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冯鸿涛
作品数:
1
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供职机构:
中国科学院安徽光学精密机械研究所
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发文基金:
国家自然科学基金
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相关领域:
理学
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合作作者
韩海燕
河北工程大学理学院
李虎
中国科学院安徽光学精密机械研究...
江海河
中国科学院安徽光学精密机械研究...
王鸿梅
中国科学院安徽光学精密机械研究...
储焰南
中国科学院安徽光学精密机械研究...
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年份
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2011
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CHCl3子吸附速率常数的离子迁移谱
2011年
利用电晕放电离子迁移谱,使用高纯氮气作为载气和迁移气体,研究了电场强度在200-500V/cm变化时CHCl3的解离电子吸附速率常数,得到样品所对应的电子吸附速率常数为1.26×10-8~8.24×10-9cm3/(molecules s).利用该装置测量了固定电场下,样品的电子吸附速率常数与样品浓度之间的关系.此外利用所获得的离子迁移谱图得到了不同电场强度下Cl-与CHCl3之间的离子分子反应速率常数.
韩海燕
冯鸿涛
李虎
王鸿梅
江海河
储焰南
关键词:
离子迁移谱
三氯甲烷
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