潘峰
- 作品数：18 被引量：29H指数：4
- 供职机构：成都精密光学工程研究中心更多>>
- 发文基金：国家高技术研究发展计划中国工程物理研究院科学技术发展基金中国工程物理研究院电子工程研究所科技创新基金更多>>
- 相关领域：理学电子电信机械工程自动化与计算机技术更多>>
- 缺陷对HfO2薄膜的激光弱吸收与损伤阈值的影响
- 激光弱吸收是导致光学薄膜损伤的重要原因。在0.7-2.7*10Pa的氧分压下制备并测试了一组HfO膜。实验发现,当氧分压小于1.2*10Pa时,薄膜弱吸收越大,损伤阈值越低;当氧分压大于1.2*10Pa时,薄膜的损伤阈值...
- 卫耀伟刘浩潘峰吴倩罗晋刘志超郑轶
- 文献传递
- HfO_2/SiO_2双色膜在1064nm和532nm激光辐照下的损伤特性被引量：3
- 2011年
- 采用电子束蒸发的方式,制备了有氧化硅内保护层和没有氧化硅内保护层的1 064 nm高透过、532 nm高反射的HfO2/SiO2双色膜,测量了它们的光学性能以及在基频和倍频激光辐照下的抗损伤性能。结果表明:氧化硅内保护层提高了双色膜在基频光辐照下的损伤阈值,对双色膜在倍频光辐照下的损伤阈值无明显影响。通过观察薄膜的损伤形貌,分析破斑的深度信息结合驻波场分布,对两类双色膜在基频光和倍频光下的损伤机制做了初步探讨。分析表明:氧化硅内保护层提高了膜基界面的抗损伤性能,从而提高了双色膜在基频光下的损伤阈值。
- 潘峰陈松林李海波马平王震
- 关键词：激光损伤
- 结构参数计算方法和结构参数计算装置
- 本发明提供的结构参数计算方法和结构参数计算装置，涉及光学薄膜制造技术领域。所述结构参数计算方法包括：获取需要制作的激光反射膜的反射率、残余应力以及电场强度，其中，所述激光反射膜包括内部周期结构和外部匹配结构，所述内部周期...
- 潘峰王健马平卫耀伟张飞张清华刘民才
- 文献传递
- SiO_2和HfO_2薄膜光学性能的椭偏光谱测量被引量：1
- 2010年
- 结合XRD和原子力显微镜等方法,利用椭圆偏振光谱仪测试了单层SiO_2薄膜(K9基片)和单层HfO_2薄膜(K9基片)的椭偏参数,并用Sellmeier模型和Cauchy模型对两种薄膜进行拟合,获得了SiO_2薄膜和HfO_2薄膜在300～800 nm波段内的色散关系。用X射线衍射仪确定薄膜结构,并用原子力显微镜观察薄膜的微观形貌,分析表明:SiO_2薄膜晶相结构呈现无定型结构,HfO_2薄膜的晶相结构呈现单斜相结构;薄膜光学常数的大小和薄膜的表面形貌有关;Sellmeier和Cauchy模型较好地描述了该波段内薄膜的光学性能,并得到薄膜的折射率和消光系数等光学常数随波长的变化规律。
- 吴倩陈松林马平王震罗晋潘峰
- 关键词：光学参数椭偏测量光谱
- 紫外光学薄膜后处理分析研究
- 利用电子束蒸发技术制备氧化铪薄膜,并分别用两种后处理方法(氧气氛下退火和激光预处理)对样品进行了处理,然后,对样品的透过率、吸收和抗激光损伤阈值进行测试分析。实验结果表明激光预处理能有效降低样品的吸收值,提高样品的抗激光...
