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冯斌
作品数:
5
被引量:45
H指数:4
供职机构:
重庆大学物理学院应用物理系
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发文基金:
国家自然科学基金
教育部“春晖计划”
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相关领域:
理学
电子电信
化学工程
一般工业技术
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合作作者
王万录
重庆大学物理学院应用物理系
廖克俊
重庆大学物理学院应用物理系
秦友兰
重庆大学物理学院应用物理系
王必本
重庆大学物理学院应用物理系
方亮
重庆大学物理学院应用物理系
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主题
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金刚石
2篇
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核化
2篇
刚石
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CVD
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氧化钛薄膜
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溶胶-凝胶工...
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锐钛矿
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热灯丝
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膜成核
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金刚石膜
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光催化
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硅衬底
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核子
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核子发射
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二氧化钛薄膜
1篇
TIO_2薄...
1篇
XRD
机构
5篇
重庆大学
作者
5篇
冯斌
4篇
廖克俊
4篇
王万录
3篇
秦友兰
1篇
董玉峰
1篇
王银峰
1篇
方亮
1篇
郭忠诚
1篇
张智
1篇
王必本
传媒
1篇
物理学报
1篇
功能材料
1篇
人工晶体学报
1篇
微细加工技术
1篇
重庆邮电学院...
年份
1篇
2002
2篇
1999
2篇
1998
共
5
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光纤TiO_2薄膜的制备及理化特性研究
被引量:12
2002年
用溶胶 凝胶法制得TiO2 ,通过提拉法在光纤上成膜。利用X射线衍射仪分析了TiO2 薄膜的物相 ,结果表明其物相是锐钛矿相。通过酸碱浸泡实验及附着性能测试 ,得到了具有较好抗腐蚀性及良好附着性。从理论上对光纤TiO2 薄膜光纤的光催化降解机理进行研究 ,结果表明其在处理污水方面具有可行性及优越性 ,并讨论其发展方向和所需的改进。
秦友兰
冯斌
王银峰
关键词:
溶胶-凝胶工艺
锐钛矿
XRD
光催化氧化
二氧化钛薄膜
负偏压对M_0衬底上生长金刚石膜的影响
被引量:4
1998年
研究用热灯丝化学气相沉积(HFCVD)法在M0衬底上生长多晶金刚石膜。实验研究表明,负偏压对金刚石膜生长的影响十分显著,这是负偏压极大地影响了金刚石的核密度引起的,研究表明,来自金刚石的发射电子对气体分子的撞击,加速了CH4、H2分子离化,在衬底表面附近形成了一等离子体区。
冯斌
廖克俊
王万录
秦友兰
张智
关键词:
CVD法
金刚石膜
衬底负偏压热灯丝CVD金刚石薄膜在锥体上核化的研究
被引量:2
1999年
以CH4 和H2 为反应混合气体,用衬底负偏压热灯丝CVD法在Si(100)面上制备金刚石膜,使用扫描电子显微镜(SEM)、Ram an 谱和X射线光电子能谱(XPS)对在硅尖上的金刚石核化进行了研究,并着重讨论了沉积在硅尖上的金刚石颗粒的生长机理。
郭忠诚
王万录
廖克俊
董玉峰
秦友兰
冯斌
关键词:
金刚石薄膜
核化
CVD
热灯丝
负衬底偏压热灯丝CVD金刚石膜成核的研究
被引量:14
1999年
本文利用扫描电子显微镜和原子力显微镜研究了Si(100)衬底上热灯丝金刚石膜成核过程。在-240V和250mA下,在镜面抛光的Si(100)衬底上金刚石最大成核密度超过了1010cm-2。研究表明,负衬底偏压增强成核主要是发射电子和离子轰击的结果。
王万录
廖克俊
方亮
王必本
冯斌
关键词:
金刚石薄膜
负偏压热灯丝CVD金刚石膜核化和早期生长的研究
被引量:20
1998年
利用扫描电子显微镜、Raman谱和X射线光电子能谱,研究了Si衬底上热灯丝CVD金刚石膜的核化和早期生长.在-300V和100mA条件下预处理15min,镜面抛光的Si(100)表面上金刚石核密度超过了109cm-2,但是核的分布极不均匀且可分为三个区域:A区,边缘处以锥体为主;B区,位于边和中心之间过渡区是纳米金刚石;C区,中心处有SiC层.无偏压下生长4h后,A区形成许多大而弧立的金刚石颗粒,B区成为织构金刚石膜,而C区变为含有大量缺陷的连续金刚石膜.衬底负偏压增强金刚石核化是由于离子轰击和发射电子同时作用的结果,离子流本身的不均匀导致核化的不均匀性.
廖克俊
王万录
冯斌
关键词:
CVD
金刚石
核化
硅衬底
核化
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