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张阳

作品数:2 被引量:8H指数:2
供职机构:浙江大学材料科学与工程学系硅材料国家重点实验室更多>>
发文基金:浙江省自然科学基金国家教育部博士点基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 2篇脉冲激光
  • 2篇脉冲激光沉积
  • 2篇ZNO薄膜
  • 1篇室温
  • 1篇温下
  • 1篇脉冲激光沉积...
  • 1篇光致
  • 1篇光致发光
  • 1篇发光
  • 1篇SIO2/S...
  • 1篇C轴
  • 1篇C轴取向

机构

  • 2篇浙江大学

作者

  • 2篇张银珠
  • 2篇张阳
  • 2篇叶志镇
  • 2篇曹亮亮
  • 2篇赵炳辉
  • 2篇朱丽萍
  • 1篇诸葛飞
  • 1篇徐伟中

传媒

  • 2篇真空科学与技...

年份

  • 2篇2005
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
SiO_2/Si衬底制备ZnO薄膜及表征被引量:4
2005年
本文报道了利用脉冲激光沉积技术在热氧化p型硅衬底上生长ZnO外延薄膜。引入高阻非晶SiO2缓冲层,有效地降低了检测过程中单晶衬底对ZnO薄膜的电学性能影响。利用XRD,SEM,Hall和PL对其进行研究。结果表明,在衬底温度为500℃时,生长的ZnO薄膜具有优良的晶体质量,电学性能和发光性能。
曹亮亮叶志镇张阳朱丽萍张银珠徐伟中赵炳辉
关键词:ZNO薄膜SIO2/SI脉冲激光沉积光致发光
脉冲激光沉积法室温下ZnO薄膜的制备与表征被引量:4
2005年
在室温条件下,采用脉冲激光沉积技术在玻璃衬底上生长了ZnO薄膜。对薄膜的XRD分析表明,ZnO薄膜为六方纤锌矿结构并沿c轴取向生长,且(002)衍射峰的半高峰宽仅为0.24°。薄膜沿c轴方向受到一定的张应力为1.7×108N/m2。原子力显微镜分析表明薄膜表面较为平整,平均粗糙度约为6.5 nm,晶粒尺寸约为50 nm。此外,透射光谱分析表明薄膜的禁带宽度为3.25 eV,与ZnO体材料的禁带宽度3.30 eV基本相同。
曹亮亮叶志镇张阳朱丽萍张银珠诸葛飞赵炳辉
关键词:ZNO薄膜C轴取向室温脉冲激光沉积
共1页<1>
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