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麻茂生

作品数:20 被引量:6H指数:1
供职机构:中国科学技术大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家教育部博士点基金更多>>
相关领域:理学电子电信化学工程更多>>

文献类型

  • 15篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 14篇理学
  • 4篇电子电信
  • 1篇化学工程

主题

  • 8篇电子能
  • 8篇电子能谱
  • 6篇光电子能谱
  • 6篇半导体
  • 4篇金属
  • 4篇碱金属
  • 4篇光电子能谱研...
  • 3篇砷化镓
  • 3篇
  • 3篇CS
  • 3篇INP
  • 2篇异质结
  • 2篇磷化铟
  • 2篇共吸附
  • 2篇半导体表面
  • 2篇XPS研究
  • 2篇
  • 2篇
  • 2篇
  • 2篇GAAS

机构

  • 15篇中国科学技术...
  • 4篇中国科学院
  • 2篇中国科技大学
  • 1篇中国电子科技...
  • 1篇合肥国家同步...
  • 1篇波恩大学

作者

  • 17篇麻茂生
  • 12篇刘先明
  • 11篇朱警生
  • 8篇徐彭寿
  • 6篇徐世红
  • 6篇季明荣
  • 6篇许振嘉
  • 2篇吴建新
  • 2篇吴建新
  • 2篇杨宏伟
  • 2篇庄叔贤
  • 2篇陆尔东
  • 1篇潘海滨
  • 1篇王俊新
  • 1篇方文秀
  • 1篇傅佩珍
  • 1篇韩荣典
  • 1篇周先意
  • 1篇屠兢
  • 1篇翁惠民

传媒

  • 5篇Chines...
  • 3篇中国科学技术...
  • 3篇真空科学与技...
  • 1篇Journa...
  • 1篇核技术
  • 1篇物理化学学报
  • 1篇电子与封装

