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叶巍

作品数：3 被引量：6H指数：1
供职机构：北京交通大学更多>>
相关领域：机械工程电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇科技成果

领域

  • 2篇机械工程
  • 1篇电子电信

主题

  • 2篇抛光
  • 2篇抛光垫
  • 2篇抛光液
  • 2篇化学机械抛光
  • 2篇机械抛光
  • 1篇润滑
  • 1篇润滑机理
  • 1篇润滑液
  • 1篇温度场
  • 1篇流动性能
  • 1篇流体
  • 1篇流体力学
  • 1篇流体流
  • 1篇流体流动
  • 1篇流体运动
  • 1篇孔隙
  • 1篇机械工程
  • 1篇超精
  • 1篇粗糙度

机构

  • 3篇北京交通大学

作者

  • 3篇叶巍
  • 2篇张朝辉
  • 1篇刘俊铭
  • 1篇刘思思
  • 1篇孙跃涛
  • 1篇杜永平
  • 1篇张寒冰
  • 1篇耿明
  • 1篇刘金泉
  • 1篇章建群

传媒

  • 1篇润滑与密封

年份

  • 1篇2013
  • 2篇2007
共 3 条 记 录，以下是 1-3
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排序方式：
微间隙超精界面间流体流动与润滑机理研究
张朝辉杜永平刘思思章建群叶巍刘俊铭孙跃涛耿明刘金泉张寒冰
该项目属于先进制造与工业技术领域超精界面间流体的运动对现代机械的精度、寿命、可靠性等具有决定性作用，水基润滑液的纳米级流动规律和润滑机理则为研究的空白。项目的主要创新性工作在于：1)针对纳米级有序润滑膜的智能润滑机理，建...
关键词：
关键词：润滑机理润滑液机械工程
化学机械抛光的流动性能和温度场的计算
随着集成电路(Integrated Circuit，IC)组件的特征尺寸的逐渐减小，集成度的提高、多层布线数目的增加以及新材料的引入，对其表面的平整度要求越来越来高;另外，为了提高计算机磁盘的存储密度，磁头和磁盘的表面的...
叶巍
关键词：化学机械抛光抛光垫抛光液温度场流动性能流体力学
文献传递
抛光垫特性对抛光中流体运动的影响分析被引量：5
2007年
抛光垫表面特性能可大大改变抛光液的流动情况,从而影响化学机械抛光的抛光性能。考虑抛光垫粗糙度和孔隙等对抛光液流动的影响,提出了一个初步的晶片级流动模型,并用数值模拟方法研究了不同参数条件(载荷和速度的变化等)下抛光液的流动特征。计算结果表明增加外载荷将导致粗糙峰的磨损概率增加,增加剪切速率则提高了剪切应力,均可导致高材料去除率。模型能较好理解材料去除机制和输运,从而有助于对化学机械抛光机制的了解。
张朝辉叶巍
关键词：化学机械抛光抛光垫抛光液粗糙度孔隙
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