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王津

作品数：4 被引量：0H指数：0
供职机构：湖南文理学院更多>>
相关领域：文化科学更多>>

合作作者

文献类型

  • 4篇中文专利

领域

  • 1篇文化科学

主题

  • 4篇多孔硅
  • 4篇光学
  • 4篇光学特性
  • 4篇光子
  • 4篇光子器件
  • 2篇均匀性
  • 2篇腐蚀电流
  • 2篇腐蚀电流密度
  • 1篇多层膜
  • 1篇多孔硅微腔
  • 1篇氧原子
  • 1篇原子
  • 1篇体硅
  • 1篇微腔
  • 1篇物理强度
  • 1篇光滑度
  • 1篇厚膜

机构

  • 4篇湖南文理学院

作者

  • 4篇胡惟文
  • 4篇龙永福
  • 4篇张爱龙
  • 4篇曹斌芳
  • 4篇王津
  • 2篇张晋平
  • 2篇彭元杰
  • 2篇王先春
  • 2篇雷立云

年份

  • 1篇2017
  • 2篇2015
  • 1篇2013
共 4 条 记 录，以下是 1-4
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排序方式：
一种能稳定多孔硅膜物理微结构的方法
一种能稳定多孔硅膜物理微结构的方法，属半导体材料技术领域。该方法是在多孔硅膜的形成过程中，就对多孔硅膜的内表面使用过氧化氢（H<Sub>2</Sub>O<Sub>2</Sub>）并使用短波射线照射同时进行氧化处理，边对体...
龙永福王先春胡惟文曹斌芳张爱龙王津
文献传递
能提高多孔硅薄膜物理微结构及光学特性均匀性的方法
一种能提高多孔硅薄膜物理微结构及光学特性均匀性的方法，是通过采用递减腐蚀电流密度的方法，减少纵向方向的多孔度或提高折射率，抵消在恒腐蚀电流条件下随腐蚀深度增加导致增加的多孔度或减少折射率，从而使两者达到动态平衡状态，来提...
龙永福张晋平雷立云胡惟文曹斌芳张爱龙王津彭元杰
文献传递
能提高多孔硅薄膜物理微结构及光学特性均匀性的方法
一种能提高多孔硅薄膜物理微结构及光学特性均匀性的方法，是通过采用递减腐蚀电流密度的方法，减少纵向方向的多孔度或提高折射率，抵消在恒腐蚀电流条件下随腐蚀深度增加导致增加的多孔度或减少折射率，从而使两者达到动态平衡状态，来提...
龙永福张晋平雷立云胡惟文曹斌芳张爱龙王津彭元杰
文献传递
一种能稳定多孔硅膜物理微结构的新方法
一种能稳定多孔硅膜物理微结构的新方法，属半导体材料技术领域。该方法是在多孔硅膜的形成过程中，就对多孔硅膜的内表面使用过氧化氢（H<Sub>2</Sub>O<Sub>2</Sub>）并使用短波射线照射同时进行氧化处理，边对...
龙永福王先春胡惟文曹斌芳张爱龙王津
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