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张永平

作品数:20 被引量:59H指数:5
供职机构:中国科学院物理研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学化学工程一般工业技术电子电信更多>>

文献类型

  • 18篇期刊文章
  • 2篇学位论文

领域

  • 15篇理学
  • 5篇化学工程
  • 4篇一般工业技术
  • 3篇电子电信
  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 5篇气相沉积
  • 5篇化学气相
  • 5篇化学气相沉积
  • 5篇MPCVD
  • 4篇微波等离子体
  • 3篇硬材料
  • 3篇扫描隧道显微...
  • 3篇超硬
  • 3篇超硬材料
  • 2篇氮化碳
  • 2篇碳氮薄膜
  • 2篇气相
  • 2篇气相沉积法
  • 2篇自组织生长
  • 2篇晶态
  • 2篇化学气相沉积...
  • 2篇溅射
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇单层膜

机构

  • 15篇北京科技大学
  • 12篇中国科学院
  • 3篇河北科技大学

作者

  • 20篇张永平
  • 11篇顾有松
  • 10篇常香荣
  • 10篇田中卓
  • 7篇张秀芳
  • 7篇时东霞
  • 5篇袁磊
  • 4篇高鸿钧
  • 3篇闫隆
  • 3篇庞世谨
  • 3篇姚书芳
  • 2篇李华飚
  • 2篇周剑平
  • 2篇彭毅萍
  • 1篇乔祎
  • 1篇毛卫民
  • 1篇李志勇
  • 1篇解思深
  • 1篇徐雅荣
  • 1篇许贵桥

传媒

  • 4篇物理学报
  • 4篇河北科技大学...
  • 1篇北京科技大学...
  • 1篇物理
  • 1篇中国科学(A...
  • 1篇功能材料
  • 1篇材料研究学报
  • 1篇真空
  • 1篇人工晶体学报
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇真空电子技术
  • 1篇金属功能材料

