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张安邦

作品数:8 被引量:2H指数:1
供职机构:贵州大学更多>>
发文基金:贵州省科技计划项目贵阳市科学技术计划项目更多>>
相关领域:理学自动化与计算机技术电子电信更多>>

文献类型

  • 6篇专利
  • 2篇期刊文章

领域

  • 2篇理学
  • 1篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 3篇单色光
  • 3篇电容
  • 3篇电容器
  • 3篇透明电极
  • 3篇介质
  • 3篇介质薄膜
  • 3篇金属薄膜电极
  • 3篇缓冲层
  • 3篇白光
  • 3篇薄膜电容
  • 3篇薄膜电容器
  • 3篇成膜
  • 3篇成膜性
  • 3篇膜电容器
  • 2篇钝化
  • 2篇陶瓷
  • 2篇芯片
  • 2篇芯片结构
  • 2篇金属
  • 2篇BATIO

机构

  • 8篇贵州大学
  • 1篇清华大学

作者

  • 8篇张安邦
  • 8篇邓朝勇
  • 3篇王新
  • 3篇李绪诚
  • 3篇石健
  • 3篇杨利忠
  • 3篇马亚林
  • 1篇张荣芬
  • 1篇祁小四
  • 1篇任丽
  • 1篇李峥

传媒

  • 1篇电子元件与材...
  • 1篇微纳电子技术

年份

  • 2篇2014
  • 2篇2013
  • 4篇2012
8 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
发光二极管阵列芯片结构及其制备方法
本发明公开了一种发光二极管阵列芯片结构,包括衬底,其特征在于:在衬底上设有缓冲层,在缓冲层的顶面设有n型层,在缓冲层与n型层之间设有线状平行排列的n型层引线;在n型层的顶面设有RGB发光层,在RGB发光层、n型层及缓冲层...
邓朝勇李绪诚王新张安邦杨利忠
发光二极管阵列芯片结构及其制备方法
本发明公开了一种发光二极管阵列芯片结构,包括衬底,其特征在于:在衬底上设有缓冲层,在缓冲层的顶面设有n型层,在缓冲层与n型层之间设有线状平行排列的n型层引线;在n型层的顶面设有RGB发光层,在RGB发光层、n型层及缓冲层...
邓朝勇李绪诚王新张安邦杨利忠
文献传递
叠片式金属化薄膜电容及其制备方法
本发明公开了一种叠片式金属化薄膜电容,包括绝缘基板,在绝缘基板上设有金属薄膜电极<Image file="2011103862656100004DEST_PATH_IMAGE001.GIF" he="5" imgCont...
邓朝勇马亚林石健张安邦
文献传递
阵列式真彩发光二极管芯片
本实用新型公开了一种阵列式真彩发光二极管芯片,包括衬底,其特征在于:在衬底上设有缓冲层,在缓冲层的顶面设有n型层,在缓冲层与n型层之间设有线状平行排列的n型层引线;在n型层的顶面设有RGB发光层,在RGB发光层、n型层及...
邓朝勇李绪诚王新张安邦杨利忠
文献传递
复合陶瓷BaTiO_3/Ni_(0.5)Zn_(0.5)Fe_2O_4的常温巨介电特性研究被引量:2
2014年
采用传统的固相反应法和氧化物陶瓷工艺制备了无铅磁电复合陶瓷(1–x)BaTiO3/x Ni0.5Zn0.5Fe2O4(质量配比,x=0,0.2,0.5,0.8)(BTO/NZF),研究了NZF含量对复合陶瓷的物相组成、微观形貌、致密度和介电性能的影响。结果表明:当NZF含量较低(x=0,0.2,0.5)时,NZF对复合陶瓷有介电稀释效应;当NZF含量较高(x=0.8)时,复合陶瓷晶粒尺寸、致密度及两相间接触面积增大,其NZF含量达到复合陶瓷渗流阈值,产生Maxwell-Wagner(M-W)表面极化效应,使得复合陶瓷在低频(f=40 Hz)下具有高的巨介电常数(ε′=312 238)和较低的介电损耗(tanθ=0.40)。
任丽张荣芬李峥张安邦邓朝勇
关键词:钛酸钡镍锌铁氧体复合陶瓷巨介电常数介电损耗
用于铁电BaTiO_3薄膜的Ta_2O_5隔离埋层(英文)
2013年
BaTiO3薄膜的铁电性通常会受到界面效应的影响而衰减。提出了使用Ta2O5作为隔离层能够有效抑制界面效应。利用脉冲激光沉积技术,在(100)晶向的SrTiO3衬底上成功制备了BaTiO3/Ta2O5/SrRuO3三层复合薄膜结构。样品的XRD结果表明所得到的薄膜为四角结构的BaTiO3,样品的三层膜结构能够在场发射扫描电镜(FESEM)中清楚观察到。实验所测的电滞回线表明该三层BaTiO3/Ta2O5/SrRuO3薄膜的饱和极化强度、剩余极化强度和矫顽电压分别是58.7μC/cm2,20.6μC/cm2,20.3 V。与两层的BaTiO3/SrRuO3薄膜相比,该BaTiO3/Ta2O5/SrRuO3三层复合薄膜能够表现出更加优异的铁电性。因而,提供了一个能使BaTiO3薄膜的集成变得简单可行的方法,并且可以用作提升相关铁电器件的性能。
张安邦祁小四邓朝勇
关键词:铁电陶瓷铁电性
叠片式金属化薄膜电容及其制备方法
本发明公开了一种叠片式金属化薄膜电容,包括绝缘基板,在绝缘基板上设有金属薄膜电极Ⅰ及金属薄膜电极Ⅱ,在金属薄膜电极Ⅰ与金属薄膜电极Ⅱ之间设有将它们完全分隔的介质薄膜,金属薄膜电极Ⅰ、金属薄膜电极Ⅱ及介质薄膜组成叠片式结构...
邓朝勇马亚林石健张安邦
叠片式金属化薄膜电容
本实用新型公开了一种叠片式金属化薄膜电容,包括绝缘基板,在绝缘基板上设有金属薄膜电极I及金属薄膜电极I,在金属薄膜电极I与金属薄膜电极I之间设有将它们完全分隔的五氧化二钽介质薄膜,金属薄膜电极I、金属薄膜电极I及五氧化二...
邓朝勇马亚林石健张安邦
文献传递
共1页<1>
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