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司平占

作品数：1 被引量：0H指数：0
供职机构：中国计量学院理学院更多>>
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合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇多层膜
  • 1篇离子注入
  • 1篇镁合金
  • 1篇溅射
  • 1篇合金
  • 1篇TIALN
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射

机构

  • 1篇中国计量学院

作者

  • 1篇张高会
  • 1篇徐鹏
  • 1篇于明州
  • 1篇司平占
  • 1篇乔宪武
  • 1篇李根
  • 1篇施远驰

传媒

  • 1篇中国计量学院...

年份

  • 1篇2012
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
一种TiAlN多层膜制备新方法
2012年
采用自行设计制造的离子束联合溅射系统,将磁控溅射与离子注入技术相结合,在镁合金表面形成多层TiAlN强化膜.用金相显微镜、X射线衍射仪、原子力显微镜、摩擦磨损仪等手段,研究了多层膜的表面形貌、结构和性能.结果表明,TiAlN膜膜表面光滑致密、孔隙率大大降低,粗糙度为42.28nm,由TiAlN强化相组成;成膜后耐磨性有所提高,但摩擦系数变化不大,未达到减摩作用.
李根张高会徐鹏乔宪武于明州施远驰司平占
关键词：镁合金磁控溅射离子注入
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