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蔺云

作品数:5 被引量:3H指数:1
供职机构:西北工业大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家重点基础研究发展计划国家教育部博士点基金更多>>
相关领域:一般工业技术化学工程电子电信更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 2篇专利

领域

  • 2篇一般工业技术
  • 1篇化学工程
  • 1篇电子电信

主题

  • 3篇ZNTE
  • 2篇热辐射
  • 2篇晶体
  • 2篇厚膜
  • 2篇CDZNTE
  • 2篇GAAS衬底
  • 2篇衬底
  • 1篇电学
  • 1篇性能研究
  • 1篇压强
  • 1篇应变弛豫
  • 1篇生长速率
  • 1篇退火
  • 1篇退火过程
  • 1篇温度梯度
  • 1篇晶体内
  • 1篇晶体生长
  • 1篇光学
  • 1篇光学性
  • 1篇光学性能

机构

  • 5篇西北工业大学

作者

  • 5篇介万奇
  • 5篇蔺云
  • 3篇汤三奇
  • 2篇周岩
  • 2篇查钢强
  • 2篇査钢强
  • 2篇李嘉伟
  • 2篇曹昆
  • 1篇王涛
  • 1篇何亦辉
  • 1篇徐亚东
  • 1篇张昊
  • 1篇李嘉伟
  • 1篇孙晓燕
  • 1篇杨睿
  • 1篇郭欣
  • 1篇呼唤
  • 1篇杨敏
  • 1篇刘惠敏

传媒

  • 2篇功能材料
  • 1篇无机材料学报

年份

  • 1篇2017
  • 2篇2015
  • 2篇2014
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
近空间升华法制备CdZnTe外延厚膜及其性能研究
2014年
采用近空间升华法在GaAs(100)衬底上外延生长CdZnTe单晶厚膜,用化学腐蚀的方法去除掉GaAs(100)衬底后,对CdZnTe外延膜上、下表面的形貌、成分、结构以及电学性能进行了表征分析。SEM和EDS的结果表明,CdZnTe外延膜表面平滑致密且膜中成分分布较均匀;红外透过成像分析的结果表明,CdZnTe厚膜中无明显的Te夹杂相;X射线摇摆曲线、PL谱的结果表明,随着薄膜厚度的增加,CdZnTe外延膜中的晶体缺陷减少,应变弛豫,结晶质量提高,通过增加膜厚可以获得高质量的CdZnTe外延膜;电学测试表明,CZT外延膜的电阻率在1010Ω·cm数量级,且具有较好的光电响应特性,可用于高能射线探测。
蔺云介万奇查钢强张昊周岩汤三奇李嘉伟
关键词:PL谱应变弛豫
Cd/Zn气氛退火过程中CdZnTe晶体内Te夹杂的迁移研究被引量:2
2014年
通过红外透过成像研究了 Cd/Zn 气氛退火过程中 Cd0.9 Zn0.1 Te∶In 晶体内 Te 夹杂的密度及尺寸分布的演变.结果发现,Cd/Zn 气氛退火前,晶体中的 Te 夹杂密度分布比较均匀;退火后,晶体高温端近表面区域的 Te 夹杂密度较退火前提高了1个数量级,而晶体内部的 Te 夹杂密度则较退火前降低了1个数量级,且其密度沿温度梯度方向逐渐增加.退火前,晶体表面和内部的 Te 夹杂的直径主要分布在1~25μm;退火后,在晶体表面,直径<45μm 的 Te 夹杂密度显著增大;而在晶体内部,直径<5μm 和>25μm的 Te 夹杂密度显著增大.导致这些现象的原因是退火过程中,Te 夹杂沿着温度梯度方向不断向晶体表面迁移,在迁移过程中尺寸相近的 Te 夹杂通过合并长大,尺寸相差较大的 Te 夹杂则以 Ostwald 熟化方式长大,并使小尺寸的 Te 夹杂更小.但由于熟化不充分,在 Ostwald 熟化长大过程中留下了很多尺寸<5μm 的 Te 夹杂颗粒.
周岩介万奇何亦辉蔺云郭欣刘惠敏王涛徐亚东查钢强
关键词:CDZNTECDZN合金退火
温度梯度溶液法生长的Cr掺杂的ZnTe晶体的表征被引量:1
2015年
以Cr Te作为掺杂源、以Te作为溶剂,用温度梯度溶液法生长了Cr掺杂的Zn Te晶锭。晶锭头部的晶粒尺寸较大(>10 mm×10 mm),且Te夹杂相较少。Te夹杂相的大小、形状和分布可以反映晶锭中的温场分布。晶锭的径向非对称温场导致富Te相沿径向非对称分布。Te夹杂相在温度梯度作用下的热迁移会导致其相互融合长大、变长。Te夹杂相也会在晶体中引入裂纹和空洞等缺陷。部分未被掺入Zn Te中的Cr Te富集于固液界面处,表明温度梯度溶液法生长晶体时具有一定的排杂作用。Cr掺杂的Zn Te晶体的电阻率(约1000?·cm)高于未掺杂的Zn Te(约300?·cm)。Cr掺杂晶体在约1750 nm处的吸收峰表明Cr2+离子被成功地掺入了Zn Te中。但是Cr掺杂后晶体的红外透过率降低,表明Cr掺杂引入了较多的缺陷。
杨睿介万奇孙晓燕杨敏呼唤蔺云
关键词:晶体生长
在(100)GaAs衬底上制备ZnTe外延厚膜的方法
本发明公开了一种在(100)GaAs衬底上制备ZnTe外延厚膜的方法,用于解决现有方法制备ZnTe外延厚膜生长速率慢的技术问题。技术方案是将经过处理的ZnTe生长源及(100)GaAs衬底放入生长炉腔室内,生长前采用高纯...
査钢强李嘉伟李颖锐曹昆席守志蔺云汤三奇介万奇
在(100)GaAs衬底上制备ZnTe外延厚膜的方法
本发明公开了一种在(100)GaAs衬底上制备ZnTe外延厚膜的方法,用于解决现有方法制备ZnTe外延厚膜生长速率慢的技术问题。技术方案是将经过处理的ZnTe生长源及(100)GaAs衬底放入生长炉腔室内,生长前采用高纯...
査钢强李嘉伟李颖锐曹昆席守志蔺云汤三奇介万奇
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