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沈辉宇

作品数：7 被引量：23H指数：1
供职机构：武汉材料保护研究所更多>>
相关领域：金属学及工艺理学自动化与计算机技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 2篇会议论文
  • 2篇专利

领域

  • 2篇金属学及工艺
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇理学

主题

  • 2篇导磁
  • 2篇等离子体
  • 2篇电弧
  • 2篇渗氮
  • 2篇气相沉积
  • 2篇离子镀
  • 1篇导磁材料
  • 1篇电源
  • 1篇电源问题
  • 1篇液滴
  • 1篇阴极
  • 1篇阴极沉积
  • 1篇应用系统
  • 1篇真空
  • 1篇真空电弧
  • 1篇真空室
  • 1篇数据库
  • 1篇离子镀膜
  • 1篇离子渗
  • 1篇离子渗氮

机构

  • 7篇武汉材料保护...
  • 1篇华中师范大学

作者

  • 7篇沈辉宇
  • 7篇凌国伟
  • 2篇潘邻
  • 2篇郑辉
  • 1篇李志
  • 1篇李志
  • 1篇沈辉宇
  • 1篇何婷婷

传媒

  • 2篇中国机械工程...
  • 1篇金属热处理
  • 1篇真空
  • 1篇计算机与数字...

年份

  • 2篇1997
  • 3篇1996
  • 1篇1995
  • 1篇1994
共 7 条 记 录，以下是 1-7
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排序方式：
一种可控电弧靶
本实用新型为实现真空气相沉积技术中一种可控电弧靶，采用中心有孔的环形靶，靶周围联有导磁护板，磁铁能从环形靶靶中心穿过，造成大面积平行均匀强磁场，不仅有效加速弧斑在整个靶平面的运动，而且弧斑形成闭环轨迹。本实用新型结构简单...
凌国伟潘邻沈辉宇郑辉
文献传递
离子渗氮的电源问题
1994年
凌国伟沈辉宇潘邻郑辉
关键词：离子渗氮电源渗氮
阴极电弧沉积技术及其发展被引量：22
1996年
本文分析了阴极电弧等离子沉积技术，以及有关的机理和应用。与其它物理气相沉积技术也作了定性和定量的比较。特别强调了重要的技术方面和最近的发展。
凌国伟沈辉宇周福堂
关键词：真空电弧气相沉积离子镀膜
阴极电弧沉积技术及其发展
分析了阴极电弧等离子沉积技术，以及有关的机理和应用。与其它物理气相沉积技术也作了定性和定量的比较。特别强调了重要的技术方面和最近的发展。
凌国伟沈辉宇
关键词：气相沉积阴极沉积等离子体离子镀
一种可控电弧蒸发加速器
本实用新型是真空气相沉积技术中一种可控电弧蒸发加速器，由靶体，弧电源，靶室，磁场线圈，绝缘密封圈和真空室组成。靶室由可加长的圆筒状非导磁材料构成，靶室一端密封，该端内放置靶体，另一端通过密封圈与真空室连接，靶室外有磁场线...
凌国伟沈辉宇
文献传递
机械部腐蚀数据库应用系统的结构设计和实现被引量：1
1997年
本文介绍了一种腐蚀数据库应用系统的结构设计和实现、采用FOXPRO FOR DOS开发,用户界面友好,操作简单。
沈辉宇沈辉宇何婷婷李志
关键词：数据库应用系统机械产品
全文增补中
脉冲电源与等离子表面强化
凌国伟沈辉宇
关键词：渗氮脉冲电源等离子体表面合金化
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共1页<1>
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