闻瑞梅
- 作品数：86 被引量：118H指数：7
- 供职机构：同济大学电子与信息工程学院更多>>
- 相关领域：电子电信环境科学与工程化学工程建筑科学更多>>
- 一种细菌内毒素测定仪
- 本实用新型公开了一种通过鲎试剂与细菌内毒素产生凝集反应实现对水中细菌毒素含量进行限量测定的仪器。它包括由多个发光器件、可容多个透明试管并有多对入射与透射光孔的恒温槽、多路测光电路、多路放大器以及多路判别指示器组成的多组并...
- 闻瑞梅解光亮陈朗星夏振民黄清泉王思理
- 文献传递
- 多并联、大通量过滤器的自动反洗方法
- 本发明涉及水处理过程所用的多并联、大通量过滤器成组反洗自动化控制技术。首先，设定自动反洗的四个条件：浓水量、分流水量、源水的污染指数和多并联过滤器的台数。接着，通过控制器进行在线检测，及时获得上述数据。然后，通过控制器内...
- 闻瑞梅梁骏吾吴坚闻心德
- 文献传递
- ESPA和LF10反渗透膜在半导体工业水处理中的应用
- 研究了，以低压复合膜CPA2膜或NTR759膜，和超低压复合膜ESPA膜为例：它们有大的比表面积，操作压力低，产水量大，脱盐率，脱硅率高等优点。同时介绍了ESPA超低压膜主要特点。文中还列举了超低压ESPA，和低压CPA...
- 闻瑞梅
- 关键词：半导体工业水处理
- EDI对于去除太空用水中弱电解质——氨的研究被引量：5
- 2005年
- 研究了太空站水的总循环开发中EDI膜堆电流、进水的总氨浓度、进水流量等因素对EDI去除氨的影响,并对各影响因素进行了解释.实验结果显示:在氨进水质量浓度高达208.3mg/L的情况下,出水总氨的质量浓度为0.072mg/L,EDI对氨的去除率为99.97%.
- 闻瑞梅范伟邓守权张亚峰
- 关键词：EDI弱电解质太空站氨浓度去除率
- 半导体工艺用高纯水中硅、硼的去除被引量：5
- 2005年
- 本文主要研究了EDI(Electrodeionization)对高纯水中硅、硼的脱除方法 .通过对电压、进水电导率 (淡室、浓室 )、流量 (淡室、浓室、极室 )、pH值等因素的研究 ,得出EDI最佳脱硅、硼条件 .EDI进水SiO_2 浓度为 10 0 0 μg/L ,最佳出水硅为 2 .6 6 μg/L ,为目前国内最好水平 .EDI进水硼浓度为 5 0 μg/L ,最佳出水中硼含量为 <1μg/L .满足了大规模集成电路用水中硅、硼的要求 (对于兆位电路硅要求 <3μg/L ,硼要求 <1μg/L) .
- 闻瑞梅邓守权张亚峰葛伟伟
- 关键词：电脱盐硼高纯水
- 一种降解废水中孔雀石绿的方法
- 一种降解废水中孔雀石绿的方法，涉及一种用185nm紫外光降解废水中的孔雀石绿的工艺。先将含10mg/L孔雀石绿的废水加入水槽；然后按0.14～0.70L/min流速，泵入185nmUV光反应器中；接着将经过185nmUV...
- 闻瑞梅葛伟伟梁骏吾
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- 多元素测试仪测定二氯硅烷中的痕量磷被引量：1
- 1997年
- 二氯硅烷的沸点只有8．3℃，常温下呈气体状态，用常规的方法取样和检测难度很大．我们用高温富氢还原的方法，使二氯硅烷中的磷还原为PH3，用气相色谱法测定．并在炉口设计了锥形惰性气氛保护炉口装置，有效的防止了氢爆．保证测试安全并能连续进样、操作简便、省时．同时利用NaOH富集，解决了主体干扰杂质的问题．方法灵敏、可靠、简便、灵敏度由0．1μg／1提高到0．0μg／1．
- 闻瑞梅周淑君袁越赵振环
- 关键词：二氯硅烷磷
- MOVPE生产用高纯水中硅的去除被引量：4
- 2003年
- 本文介绍了硅对砷化镓材料生长及有机金属化合物气相淀积 (MOVPE)工艺中的影响和电脱盐 (EDI)技术以及用EDI降低高纯水中硅浓度的机理和方法 ,通过大量实验比较不同制水设备脱硅效果 ,得出用EDI技术严格控制pH(8～ 11)时脱硅效果最好 ,能使高纯水中Si的浓度 <0 5 μg/L ,满足了MO源生产及MOVPE工艺用水中Si浓度 <3μg/L的需要 .
- 闻瑞梅徐志彪孟广祯吴坚
- 关键词：硅超大规模集成电路
- 一种基于宽带隙半导体传感器的火焰报警器
- 一种基于宽带隙半导体传感器的火焰报警器，涉及紫外光辐射火焰报警技术。由火焰传感器(1)、信号放大电路(2)、信号转换电路(3)、信号处理电路(4)、执行电路(5)、灭火器(6)和声光报警器(7)组成。其特点是火焰传感器(...
- 吴坚梁骏吾胡正飞闻瑞梅
- 文献传递
- 处理含砷及砷化合物的废气的方法
- 本发明公开了一种处理半导体工艺中产生的含砷及砷化合物的废气的方法。首先去除废气中的油蒸汽，然后用KIO<Sub>3</Sub>、KI和H<Sub>2</Sub>SO<Sub>4</Sub>混合溶液对废气进行鼓泡、逆向喷淋...
- 闻瑞梅刘任重邓礼生梁骏吾
- 文献传递
