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张大勇

作品数:4 被引量:6H指数:1
供职机构:北京科技大学材料科学与工程学院材料物理与化学系更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家杰出青年科学基金更多>>
相关领域:一般工业技术电气工程理学电子电信更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇电气工程
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 2篇磁性能
  • 1篇微结构
  • 1篇相结构
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米级
  • 1篇介质
  • 1篇记录介质
  • 1篇溅射
  • 1篇溅射法
  • 1篇溅射制备
  • 1篇AG
  • 1篇FEPT
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇磁控溅射法
  • 1篇磁控溅射制备
  • 1篇磁能
  • 1篇磁能积
  • 1篇磁性
  • 1篇磁性研究

机构

  • 4篇北京科技大学

作者

  • 4篇张跃
  • 4篇张大勇
  • 4篇展晓元
  • 4篇顾有松
  • 1篇郑小兰
  • 1篇纪箴

传媒

  • 1篇功能材料
  • 1篇功能材料与器...
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇第十二届全国...

年份

  • 1篇2006
  • 2篇2005
  • 1篇2003
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
纳米级FePt/Fe多层膜中微结构的优化与耦合效应被引量:1
2005年
本文用磁控溅射法制备了一系列不同厚度Fe层的FePt/Fe多层膜,经过热处理后成功地制备出具有fct结构的FePt有序相和exchangespring型永磁体。研究了不同热处理条件下多种膜层厚度与FePt/Fe多层膜结构、磁性及其内在关系,并探讨了FePt/Fe多层膜铁中的磁耦合失效问题。观察了不同热处理条件和层厚的FePt/Fe多层膜的结构变化过程,包括结构相变、有序度和晶粒度。研究了其磁性能随结构变化的规律,发现了耦合失效的模式。
张大勇顾有松展晓元纪箴张跃
关键词:磁能积
纳米结构FePt薄膜的结构与磁性研究被引量:5
2005年
采用磁控溅射方法在自然氧化的单晶Si(100)衬底上制备了纳米结构的Fex Pt100-x(x=30at%~60at%)薄膜.高温XRD分析表明,薄膜在500℃热处理有明显的面心立方FCC结构向面心四方FCT结构转变. 通过VSM、AFM对薄膜样品的磁性检测和晶粒尺度的观察,FePt合金薄膜有序化转变的最佳热处理温度在400~500℃,在这个热处理温度范围内,薄膜软硬磁耦合较好,矫顽力适当(306kA/m),晶粒尺寸约为10nm,适合于做高密度磁记录介质材料.
展晓元顾有松张大勇张跃
关键词:记录介质磁性能
磁控溅射制备的FePt/Fe多层膜的结构和磁性
采用磁控溅射法,在硅基片上生长了FePt单层膜,FePt/Fe多层膜样品系列,并在不同的温度下进行了热处理.然后用X射线衍射(XRD),电子能量谱(EDX)和振动样品磁强计(VSM)对样品的晶结结构,成分和磁学性能进行测...
顾有松张大勇展晓元张跃
关键词:磁控溅射法磁学性能
文献传递
Ag衬底层对FePt薄膜结构和性能的影响
2006年
采用磁控溅射方法在自然氧化的单晶Si(100)衬底上制备了双层结构的FePt-X/Ag(X=Ag或Pt)薄膜。以20nm厚的Ag做衬底,可以制备出易磁化轴垂直基片的FePt合金薄膜;Ag在FePt薄膜中优先团聚,不利于控制FePt晶粒的长大,调整Pt的含量可以控制热处理过程中FePt薄膜的晶粒尺度;通过XRD、TEM、VSM对薄膜样品的结构、晶粒尺寸的观察和磁性检测,我们认为FePt合金薄膜有序化转变的最佳热处理温度在400℃;经过500℃热处理,薄膜软硬磁耦合较好,晶粒尺寸约为100nm,有最大的矫顽力1.04×106A/m。
展晓元张跃顾有松郑小兰张大勇
关键词:相结构磁性能
共1页<1>
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