横河CS3000控制系统的特点,详细介绍了2000吨/年多晶硅生产线DCS控制系统的总体设计方案及硬件和软件配置等。该系统自投运以来,运行很稳定、可靠,给生产企业带来了良好的经济效益。
郭富东杜俊平
关键词：CS3000集散控制系统多晶硅
多晶硅副产物四氯化硅处理设备
本发明公开一种多晶硅副产物四氯化硅处理设备，包括反应器，收集冷却器，聚集器，分离器，和脱酸器，收集冷却器位于反应器下方以便冷却器进料口与反应器出口相连；聚集器入口与冷却器出料口相连；分离器具有分离器入口、气体出口和固体出...
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