- 吴倩罗晋潘峰
- 关键词：光学参数后处理
- 文献传递
- 1064nm激光多脉冲下HfO_2/SiO_2高反膜损伤规律被引量：4
- 2012年
- 利用小口径元件损伤测试平台对HfO2/SiO2高反膜的1 064 nm激光多脉冲损伤规律进行了研究。研究结果表明:多脉冲作用下HfO2/SiO2高反膜损伤在形态上主要分为色斑和层裂两类,在一定条件的多发次脉冲作用下,色斑损伤存在向层裂损伤转换的趋势;层裂损伤尺寸随脉冲发次呈指数递增后趋于极大值的变化规律,且终态尺寸与辐照激光能量密度呈近似线性关系;色斑S-on-1损伤阈值与脉冲发次关系不明显,而层裂S-on-1损伤阈值随脉冲发次增加呈指数衰减后趋于极小值的变化规律。采用衰减公式拟合手段,对元件抗损伤能力退化规律进行了初步的定量分析。
- 刘志超陈松林罗晋潘峰李树刚
- 后处理对HfO_2薄膜光学特性及抗激光损伤阈值的影响被引量：6
- 2016年
- 利用电子束蒸发技术制备了氧化铪薄膜,并分别用氧气氛下退火和激光预处理两种后处理方法对样品进行了处理。介绍了两种后处理工艺和相关的设备,测试分析了样品的透过率、吸收和抗激光损伤阈值。对比了两种后处理方法对降低吸收和提高激光损伤阈值的效果,讨论了它们的作用原理。实验结果表明,激光预处理能有效降低样品的吸收值,提高样品的抗激光损伤阈值。采用一步法(50%初始损伤阈值)预处理后,三倍频氧化铪薄膜的损伤阈值从13J/cm^2提升到15J/cm^2;采用两步法(依次50%、80%初始损伤阈值)预处理后,三倍频氧化铪薄膜的损伤阈值从13J/cm^2提升到17.5J/cm^2,损伤几率曲线整体向高通量区域平移。
- 吴倩罗晋潘峰
- 关键词：HFO2薄膜镀膜技术后处理薄膜光学特性激光损伤阈值
- 带探测系统的激光预处理装置
- 本实用新型公开了一种带探测系统的激光预处理装置，属于光学技术领域。它包括激光预处理系统，由预处理光源、光源开关、能量调节器、聚焦器、分光光楔及位于其出射端的能量探测器构成；还包括探测系统，其包括沿被测样品入射线方向设置的...
- 马平刘志超郑轶陈松林潘峰
- 文献传递
- 真空条件下激光诱导光纤损伤特性研究被引量：4
- 2010年
- 实验研究并分析了调QNd:YAG脉冲激光诱导光纤损伤特性.设计了在真空条件下全石英光纤传输1064nm脉冲激光实验.通过将激光注入光纤端面气压降低到10—100Pa,光纤端面击穿阈值提高到大气环境下的1.85倍.结合光纤端面损伤形貌分析可知,光纤端面损伤主要是由于激光驻波场和烧蚀共同作用的结果,光纤端面或内部大量的缺陷降低了光纤抗激光损伤的能力.在真空条件下由于光纤端面光学击穿阈值的提高,激光诱导光纤损伤特性又表现出了另外一种损伤模式——光纤初始输入段损伤.它发生在光纤输入段附近,距离光纤输入端面为5—30mm之间,损伤形貌是长度为1—3mm的炸裂性损伤.通过理论和仿真分析,证明光纤初始输入段损伤是由于注入激光在光纤包层和纤芯界面处初次反射造成激光"聚焦"所引起.
- 赵兴海胡建平高杨潘峰马平
- 关键词：激光损伤光束传输真空石英光纤
- 激光量热法测量K9基片的表面吸收和体吸收被引量：1
- 2014年
- 表面抛光可能给K9基片带来额外的杂质和吸收,分离K9基片的表面吸收率与体吸收率有助于改进基片的加工质量和抛光工艺,对抗损伤能力研究具有重要意义。分析了激光量热法测量弱吸收的原理,采用符合ISO 11551要求的激光量热计测量K9基片的弱吸收。对相同工艺抛光的不同厚度K9基片进行了弱吸收表征,实验发现K9基片的弱吸收随着厚度增加近似线性增大。推导了表面吸收率和体吸收率的计算式,实验得出本样品的表面吸收率为1.21×10-5,体吸收率远大于表面吸收率,体吸收系数为1.72×10-3/cm。实验结果显示所用K9样品的吸收主要来自于材料本身,改善抛光工艺对降低其吸收率作用不大。
- 刘浩潘峰陈松林王震马平欧阳升卫耀伟
- 关键词：弱吸收体吸收
