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蔡金华

作品数：5 被引量：0H指数：0
供职机构：南京大学更多>>
发文基金：国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域：一般工业技术理学建筑科学电气工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 3篇会议论文
  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 2篇一般工业技术
  • 1篇电气工程
  • 1篇建筑科学
  • 1篇理学

主题

  • 5篇磁光
  • 4篇磁光克尔
  • 4篇磁光克尔效应
  • 1篇金膜
  • 1篇金属
  • 1篇光学
  • 1篇光学常数
  • 1篇硅合金
  • 1篇过渡金属
  • 1篇合金
  • 1篇合金膜
  • 1篇钴
  • 1篇FE
  • 1篇磁光材料
  • 1篇磁光效应

机构

  • 5篇南京大学

作者

  • 5篇蔡金华
  • 3篇唐少龙
  • 3篇都有为
  • 1篇杨渭

传媒

  • 1篇南京大学学报...
  • 1篇第1届全国磁...
  • 1篇第十届全国磁...
  • 1篇中国物理学会...

年份

  • 1篇2001
  • 3篇1999
  • 1篇1998
共 5 条 记 录，以下是 1-5
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排序方式：
Co-Si合金膜的磁光克尔效应
蔡金华唐少龙都有为
关键词：磁光克尔效应
Fe-Co-Si合金中晶态-非晶态转变引起的磁光克尔效应增强
直流磁控溅射，在玻璃衬底上，分别在衬底温度（T a）为400℃和环绕大气室温（RT）下制备了Fe O.1Co O.9-xSi （x=0．13 0.280.34）合金膜。T a＝400 vC的样品主要包含co 2si和立方...
蔡金华杨渭
关键词：磁光克尔效应
过渡金属(Fe,Co)硅合金的磁光效应及其相应的光学常数
蔡金华
关键词：磁光效应
Co-Si合金膜的结构和磁光克尔效应
2001年
用射频磁控溅射在衬底温度（Ｔｓ）为 ４００℃和室温（ＲＴ）两种情形制备了Ｃｏ１－ｘＳｉｘ（０．０≤Ｘ≤０．３４）合金膜．Ｘ射线衍射结果表明在这些合金膜中出现了不同程度的ｈｃｐ（００２）取向．在室温下沉积的薄膜中，仅在ｘ＝０．０时有明显的ｈｃｐ（００２）取向．在４００℃下沉积的薄膜中，随着硅含量ｘ的增加，ｈｃｐ（００２）取向先是增强，继而在Ｘ＝０．３４时消失．相应与此的４００℃下沉积的薄膜的θｋ（Ｈ）、（Ｍ（Ｈ））回线在ｘ＝０．２３时出现了磁滞现象（Ｈｃ≈６４ｋＡ／ｍ），并且有大约２０％的比剩余克尔旋转（比剩余磁化强度）．同时，当Ｘ≤０．２３，硅的加入使得钻硅合金的克尔旋转在蓝光及近紫外区相比于纯钻来说有所加强，其值约为－０．３°～－０．４°．
蔡金华唐少龙都有为
关键词：合金膜磁光克尔效应磁光材料
Co-Si合金膜的磁光克尔效应
蔡金华唐少龙都有为
关键词：磁光克尔效应
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