朱小琴
- 作品数:3 被引量:1H指数:1
- 供职机构:西安工业大学更多>>
- 发文基金:陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室开放基金更多>>
- 相关领域:理学一般工业技术金属学及工艺化学工程更多>>
- 退火温度对硅基硬质碳膜内应力和硬度的影响被引量:1
- 2007年
- 硬质碳膜中应力的存在限制了其应用,真空退火是降低内应力的有效措施.本文利用BGS6341型电子薄膜应力分布测试仪和HXD-1000型数字式硬度计,对在硅基片上用非平衡磁控溅射制备的碳膜应力和硬度随退火温度的变化进行了研究.研究结果表明:随退火温度的升高,碳膜平均应力减小,分布趋向均匀,但硬度下降;在退火温度300℃下平均应力减小为-2.29×108Pa,膜的硬度变化不明显,维氏硬度从4780.3589 MPa降到4194.099 MPa(类似于类金刚石(DLC)),此退火温度下保证了薄膜具有很小的内应力同时具有较高的硬度.
- 杭凌侠朱小琴
- 关键词:非平衡磁控溅射碳膜退火温度应力
- 非金属基底上硬碳膜镀制工艺研究
- 具有高强度、高弹性模量、高抗化学腐蚀性和稳定的高温性能的Al2O3陶瓷与硬碳膜组合,被广泛应用在耐磨、高温、抗腐蚀等条件苛刻的领域,是在恶劣条件下替代金属材料的首选材料;C/SiC在航空发动机、超高声速冲压发动机、航空航...
- 朱小琴
- 关键词:陶瓷涂层磁控溅射
- 文献传递
- 不同的真空热处理方式对碳膜性能的影响
- 采用不同方法制备的硬碳膜的性能的研究报道已很多,研究表明,碳膜可以在无润滑、腐蚀性介质、真空、高温以及低温等环境下应用。但碳膜中应力的存在限制了其应用,通过改善制备工艺只能降低而不能消除膜中内应力.采用真空退火的方法可进...
- 朱小琴杭凌侠