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梁辉

作品数：21 被引量：0H指数：0
供职机构：广东工业大学更多>>
相关领域：理学化学工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 20篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 5篇理学
  • 1篇化学工程

主题

  • 8篇荧光
  • 7篇三重态
  • 7篇光敏剂
  • 6篇光动力
  • 6篇光动力治疗
  • 4篇单线态
  • 4篇单线态氧
  • 4篇荧光量子产率
  • 4篇羟基
  • 4篇量子产率
  • 4篇绿光
  • 4篇产率
  • 3篇吡咯
  • 2篇氮杂
  • 2篇氮杂环
  • 2篇低毒性
  • 2篇低功率
  • 2篇电子给体
  • 2篇毒性
  • 2篇对讲

机构

  • 21篇广东工业大学

作者

  • 21篇梁辉
  • 18篇霍延平
  • 2篇王华倩
  • 2篇梁亮
  • 2篇韩一石
  • 2篇李学易
  • 2篇韩国军
  • 2篇潘成强
  • 2篇汪松英
  • 2篇李宗植
  • 2篇孔腾飞
  • 2篇李俊同
  • 2篇郭国强
  • 1篇敖湛斌

年份

  • 2篇2023
  • 5篇2022
  • 1篇2021
  • 5篇2019
  • 4篇2018
  • 2篇2017
  • 2篇2008
共 21 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种氟硼吡咯光敏剂及其制备方法和应用
本发明公开了一种氟硼吡咯光敏剂及其制备方法和应用。氟硼吡咯光敏剂为具有式(I)所示结构的化合物。其制备方法包括：S1.对羟基苯甲醛与1，6‑二溴己烷发生反应；S2.保护气氛条件下，将具有式(IV)结构的化合物与2，4‑二...
籍少敏刘文超梁辉贺佳霍延平
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一种三重态光敏剂及其制备方法和一种上转换体系
本发明提供了一种具有式(BDP‑1)～式(BDP‑3)所示结构的光敏剂，本发明提供的光敏剂为三重态光敏剂，该光敏剂在可见光具有高摩尔消光系数，其在TTA上转换中发出高强度的光，即在低功率(5.0mw)激发光源的条件下实现...
籍少敏梁辉霍延平董方帝李宗值余梓东
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一种含膦氧化合物及其制备和应用
本发明提供了一种含膦氧化合物及其制备和应用。该化合物以膦氧作为电子受体，通过向其引入特定的电子给体基团，构建成给体‑受体结构的电荷转移态化合物，该含膦氧化合物具有较佳的发光强度、色纯度、热稳定性和荧光量子产率，为蓝紫光或...
陈国威陈文铖霍延平巫浩瀚陈思维梁辉张浩力籍少敏
一种8-羟基喹啉类的汞离子比率型荧光探针及其制备方法
本发明属于金属离子探针领域，尤其涉及一种8‑羟基喹啉类的汞离子比率型荧光探针及其制备方法。本发明提供了一种8‑羟基喹啉衍生物，所述8‑羟基喹啉衍生物的分子式为：C<Sub>20</Sub>H<Sub>15</Sub>Cl...
霍延平李宗植李俊同孔腾飞梁辉郭国强潘成强汪松英
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一种三重态光敏剂及其制备方法和一种上转换体系
本发明提供了一种具有式(BDP‑1)～式(BDP‑3)所示结构的光敏剂，本发明提供的光敏剂为三重态光敏剂，该光敏剂在可见光具有高摩尔消光系数，其在TTA上转换中发出高强度的光，即在低功率(5.0mw)激发光源的条件下实现...
籍少敏梁辉霍延平董方帝李宗值余梓东
一种吲哚方酸菁染料及其制备方法和应用
本发明属于方酸菁染料技术领域，尤其涉及一种吲哚方酸菁染料及其制备方法和应用。本发明提供了一种吲哚方酸菁染料，所述吲哚方酸菁染料的结构式如式(I)所示；其中，R为苯基、蒽基或芘基。本发明吲哚方酸菁染料在近红外区具有高摩尔消...
籍少敏张碧玮霍延平梁亮梁辉
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一种光敏剂、制备方法及其应用
本发明涉及光动力治疗技术领域，具体涉及一种光敏剂、制备方法及其应用。本发明提供了一种光敏剂，为具有式I所示结构的化合物。本发明还提供了一种光敏剂的制备方法，将具有式II与式III所示结构的化合物通过sonogashira...
籍少敏林丹梁辉霍延平董玉叶
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具有巡更管理功能的无线对讲设备
本实用新型公开了一种具有巡更管理功能的无线对讲设备，该设备包括：RFID数据采集电路、时钟电路、信息阅读按键、微控制器、话音发送触发按键、麦克、MSK数据调制解调电路、喇叭、接口电路、无线收发电路；其中RFID数据采集电...
韩一石韩国军梁辉李学易敖湛斌
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一种氮杂环咔唑类化合物及其应用
本发明提供了一种氮杂环咔唑类化合物及其应用。该氮杂环咔唑类化合物作为一种低成本深蓝光有机发光小分子，具有良好的热稳定性、较优的成膜性、较强的发射亮度、较高的荧光量子产率以及较佳的传输电子能力，且该氮杂环咔唑类化合物制备原...
陈国威陈文铖霍延平巫浩瀚陈思维梁辉张浩力籍少敏
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一种吲哚方酸菁染料及其制备方法和应用
本发明属于方酸菁染料技术领域，尤其涉及一种吲哚方酸菁染料及其制备方法和应用。本发明提供了一种吲哚方酸菁染料，所述吲哚方酸菁染料的结构式如式(I)所示；其中，R为苯基、蒽基或芘基。本发明吲哚方酸菁染料在近红外区具有高摩尔消...
籍少敏张碧玮霍延平梁亮梁辉
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