白力静
- 作品数：102 被引量：526H指数：13
- 供职机构：西安理工大学更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金陕西省自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：金属学及工艺一般工业技术理学文化科学更多>>
- 反应磁控溅射制备AZO薄膜相结构的演化及机理研究被引量：3
- 2012年
- 在室温下,利用直流反应磁控溅射技术在不同的氧气流量下沉积ZnO∶Al(AZO)薄膜。采用XRD、SEM和TEM技术分析薄膜相成分、表面截面形貌及微观结构。结果表明:氧气流量为2.5 sccm时,沉积形成的薄膜为不透明具有金属导电性能的AZO/Zn(AZO)双层复合膜结构;氧气流量为3.5 sccm时,沉积形成了透明导电的AZO薄膜;氧气流量为5.0 sccm时,形成了透明不导电且含有纳米Al2O3颗粒的AZO薄膜;此外,AZO薄膜在400℃退火后,薄膜晶粒长大和(002)晶面方向择优生长更加明显以及高氧气流量沉积的AZO薄膜中的纳米Al2O3颗粒消失。
- 赵志明丁宇田亚萍张晓静马二云白力静蒋百灵
- 关键词：直流反应磁控溅射AZO薄膜
- 天然气燃料发动机用活塞燃烧室的防热蚀表面处理方法
- 一种天然气燃料发动机用活塞燃烧室的防热蚀表面处理方法，将铝合金活塞渗入氧化槽的碱性电解溶液中并接电源的正极，电源的负极接不锈钢板，通过对不同时间范围内电参数的控制，制备出满足燃烧室热蚀环境的致密性陶瓷层覆盖在铝合金活塞表...
- 李均明蒋百灵白力静时惠英
- 文献传递
- 基于图像处理的等离子体电解氧化反应状态识别的方法
- 本发明公开了基于图像处理的等离子体电解氧化反应状态识别的方法，包括：获取待处理火花图像，并得到工件表面的面积S；对待处理火花图像进行灰度化；将灰度化后的待处理火花图像的火花、背景进行分割，得到目标火花图像；对目标火花图像...
- 陈桂涛张子文王喆黄西平孙向东白力静
- 文献传递
- 热氧化温度对磁控溅射CrTiAlN梯度镀层表面形貌与组织结构的影响被引量：25
- 2005年
- 采用SEM和XRD法,分析了磁控溅射CrTiAliN梯度镀层的表面与断口形貌及其相组成随加热温度的变化规律。研究表明:CrTiAliN镀层在600℃之前物相和组织结构保持稳定,随后的升温过程中有相变行为,随着温度的升高,物相由以致密的非晶态物质为主,依次出现CrN、Cr2O3相和AlN等物相;相变的发生有利于镀层保持高温硬度和结合力。加热至900℃时,尽管在镀层表面观察到微区融化现象,但膜基结合紧密;加热至1100℃时镀层表面出现开裂并伴有剥落现象。从温度对镀层的氧化形貌及物相、组织转变机理分析,CrTiAlN梯度镀层在≤900℃时有良好的热稳定性。
- 白力静蒋百灵文晓斌张国君何家文
- 关键词：磁控溅射
- 一种改善腐蚀环境下镁合金疲劳性能的表面处理方法
- 一种改善腐蚀环境下镁合金疲劳性能的表面处理方法。本发明公开了一种改善镁合金疲劳性能，特别是含Cl<Sup>‑</Sup>腐蚀环境下的表面处理方法。具体为：对镁合金依次进行表面电解抛光处理、喷丸预形变强化处理、微弧氧化处理...
- 白力静刘永青黄米红董博轩陈桂涛
- 文献传递
- 磁控溅射技术制备硅纳米晶多层膜及微观结构表征
- 2012年
- 在室温下,分别利用常规磁控溅射和反应磁控溅射技术交替沉积Si薄膜和Si1-xNx薄膜在单晶硅基体上制备了Si/Si1-xNx纳米多层膜。接下来,在高温下对Si/Si1-xNx多层膜进行退火诱发各层中形成硅纳米晶。研究了Si1-xNx层厚度和N2流量沉积对Si/Si1-xNx多层膜中Si量子点形成的影响。TEM检测结果表明,N2流量为2.5mL/min时沉积的多层膜退火后形成了尺寸为20～30nm的等轴Si3N4纳米晶;N2流量为5.0mL/min时沉积的多层膜退火后在Si层和Si1-xNx多层中均形成了硅纳米晶,而在7.5mL/min N2流量下沉积的Si/Si1-xNx多层膜退火后仅在Si层中形成了硅纳米晶。
- 赵志明马二云张晓静田亚萍屈直丁宇曹智睿白力静张国君蒋百灵
- 关键词：磁控溅射技术TEM
- 偏压对CrTiAlN镀层组织形貌及磨损性能的影响被引量：21
- 2006年
- 利用闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术制备了耐磨CrTiAlN镀层,分析了溅射偏压对该镀层的形貌、相结构以及磨损性能的影响。研究表明:偏压对镀层的形貌、相结构以及与摩擦学性能有关的摩擦系数、硬度、结合力以及磨损率等参数都有影响。在制备CrTiAlN镀层的过程中,当偏压为-75V时镀层的耐磨损性最好,当偏压在-65V--85V变化时,镀层形貌的变化对镀层的磨损性能无明显影响,CrTiAlN镀层相结构的变化是影响磨损性能的主要原因。
- 白力静张国君蒋百灵
- 关键词：偏压形貌
- 热氧化温度对非平衡磁控溅射TiN镀层的影响被引量：1
- 2009年
- 通过SEM和XRD法,研究不同热氧化温度下闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术制备的TiN镀层形貌、相结构及性能的变化。结果表明:非平衡磁控溅射离子镀TiN镀层在700℃以下性能基本稳定,具有良好的热氧化性能,尽管600℃时生成少量TiO2相,但600℃之前断口形貌及组织结构保持稳定;700℃时镀层的单位质量氧化增重率迅速增加,氧化曲线出现拐点,镀层失效。
- 梁戈白力静蒋百灵
- 关键词：TIN镀层热氧化非平衡磁控溅射
- Cr/C复合镀层的制备及其力学性能研究被引量：1
- 2008年
- 采用磁控溅射技术,以溅射石墨靶为C元素主要来源的方法制备了不同碳含量的Cr/C复合镀层。研究了碳含量对镀层相结构及元素存在状态的影响,并考察了碳含量变化后镀层硬度,韧性,结合强度等力学参量的变化。结果表明:该方法制备的Cr/C镀层中碳化物相主要是Cr3C2。随着碳含量的增加,镀层由晶态向非晶态结构过渡;镀层中的碳化物相也相应减少;镀层的硬度则随之而上升,韧性则下降。碳含量为75.08%的镀层结合强度最差。碳含量为42.37%,51.93%表现出较好的综合力学性能。
- 苏阳蒋百灵白力静龙艳妮王伟
- 关键词：磁控溅射X射线衍射X射线光电子能谱力学性能
- Cr<Sub>x</Sub>Al<Sub>y</Sub>Y<Sub>1-x-y</Sub>N纳米复合刀具镀层制备方法
- 本发明公开了Cr<Sub>x</Sub>Al<Sub>y</Sub>Y<Sub>1-x-y</Sub>N纳米复合刀具镀层制备方法，具体为：首先对刀具进行清洗和离子清洗，然后依次在刀具表面沉积Cr打底层、Cr-N梯度过镀层...
- 白力静常克书黄米红李艳高峰
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