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王兵冰

作品数:3 被引量:6H指数:2
供职机构:北京大学深圳研究生院更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 3篇电子电信

主题

  • 2篇短沟效应
  • 2篇HALO
  • 1篇短沟道
  • 1篇短沟道效应
  • 1篇亚微米
  • 1篇亚微米器件
  • 1篇优化设计
  • 1篇载流子
  • 1篇深亚微米
  • 1篇深亚微米器件
  • 1篇热载流子
  • 1篇热载流子效应
  • 1篇阈值电压
  • 1篇阈值电压漂移
  • 1篇微米
  • 1篇离子注入
  • 1篇沟道
  • 1篇沟道效应
  • 1篇NM
  • 1篇NMOS

机构

  • 3篇北京大学

作者

  • 3篇王兵冰
  • 2篇汪洋
  • 2篇黄如
  • 2篇张兴

传媒

  • 2篇固体电子学研...

年份

  • 1篇2007
  • 2篇2006
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
Halo注入角度对热载流子效应的影响及优化被引量:2
2007年
通过模拟和实验研究了不同的halo注入角度的NMOSFET,研究发现halo的注入角度越大,热载流子效应的退化越严重。考虑到由于热载流子的注入造成栅氧化层损伤,使器件可靠性变差,halo注入时应该采用小的倾角注入。
王兵冰汪洋黄如张兴
关键词:HALO热载流子效应短沟效应
超深亚微米器件的优化设计及实验研究
目前,MOSFET的特征尺寸已经进入亚100nm量级,短沟效应、DIBL(漏致势垒降低)效应等因素的影响越来越严重,器件继续按比例缩小将面临更大的挑战。为了解决这些问题,人们已经提出了很多新型器件结构,例如多栅器件、UT...
王兵冰
关键词:超深亚微米器件优化设计短沟效应阈值电压漂移MOS器件
文献传递
Sub-100 nm NMOS Halo工艺优化分析被引量:5
2006年
短沟道效应是MOS器件特征尺寸进入Sub-100nm后必须面对的关键挑战之一。Halo结构能够有效地抑制短沟道效应,合理的Halo区掺杂分布会极大地改善小尺寸器件性能。文中采用器件和工艺模拟工具ISE-TCAD研究形成Halo结构的工艺参数对器件性能的影响,并进行优化。分析表明,Halo注入角度、能量和剂量的增大会提高器件的阈值电压和开关比,降低泄漏电流和阈值漂移,有效抑制SCE、DIBL效应,但同时也会部分地降低驱动能力,即Halo注入参数对器件性能的影响不是简单的线性关系,需要根据具体条件寻求优化值。
汪洋王兵冰黄如张兴
关键词:HALO短沟道效应离子注入
共1页<1>
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