年份

  • 1篇2020
  • 1篇2015
  • 1篇1997
  • 1篇1996
  • 4篇1995
  • 6篇1994
  • 2篇1993
  • 1篇1990
20 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
光电子能谱研究Ce表面的氧化被引量:2
1997年
利用光电子能谱技术研究了室温下Ce膜表面的氧化,分析了在不同氧气暴露量下,稀土金属Ce氧化状态和样品功函数的变化。结果表明,在O2吸附的过程中,生成两种Ce的氧化物。在低的暴露量时,氧在Ce表面的吸附十分迅速,生成Ce2O3。同时,Ce2O03中的Ce3d和Ols谱峰随着氧气暴露量的增加向低结合能方向漂移。在高的暴露量下,氧在表面的吸附趋于缓慢,表面的Ce2O3被氧化成CeO2。通过对样品加热,能使得四价的Ce重新转变回三价。功函数随着O2的暴露量增加先下降后上升。
杨宏伟麻茂生刘先明季明荣朱警生吴建新
关键词:光电子能谱
光电子能谱研究O_2和Rb在InSb(111)表面上共吸附被引量:1
1995年
本文利用光电子能谱(XPS和UPS)技术研究了室温TO2和Rb在InSb(111)表面上共吸附,分析了碱金属Rb在InSb(111)表面上吸附的健合状态以及对衬底的催化氢化作用。结果表明,Rb与InSb表面上的Sb发生化学反应,Rb在InSb表面上吸附提高了衬底表面的氧化速率,衬底表面上的In和Sb被氧化,分别生成锑和铟的氧化物。在O2吸附的过程中,还观察到两种Rb的氧化物,即过氧化铷(Rb2O2)和超氧化铷(RbO2)。通过芯能级和价电子的变化,揭示了各种氧离子态(O2-,O,O)的形成。
吴建新麻茂生刘先明朱警生季明荣
关键词:光电子能谱半导体表面
氯在Cu(100)面上的吸附及其对氧共吸附的影响的电子能谱研究
1993年
利用UPS、XPS、AES、△φ和热脱附等方法,研究了室温、低分压下氯在Cu(100)面上的吸附行为以及它对氧共吸附的影响。氯解离化学吸附在铜表面上,其吸附过程包括初始快速吸附,然后缓慢增加至饱和两个步骤。吸附引起铜表面轻微氧化,但表面没有重排,即使升温氯原子也没有进一步向下扩散,热脱附的唯一产物是氯原子。室温下,氯的预吸附降低甚至完全阻止了氧的接续吸附;而预吸附氧至饱和也不会阻碍氯的接续吸附,氯的接续吸附促使氧原子进入体相和铜原子向表层扩散。
方文秀陈嵘嵘庄叔贤麻茂生季明荣
关键词:共吸附电子能谱
Ar^+离子注入对Ge/GaAs(100)异质结能带偏离影响的XPS研究
1993年
用X光电子能谱(XPS)方法研究了界面特性和Ge/GaAs(100)异质结的能带偏离关系。实验表明,当在清洁的GaAs(100)表面生长Ge异质结时,其价带偏离(△E_v)与界面特性无关,而在Ar离子注入的GaAs(100)表面上生长的Ge异质结,其价带偏离与Ar^+离子的浓度分布有关。
徐世红刘先明朱警生麻茂生张裕恒徐彭寿许振嘉
关键词:异质结砷化镓离子注入
Rb/InP(100)界面的电子能谱研究
1994年
用光电子能谱技术(XPS和UPS)研究了Rb/InP(100)的界面形成和电子结构.实验结果表明,当Rb淀积到InP(100)表面时,它首先表现为物理吸附,形成突变界面.随Rb复盖量的增加,Rb向InP体内扩散,Rb-In之间发生置换反应.此时Rb-P形成化学健.退火后,Rb一部分脱附,一部分向体内扩散.同时,In和P也向外扩散.在较高的温度下,更多的In向外偏析.
徐彭寿徐世红刘先明朱警生麻茂生张裕恒许振嘉
关键词:碱金属半导体光电子能谱
金属夹层对Ge/GaAs(100)能带偏离影响的研究
1996年
用光电发射的方法研究了碱金属Na和碱土金属Mg对Ge/GaAs(100)异质结形成及能带偏离的影响。实验结果表明,Na和Mg的薄夹层可使Ge/GaAs(100)的价带偏离分别增加0.19和0.18eV。通过Na,Mg和Al夹层的对比研究,可认为金属夹层对异质结能带偏离的影响与金属的电负性及其与衬底的相互作用有关。
徐彭寿徐世红潘海滨陆尔东朱警生刘先明麻茂生
关键词:半导体异质结砷化镓
铁和锰的硅化物的表面研究
麻茂生
碱金属Cs和InP(100)界面电子结构的研究
1994年
用光电子能谱技术(XPS和UPS)研究了碱金属Cs和InP(100)的界面形成和退火效应。实验结果表明,在覆盖低于0.5ML时,Cs和InP(100)形成突变界面。当覆盖度增加后,Cs-In产生置换反应,界面形成混合相,退火后,Cs一部分脱附,一部分与In产生置换反应而留在InP体内。
徐彭寿徐世红刘先明朱警生麻茂生张裕恒许振嘉
关键词:碱金属电子结构磷化铟
碱金属Cs和Na与GaAs(100)界面相互作用的光电子能谱研究
1994年
用光电子能源谱技术(XPS和UPS)研究了金属Cs和Na与GaAs(100)的界面形成。实验结果表明,Cs和Na吸附在GaAs(100)表面时,衬底As向外扩散,形成混合相。在Na吸附的表面,As扩散程度比Cs吸附的表面大。随着复盖层厚度增加,吸附层开始金属化。
徐彭寿徐世红刘先明朱警生麻茂生张裕恒许振嘉
关键词:碱金属砷化镓光电子谱
应用光电子能谱研究氧和碱金属在半导体表面上吸附研究
<正>获奖者应用X线电子能谱(XPS)和紫外光电子能谱(UPS)技术,在超高真空下原位研究氧和碱金属在清洁的InSb、SiC、GaSb、Si表面上共吸附。对于InSb、SiC、GaSb半导体样品,首先在清洁的表面上吸附一...
吴建新麻茂生季明荣朱警生刘先明杨宏伟
文献传递
共2页<12>
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