公共文化服务平台

共 2 条记录，以下是 1-2

全选清除导出

排序方式：

外场作用对自组装分子膜摩擦学特性的影响: 自组装分子膜的摩擦学特性研究不仅具有重要的理论意义，而且因在微电子机械系统中的广泛应用而具有实际应用价值。本文在单晶硅表面制备FOTS自组装分子膜，通过紫外照射改变分子膜表面特性，应用接触角测量仪、红外光谱分析、X射线光...; 关光辉; 关键词：电场分子动力学模拟; 文献传递

紫外照射对FOTS自组装分子膜表面特性和摩擦特性的影响: 2013年; 利用自组装技术在硅基底制备FOTS自组装分子膜,对FOTS自组装分子膜进行紫外照射.采用接触角测量仪、原子力显微镜(AFM)、傅里叶红外变换光谱仪(FTIR)、X光电子能谱(XPS)和多功能摩擦磨损试验机(UMT)评价薄膜的表面特性和摩擦学特性.结果表明:FOTS自组装分子膜的蒸馏水接触角为109°.紫外照射导致C元素被O3氧化,形成亲水的-COOH末端基团,使其接触角变小,表面粗糙度增大.在微载荷下,FOTS自组装分子膜和经不同时间紫外照射的FOTS自组装分子膜均可降低硅基底的摩擦和磨损.紫外照射后使FOTS自组装分子膜的摩擦系数增大,磨损加剧,这与其表面结构和润湿性变化相关.; 张会臣连峰关光辉朱海波; 关键词：硅接触角

全选清除导出

共1页<1>

关光辉