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全祖赐

作品数：2 被引量：2H指数：1
供职机构：武汉大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：电子电信理学更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇理学

主题

  • 1篇电学
  • 1篇室温铁磁性
  • 1篇铁磁
  • 1篇铁磁性
  • 1篇微结构
  • 1篇无机非金属
  • 1篇无机非金属材...
  • 1篇离子刻蚀
  • 1篇刻蚀
  • 1篇刻蚀速率
  • 1篇非金属材料
  • 1篇BST薄膜
  • 1篇表面形貌
  • 1篇Y
  • 1篇X
  • 1篇Z

机构

  • 1篇武汉大学
  • 1篇湖北大学

作者

  • 2篇全祖赐
  • 1篇张柏顺
  • 1篇章天金
  • 1篇郭涛

传媒

  • 1篇电子元件与材...

年份

  • 1篇2010
  • 1篇2006
共 2 条 记 录，以下是 1-2
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排序方式：
BST薄膜的磁增强反应离子刻蚀研究被引量：2
2006年
分别以CF4/Ar和CF4/Ar/O2作为刻蚀气体,采用磁增强反应离子刻蚀(MERIE)技术对sol-gel法制备的BST薄膜进行刻蚀。结果表明,刻蚀速率与刻蚀气体的混合比率呈现非单调特性。当CF4/Ar的气体流量比R(CF4:Ar)为10:40时,刻蚀速率达到极大值。当CF4/Ar/O2的气体流量比R(CF4:Ar:O2)为9:36:5时,刻蚀速率达到最大值,最大刻蚀速率为8.47nm/min。原子力显微镜(AFM)分析表明,刻蚀后的薄膜表面粗糙度变大。对刻蚀后的薄膜再进行适当的热处理,可以去除部分残留物。
张柏顺全祖赐郭涛章天金
关键词：无机非金属材料BST薄膜刻蚀速率表面形貌
环境友好型多功能氧化物薄膜的微结构、光学、电学和磁学性能研究
和有毒并有挥发性的铅基功能薄膜相比,Ba1-xSrxTiO3(x=0.1,0.35)薄膜、Bi1-yCeyFeO3 (0≤y≤0.25) (BCFO)薄膜和Zn0.95-zCo0.05CuzO (0≤z≤0.015) (...
全祖赐
关键词：微结构电学室温铁磁性
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