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余画洋

作品数：1 被引量：43H指数：1
供职机构：兰州大学物理科学与技术学院等离子体与金属材料研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：金属学及工艺更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 1篇氮化
  • 1篇氮化钛
  • 1篇氮化钛涂层
  • 1篇性能研究
  • 1篇涂层
  • 1篇气相沉积
  • 1篇钛涂层
  • 1篇物理气相沉积
  • 1篇纳米
  • 1篇纳米压入
  • 1篇PVD

机构

  • 1篇兰州大学
  • 1篇中国科学院

作者

  • 1篇阎逢元
  • 1篇阎鹏勋
  • 1篇韩修训
  • 1篇余画洋
  • 1篇刘维民
  • 1篇徐建伟
  • 1篇吴志国

传媒

  • 1篇摩擦学学报（...

年份

  • 1篇2002
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
两种物理气相沉积氮化钛涂层的结构及摩擦性能研究被引量：43
2002年
分别利用磁过滤阴极弧等离子体沉积装置和直流磁控溅射装置在不锈钢基底上制备了 Ti N涂层 ,采用 X射线光电子能谱仪、X射线衍射仪和扫描电子显微镜对涂层的结构及形貌进行了表征 ;利用纳米压痕仪测定了涂层的硬度 ;在 DF- PM型动摩擦系数精密测定仪上考察了涂层的摩擦学性能 .结果表明 :与采用直流磁控溅射法在 40 0℃基底上制备的 Ti N涂层相比 ,采用磁过滤沉积装置在室温下制备的 Ti N涂层更加致密 ,表面平滑 ,最大硬度达 3 5 GPa,摩擦系数明显较小 ( 0 .1～ 0 .4) 。
韩修训阎鹏勋阎逢元刘维民余画洋徐建伟吴志国
关键词：物理气相沉积氮化钛涂层纳米压入PVD
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共1页<1>
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