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黄士勇

作品数：5 被引量：14H指数：2
供职机构：浙江大学信息与电子工程学系更多>>
相关领域：电子电信金属学及工艺理学机械工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 1篇学位论文

领域

  • 3篇电子电信
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇机械工程
  • 1篇理学

主题

  • 3篇光谱
  • 3篇光谱法
  • 3篇ITO膜
  • 2篇沉积速率
  • 1篇等离子体
  • 1篇氧化膜
  • 1篇氧化铟
  • 1篇氧化铟锡
  • 1篇在线控制
  • 1篇真空
  • 1篇真空镀膜
  • 1篇透光率
  • 1篇退火
  • 1篇线控制
  • 1篇技术工艺
  • 1篇ITO

机构

  • 5篇浙江大学

作者

  • 5篇黄士勇
  • 4篇任高潮
  • 4篇王德苗
  • 4篇陈抗生

传媒

  • 1篇浙江大学学报...
  • 1篇材料研究学报
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇真空电子技术

年份

  • 4篇1997
  • 1篇1996
共 5 条 记 录，以下是 1-5
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排序方式：
光谱法在线控制ITO膜的制备
1996年
ＩＴＯ膜的特性受到溅射过程中很多因素的影响，但是实验证明ＩＴＯ膜的沉积速率与溅射过程中等离子体的特征光谱强度及此时靶电流比值成正比。本文提出了用光谱法在线控制ＩＴＯ透明导电膜的制备过程、实验结果。
黄士勇王德苗任高潮陈抗生
关键词：光谱法在线控制ITO膜沉积速率
光谱法控制溅射速率的研究被引量：2
1997年
在磁控反应溅射方法制备薄膜的过程中，等离子体发出较强的光，提出了用光谱控制溅射速率方法，并以该方法在ITO膜中的应用为例，说明该方法在实际应用中的具体过程。
王德苗黄士勇任高潮陈抗生
关键词：光谱法等离子体ITO膜真空镀膜
真空和大气退火对 ITO 膜特性的影响被引量：11
1997年
ＩＴＯ膜主要受溅射过程中溅射参数的影响．本文分析和验证真空和大气退火也改善和提高ＩＴＯ的特性，根据我们的实验条件，本文主要研究退火工艺对ＩＴＯ膜的面电阻、可见光透过率、热稳定性及晶向结构等特性的影响．
王德苗黄士勇任高潮陈抗生
关键词：退火透光率
ITO透明导电膜规模生产技术工艺研究
黄士勇
关键词：技术工艺
光谱法控制ITO膜沉积速率被引量：1
1997年
用磁控反应溅射方法制备ITO膜时，溅射速率不断变化，并且等离子体也发出较强的具有较宽光谱的光.报导了用调整特征光谱强度来控制溅射速率的新方法。
黄士勇王德苗任高潮陈抗生
关键词：光谱法ITO膜氧化铟锡
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