周曙
- 作品数：6 被引量：17H指数：3
- 供职机构：中国科学院安徽光学精密机械研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金安徽省自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学化学工程电子电信更多>>
- 新型薄膜材料在激光能量/功率计应用中的新进展
- 2009年
- 介绍了目前新型薄膜材料在激光能量/功率计应用中的最新试验研究进展。最近从实验中发现多种新型材料的薄膜具有光热辐射感生热电电压,对这种基于各向异性塞贝克效应的感生电压的性质进行详细的研究,发现并证明此类薄膜具有响应光谱宽、响应速度快、在有效范围内线性好等优点,可以应用于激光能量/功率计。
- 张玉亮陶汝华董伟伟邓赞红李达王涛赵义平孟钢周曙王金梅邵景珍方晓东
- 关键词：激光能量计
- 溶胶凝胶法制备钼掺杂氧化锌薄膜及性质研究(英文)被引量：4
- 2011年
- 利用溶胶凝胶法在Al_2O_3衬底上制备出了c轴择优取向的钼掺杂氧化锌(MZO)透明导电薄膜,研究了,钼的掺杂量(0～1 at%)对钼掺杂氧化锌薄膜光电性能的影响。研究结果表明:所制备的薄膜为六方纤锌矿型结构且表面平整、致密。通过高温真空退火,MZO薄膜的电阻率明显降低。且随着钼含量的增加,MZO薄膜的电阻率呈现出先减小后增大的趋势,当钼含量为0.4at%时,获得最小电阻率为0.13Ωcm。薄膜在近红外区域(800～2000 nm)的平均透过率大于85%,这可以有效地拓宽光电器件的光谱范围。
- 邵景珍董伟伟陶汝华邓赞红周曙方晓东
- 关键词：光电特性溶胶凝胶法透明导电氧化物
- 沉积激光能量对CuAlO_2薄膜光学性质的影响被引量：3
- 2011年
- 采用脉冲激光沉积法制备了CuAlO2薄膜.在沉积激光能量100～180mJ范围内原位沉积的薄膜并在N2气氛下900℃异位退火1h处理后,所有薄膜均为高度c轴取向的单相CuAlO2薄膜,晶粒尺寸～49nm.随着沉积激光能量的增大,薄膜厚度增加,表面颗粒尺寸明显增大,在可见光区的平均透射率下降.室温光致发光谱发现,CuAlO2薄膜在350nm附近有一个自由激子复合发光峰,说明在CuAlO2宽带隙半导体中存在直接带间跃迁,这对于该材料在光电子领域如发光二极管的应用具有重要意义.
- 邓赞红方晓东陶汝华董伟伟周曙孟钢邵景珍
- 关键词：脉冲激光沉积光学带隙
- 248 nm高反膜抗激光损伤性能被引量：2
- 2014年
- 用电子束蒸发法在熔融石英基底上沉积了适用于248nm的HfO2/SiO2高反膜,为提高其抗激光损伤能力,设计并制备了两种保护层,一种是在常规高反膜系的基础上镀制二分之一波长厚度的SiO2保护层,另一种是用Al2O3/MgF2做保护层。测试了3种高反膜样品的激光损伤情况,通过损伤形貌的变化分析了两种保护层使抗激光损伤能力提高的原因以及存在的问题。
- 刘凤娟周曙秦娟娟邵景珍方晓东
- 关键词：NM高反膜激光损伤保护层
- 水热法制备铜铁矿型氧化物材料被引量：5
- 2010年
- 铜铁矿型氧化物材料在催化剂、发光材料、太阳能电池、臭氧传感器和p型透明导电氧化物等领域有广阔的应用前景,已成为研究的热点。本文阐述了水热法制备铜铁矿材料的基本原理和特点,介绍了水热法制备纳米铜铁矿材料的最新研究进展。
- 周曙方晓东邓赞红李达
- 关键词：水热法纳米晶
- 应用于极紫外光刻系统多层膜的研究进展被引量：3
- 2014年
- 极紫外光刻是采用波长为13.5 nm的极紫外光作为光源,实现半导体集成电路工艺22 nm以及更窄线宽节点的主要候选光刻技术。性能优越稳定的多层膜技术是构建整个极紫外光刻系统的重要技术之一、从高反射率、波长匹配、控制面形以及稳定性和寿命方面总结了极紫外光刻系统中多层膜的性能要求和最新的研究进展,叙述了制备高性能多层膜的方法和沉积设备,讨论了多层膜制备技术存在的问题和发展的方向。
- 秦娟娟董伟伟周曙游利兵方晓东
- 关键词：激光技术极紫外光刻
