袁菊
- 作品数：6 被引量：4H指数：1
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- 一种锰铜合金材料的制备方法
- 本发明公开了一种锰铜合金材料的制备方法，该方法缩短了工艺流程，提高了工作效率，大大降低了能耗。本发明的锰铜合金材料的制备方法，其主要是利用电沉积的方法在不锈钢表面分别制备高纯铜和高纯锰，再在氩气保护条件下于管式炉中进行热...
- 朱承飞瞿澄袁菊姚力军
- 文献传递
- 工艺参数对电解提纯铜层织构的影响
- 2012年
- 在硫酸铜电解液中加入硫酸钠,利用电沉积和X-射线衍射方法研究了不同提纯铜工艺制备的铜镀层及织构特征。结果表明,织构度受到电流密度、镀层厚度和温度的影响,在较小的电流密度、较高温度及在较薄厚度的铜镀层得到(111)晶面择优取向,在较高的电流密度及在镀层δ达到30μm时得到(220)晶面择优取向,而且铜镀层(220)晶面比(111)晶面更易保留,(220)晶面使纯铜能获得更好的电化学性能,保持纯铜晶面的择优取向对铜在半导体的应用产生了深远的影响。
- 袁菊朱承飞瞿澄姚力军
- 关键词：电解精炼铜镀层织构
- Cl^-对镀铜层织构的影响被引量：3
- 2013年
- Cl-是镀铜工艺中必不可少的一种添加剂,它对镀层的光亮度和机械强度等都有很大的影响。采用酸性硫酸盐体系电沉积制备镀铜层,用XRD分析了Cl-对镀铜层织构的影响。结果表明:Cl-对镀层(111)晶面的织构系数没有影响;随着Cl-的质量浓度的增加,(220)晶面的织构系数出现先增后降的趋势。在铜酸比1∶1,电流密度4A/dm2,Cl-80mg/L,电解温度40℃,电解时间50min的条件下,可以获得高择优取向的镀铜层。
- 瞿澄朱承飞袁菊姚力军
- 关键词：电沉积织构X射线衍射
- 高纯铜的电沉积制备工艺研究
- 铜互连技术在集成电路及半导体的设计和制造中已成为核心要素，因此高纯铜作为制造高纯铜靶材的主要原料，其性质、性能优越，是一种应用广泛而极具发展潜力的高纯金属。由于国内制备技术有限，铜的纯度达不到高纯铜靶材的需求，而国外又垄...
- 袁菊
- 关键词：工业纯铜电沉积工艺电解技术
- 一种锰铜合金材料的制备方法
- 本发明公开了一种锰铜合金材料的制备方法，该方法缩短了工艺流程，提高了工作效率，大大降低了能耗。本发明的锰铜合金材料的制备方法，其主要是利用电沉积的方法在不锈钢表面分别制备高纯铜和高纯锰，再在氩气保护条件下于管式炉中进行热...
- 朱承飞瞿澄袁菊姚力军
- 文献传递
- 电流密度对电沉积锰结构及性能的影响被引量：1
- 2013年
- 锰被广泛应用于钢材中,研究制备高质量的金属锰具有很重要的现实意义。采用石墨阳极,无硒硫氨酸盐电解液,在不锈钢表面电沉积金属锰,采用恒电流法研究了电流密度对电流效率以及镀层厚度的影响。利用X-射线衍射仪测试镀层结构,扫描电镜观察镀层表面形貌,维氏硬度计测试镀层硬度。结果表明,Jκ为14A/dm2时η达到57.63%,镀层δ为37.07μm,硬度为509.53HV,获得表面形貌和晶体结构较优的金属锰。
- 瞿澄朱承飞袁菊姚力军
- 关键词：电流密度电流效率镀层结构
