吴晨阳
- 作品数：2 被引量：6H指数：1
- 供职机构：郑州大学物理工程学院材料物理教育部重点实验室更多>>
- 发文基金：河南省基础与前沿技术研究计划项目国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：理学更多>>
- p型微晶硅膜的研究及其在异质结太阳电池中的应用被引量：6
- 2012年
- 首先采用射频等离子体增强化学气相沉积技术制备了电导率为0.13 S/cm、晶化率为50%的p型微晶硅,然后制备了μc-Si∶H(p)/c-Si(n)异质结太阳电池。初步研究了硼掺杂比、辉光功率密度、p型硅薄膜的厚度和氢处理时间等这些参数对电池开压的影响。在优化的工艺参数下得到异质结电池最大开路电压Voc为564mV。
- 赵会娟谷锦华吴晨阳杨仕娥陈永生卢景霄
- 关键词：异质结太阳电池开路电压
- 椭圆偏振光谱表征单晶硅衬底上生长的非晶硅和外延硅薄膜
- 2012年
- 本文采用射频等离子体增强化学气相沉积(rf-PECVD)技术在单晶硅衬底上沉积了两个系列的硅薄膜.通过对样品进行固定角度椭圆偏振测试,结果表明第一个系列硅薄膜为非晶硅,形成了突变的a-Si:H/c-Si异质结构,此结构在HIT电池中有利于形成好的界面特性,对于非晶硅薄膜采用通常的Tauc-Lorentz摇摆模型(Genosc)拟合结果很好;第二个系列硅薄膜为外延硅,对于外延硅薄膜,随着膜厚增加晶化率降低,当外延硅薄膜厚度为46 nm时开始非晶硅生长.对于外延硅通常采用EMA模型(即将硅薄膜体层看成由非晶硅和c-Si构成的混合层)拟合结果较好,当硅薄膜中出现非晶硅生长时,将体层分成混合层和非晶硅两层,采用三层模型拟合结果很好.本文证实了椭偏光谱分析采用不同的模型可对单晶硅衬底上不同结构的硅薄膜进行有效表征.
- 吴晨阳谷锦华冯亚阳薛源卢景霄
- 关键词：异质结椭圆偏振光谱