年份

  • 1篇2009
  • 2篇2002
  • 2篇2001
  • 8篇2000
  • 6篇1999
  • 1篇1998
20 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
超硬薄膜β-C_3N_4的制备和表征被引量:5
2000年
本文采用微波等离子体化学气相沉积 (MPCVD)法 ,用高纯氮气 (99.999% )和甲烷 (99.9% )作反应气体 ,在单晶硅和多晶铂基片上沉积 β -C3N4薄膜。X射线能谱 (EDX)分析了这种晶态C -N膜的化学成分 ,对不同样品的分析结果表明 ,N/C原子比在 1.1~ 2 .0范围内。X射线衍射结构分析结果与计算的α -和 β -C3N4单相X射线的峰位和强度相比较 ,说明它是α -和 β -C3N4的混合物。FT -IR和Raman谱支持C -N共价键的存在。薄膜的体弹性模量达到 349GPa。
张永平顾有松常香荣田中卓时东霞张秀芳袁磊
关键词:超硬薄膜MPCVD
MPCVD制备β-C_3N_4薄膜的成分和结构研究
2000年
M .L .Cohcn和A .Y .Liu利用半经验公式和第一性原理计算表明 ,如果C和N能够结合成类似于 β Si3 N4结构的化合物 β C3 N4,由于C N的键长比C C的键长短和键的离子性小 ,它的体弹性模量B约为 483GPa至 42 7GPa ,接近甚至超过金刚石的体弹性模量。这是人类第一次从理论上预言一种超硬性能的新材料 ,β C3 N4的实验合成不仅可以为人类提供一种全新的材料 ,而且能够进一步检验理论预言的正确性。本文采用微波等离子体化学气相沉积法 (MPCVD) ,用高纯氮气 ( 99.999% )和甲烷 ( 99.9% )作反应气体 ,在单晶Si( 1 0 0 )基片上沉积C3 N4薄膜。利用扫描电子显微镜 (SEM)观察薄膜形貌表明 ,薄膜由密排的六棱晶棒组成。X射线能谱 (EDX)分析了这种晶态C N膜的化学成分 ,对不同样品不同区域的分析结果表明 ,N/C比接近于 4/3。X射线衍射 (XRD)结构分析说明该膜主要由 β C3 N4和α C3 N4组成。利用XPS分析说明薄膜为C+ N-极性键结合 ,FT IR和Raman谱支持C N公价键的存在。
张永平顾有松常香荣田中卓时东霞张秀芳袁磊
Si(111)-(7×7)表面上Ge量子点的自组织生长被引量:7
2002年
用扫描隧道显微镜研究了Si(111) (7× 7)表面上Ge量子点的自组织生长 .室温下用固相外延法在硅基底上沉积亚单层的Ge ,然后在适当的温度下退火可以聚集形成有序的Ge量子点 .由于Ge在Si(111) (7× 7)表面选择性的吸附而形成有序的Ge量子点 .
张永平闫隆解思深庞世谨高鸿钧
关键词:扫描隧道显微镜自组织生长量子点
MPCVD 合成 β-C_3N_4 晶态薄膜被引量:3
1999年
采用微波等离子体化学气相沉积法(MPCVD),以N2、CH4作为反应气体合成碳氮膜。通过控制反应温度、气体流量、微波功率、反应气压等工艺条件,在Si和Pt基片上,进行β-C3N4晶态薄膜的合成研究。扫描电镜(SEM)下观察到生长在Si基底上的薄膜具有六角晶棒的密排结构。扫描隧道显微镜(STM)下观察到在Pt基底上生长的碳氮薄膜由针状晶粒组成。EDX分析表明,随沉积条件的不同,Si基底上的氮碳薄膜中N/C在1.0到2.0之间;Pt基底上生长的碳氮薄膜N/C在0.8~1.3之间。X射线衍射分析(XRD)发现薄膜中含有β-C3N4和α-C3N4。
时东霞马立平张秀芳袁磊顾有松张永平段振军常香荣田中卓
关键词:MPCVD晶态
材料研究中的逼近思想
1999年
通过材料研究中利用键参数函数选择铸铁变质剂的实际例证,说明了近代数学中逼近思想在材料科学研究中的应用。
姚书芳刑书明张永平张大辉许贵桥安钢徐雅荣
关键词:铸铁变质剂
基体温度对碳氮薄膜成分和结构的影响被引量:2
2000年
采用微波等离子体化学气相沉积法,N_2/CH_4作反应气体,在 Si(100)基体上沉积β-C_3N_4 化合物.使用X射线光电子能谱(XPS)研究了基体温度对碳氮薄膜的成分和结构的影响,结果 表明:随着温度的提高,N/C原子比迅速提高,a一和C_3N_4在薄膜中的比例随之提高,超过一定 的温度后,N/C原子比将会降低.傅立叶变换红外光谱(FT-IR)和喇曼(Raman)谱结果支持 C-N 键的存在.
张永平顾有松田中卓常香荣时东霞张秀芳
关键词:MPCVD碳氮薄膜
一维非线性周期系统定态解的性质
周期系统是物理学研究的焦点内容之一,例如晶格周期势场中电子的运动是固体物理学的基础。伴随实验技术的发展,最近涌现出一批新型的人工周期系统,比如光晶格中的超冷原子气,波导阵列和由光诱导的光子晶格,等等。这些系统除了都具有周...
张永平
关键词:光子晶格定态解
C_3N_4硬膜的人工合成和鉴定被引量:12
1999年
用微波等离子体化学气相沉积法 (MPCVD)在硅和铂衬底上得到高质量的C3 N4薄膜 .计算了α C3 N4和β C3 N4单相X射线谱的峰位和强度 ,沉积膜的X射线谱具有两相的所有强峰 ,证明它是α 和β C3 N4的混合物 .总的N/C比在 1 0~ 2 0之间 .FT IR和Raman谱支持C—N共价键的存在 .体积弹性模量达到 34 9GPa .
顾有松张永平常香荣田中卓陈难先时东霞张秀芳袁磊
关键词:氮化碳MPCVD硬膜化学气相沉积
理论预言的氮化碳超硬膜研究新进展被引量:12
1999年
β-C3N4的理论预言发表之后,经过广大科学工作者近10年的努力,已经取得了一些重要进展.理论上对碳氮化合物的研究已经更为广泛和深入.实验合成方面也取得了长足的进展.文章作者在Si、Pt等基底上初步合成了晶态的β-C3N4薄膜,实验分析表明,薄膜主要由α-或β-C3N4晶相组成,成分接近理论值,N/C原子比接近4/3。
顾有松张永平常香荣田中卓时东霞张秀芳袁磊
关键词:超硬材料氮化碳晶态
在Si(111)-(7×7)表面自组织生长二维Ge团簇超晶格被引量:2
2002年
利用超高真空扫描隧道显微镜研究了室温条件下亚单层Ge在Si(111) (7× 7)表面上的自组织生长 .通过控制Ge的沉积量 ,在Si(111) (7× 7)表面上自组织生长成一种具有六重对称性的二维Ge团簇超晶格 .构成超晶格的Ge团簇均位于 (7× 7)亚单胞的位置上 ,而且它们的形状和大小基本保持一致 .
闫隆张永平彭毅萍庞世谨高鸿钧
关键词:扫描隧道显微镜STM半导体自组织生长硅衬底
共2页<12>
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