严一心
- 作品数：91 被引量：167H指数：8
- 供职机构：西安工业大学更多>>
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- 相关领域：理学一般工业技术金属学及工艺电子电信更多>>
- 偏压对MCECR溅射碳氮膜特性的影响
- 2006年
- 用封闭式电子回旋共振(MCECR)等离子体溅射的方法在硅(100)基片上沉积了碳氮膜(CNx),膜层厚度约80 nm.采用Ar/N2等离子体溅射纯石墨靶,研究了基片偏压对CNx膜机械特性和微观结构的影响,详细分析了基片偏压对CNx膜性能影响的机理.实验结果表明,当基片偏压为+30 V时,CNx膜层性能良好,硬度约为31.48 Gpa,摩擦系数约为0.14,磨损率为6.75×10-15m3/m,系数x接近于4/3.
- 蔡长龙弥谦马卫红梁海锋严一心
- 关键词：膜层性能
- 离子束抛光技术研究
- 本文利用霍尔离子源,放电产生等离子体,轰击石英基片。对基片进行抛光。研究了不同阳极电压、抛光时间、入射角度对抛光效果的影响。实验是在直径700毫米的真空室中进行,基片选用精磨后的石英基片,表面粗糙度的测试用Taylor-...
- 周扬蔡长龙严一心弥谦梁海锋
- 文献传递
- 脉冲真空电弧离子镀沉积类金刚石薄膜的结构和力学性能研究被引量：2
- 2004年
- 利用脉冲真空电弧离子镀技术在3Cr13不锈钢上制备了类金刚石(DLC)薄膜.通过Raman光谱分析了膜的结构特征,采用摩擦磨损试验机测试了薄膜在不同载荷下的摩擦系数,运用划痕仪研究了膜基的结合强度.结果表明:所镀制的薄膜具有典型类金刚石结构特征,膜中ID/IG为1.33;摩擦系数随着载荷的增大而减小,载荷为5N,转速120r/min时的摩擦系数为0.02;Ti过渡层的引入显著地提高了膜基结合力.
- 周顺严一心
- 关键词：类金刚石薄膜不锈钢
- 具有超大离子束发散角的离子源
- 本发明涉及一种用在光学真空镀膜机（离子束辅助沉积设备）或离子束溅射及刻蚀设备中的离子源，特别涉及一种具有超大离子束发散角的离子源。其技术方案是：包括气体放电室，气体放电室的一端设置有绝缘端盖，绝缘端盖外部设置有聚焦磁场产...
- 徐均琪苏俊宏惠迎雪杭凌侠弥谦严一心
- 宽束冷阴极离子源
- 本实用新型是宽束冷阴极离子源，用于薄膜离子束辅助淀积的装置，其主要部件是冷阴极、阳极和一个以上多孔引出栅组成的放电室，放电室处于永磁体形成的磁场中，该离子源可安装于各类真空镀膜机中，具有离子束束流密度和离子能量调节范围大...
- 严一心夏慧琴卢进军王树棠刘吉祥刘卫国
- 文献传递
- 非平衡磁控溅射制备Ti-DLC膜结构与性能
- 类金刚石(Diamond-1ike Carbon,DLC)膜具有良好的摩擦性能、极高的硬度、优异的抗磨损、耐腐蚀性能、在红外区具有很高的光谱透过率,在许多领域中都有着广泛的应用。然而某些情况下,DLC 薄膜也存在着残余内...
- 刘衡平徐均琪严一心
- 文献传递
- 脉冲真空电弧离子镀沉积类金刚石薄膜力学性能研究
- 利用脉冲真空电弧离子镀技术在3Cr13不锈钢上制备了类金刚石(DLC)薄膜,通过Raman光谱分析了膜的结构特征,采用摩擦磨损试验机测试了薄膜在不同载荷下的摩擦系数,运用划痕仪研究了膜基的结合强度.结果表明:所镀制的薄膜...
- 周顺严一心
- 用于离子束辅助技术的冷阴极宽束离子源
- 严一心夏慧琴
- 关键词：离子源镀膜离子束冷阴极光学薄膜性能分析
- 脉冲多弧离子源所镀膜层均匀性的实验研究被引量：5
- 1998年
- 为了解决脉冲多弧离子源镀制膜层的均匀性问题，文中首先分析了不同阴极尺寸、不同辅助阳极尺寸、不同引弧方法以及不同基片距阴极的距离引起所镀膜层透过率曲线的改变，进而讨论了脉冲多弧离子源电极几何尺寸对膜厚均匀性的影响．采用在基片下加一个圆筒形负电位电极实现了脉冲多弧离子源镀膜的均匀性．实验结果表明，在直径７０ｍｍ范围内透过率相对误差为±６．７％，小于所要求的±１０％．
- 蔡长龙朱昌杭凌侠刘卫国严一心
- 关键词：离子镀均匀性膜厚
- 脉冲电弧蒸发源的研究
- 2004年
- 本文介绍西安工业学院研制的脉冲电弧蒸发源的原渐变膜的性能指标.
- 严一心朱昌杭凌侠弥谦蔡长龙徐均琪吴玲玲
- 关键词：离子镀类金刚石膜
