崔成和
- 作品数：50 被引量：42H指数：4
- 供职机构：中国核工业集团公司核工业西南物理研究院更多>>
- 发文基金：国家磁约束核聚变能发展研究专项国家自然科学基金中国核工业科学基金更多>>
- 相关领域：核科学技术一般工业技术理学机械工程更多>>
- HL-2A真空抽气、检漏系统方案
- 曹曾徐云仙付卫东崔成和严东海
- HL-1M 装置硼化膜的研究被引量：1
- 1998年
- ＨＬ－１Ｍ装置采用Ｃ２Ｂ１０Ｈ１２蒸气对真空室内壁进行了原位硼化，取得了满意的效果。采用沉积探针技术并结合四极质谱分析技术对膜的成分、热解释性能、Ｄ＋束辐照化学腐蚀性能、ＨＬ－１Ｍ装置第一壁成膜的平均速率和膜厚的均匀度以及硼化前后的碳、氧杂质和放电期间器壁再循环特性进行了研究。
- 王明旭张年满王志文王恩耀邓冬生洪文玉崔成和梁雁朱毓坤
- 关键词：第一壁硼化膜性能托卡马克
- HL-1M 装置的氦辉光放电清洗的清除率研究
- 1998年
- 通过对ＨＬ－１Ｍ的氦直流辉光放电清洗（ＨｅＧＤＣ）的放电特点和清除效率的研究，发现环形真空室的对称性导致与阳极截面相对称的区域的场强很弱，使其阴极位降区的厚度远大于氦离子的平均自由程，严重影响辉光清除效率。提出采用多电极不对称阳极电位的辉光放电来提高清除效率。
- 王志文张年满王明旭严东海崔成和梁雁
- 关键词：氦清除率托卡马克装置
- 四极质谱计气体分析与测量系统的研制被引量：2
- 2012年
- 介绍了为开展漏孔检测、氘-氦分辨性能及真空检漏技术等相关实验研究而进行的四极质谱计分析与测量系统的研制,描述了真空室结构、抽气设备的选型、测量仪器的选择及控制保护子系统工作方式。对系统进行了包括极限真空、残余气体质谱分析、漏放气率、质谱计性能等测试,结果表明本系统达到了设计要求。
- 蔡潇曹曾黄向玫许正华崔成和高霄雁
- 关键词：流导灵敏度
- HL-1M托卡马克装置的DC辉光放电清洗(英文)
- 1997年
- 本文简要叙述了ＨＬ－１Ｍ的ＤＣ辉光放电清洗技术和放电结果。实验表明，类似ＨＬ－１Ｍ托卡马克装置的真空室，经过烘烤、Ｔａｙｌｏｒ放电和ＤＣ放电清洗后，有可能得到高品质的等离子体。
- 姚良骅张年满洪文玉徐小桥王恩耀崔成和杨式坤
- 关键词：辉光放电托卡马克装置
- HL-2A托卡马克送气成像研究被引量：1
- 2007年
- 送气成像(gas puffimaging,GPI)是一种重要的研究边缘辐射诊断手段.分析了送气(gas puffing,GP)的原子分子过程,指出气体辐射的主要成分是Hα线,出现在边缘区域,并给出其强度和位置的表达式.介绍HL-2A托卡马克上GPI成像系统的改进和实验布置.从成像的角度获得了GP实验中氢气在等离子体空间的辐射图形,观察结果证实上述分析.在放电开始阶段,氢原子可以穿越待建立的完全等离子体区并形成长条形的辐射亮区.一般的GP加料中,CCD图片与控制信号,以及其他诊断结果相符合.在等离子体边缘区域强场侧(HFS)和弱场侧(LFS)都观察到很强的Hα线辐射.
- 郑银甲黄渊冯震施乐崔成和王明旭徐红兵
- 关键词：送气CCD成像
- HL-1M装置真空室硅化的研究被引量：3
- 2001年
- GDC(He +SiH4 )是为HL 1M装置研制的一种常规壁处理技术。在He辉光等离子体条件下 ,通过气相中的电子碰撞离解、电离、离子 分子反应和在壁面上的He+ 诱导脱H2 过程 ,在清洁的真空壁表面沉积一层无定形、半透明、致密的氢化硅 (α Si∶H)薄膜。氢化硅具有良好的H(D)捕获、H2 (D2 )释放 ,能显著地降低再循环系数 ,有效地控制杂质水平 ,大大拓宽了HL 1M装置的运行范围 ,为HL 1M装置的LHCD、ICRH、ECRH、NBI、PI和MBI实验提供了良好的真空壁条件。
- 严东海王恩耀崔成和梁雁许正华张炜刘建宏黄永康
- 关键词：硅化再循环HL-1M装置真空室
- HL-1M装置氦辉光放电清洗的实验研究被引量：4
- 2002年
- 氦辉光放电清洗 (GDC(He) )是HL - 1M (环流器新一号 )托卡马克装置控制C、O杂质、壁H再循环和改善真空壁条件的有效方法。它与泰勒放电清洗 (TDC)、交流放电清洗 (AC)、电子回旋共振放电清洗 (ECR)相比 ,设备简单、不需要磁场且操作安全 ;与烘烤去气相比 ,它对环形真空室壁的去气率高 ,本底杂质浓度低。分别描述了去O、去C和去H的清洗模式 。
- 王志文严东海张年满崔成和梁雁
- 关键词：HL-1M装置氦辉光放电托卡马克装置
- HL-1M装置硼化、硅化和锂涂覆壁的出气特性被引量：4
- 1998年
- 借助ＱＭＳ诊断技术，完成了ＨＬ－１Ｍ装置Ｂ化、Ｓｉ化和Ｌｉ涂覆壁的出气特性的对比实验研究。氦直流辉光放电清洗［ＧＤＣ（Ｈｅ）］期间，Ｈ２出气占支配地位，杂质分压与Ｈ２分压成正比，ＧＤＣ后的本底放气率较烘烤去气低。ＧＤＣ（Ｈｅ＋Ｈ２）是去除膜的有效方法。对应Ｂ化、Ｓｉ化和Ｌｉ涂覆壁，托卡马克放电后的Ｈ２出气量比是１∶０．１３∶０．２１。出Ｈ２量／送Ｈ２量对ＳＳ壁为０．５，对Ｂ化壁为１．８，对Ｓｉ化和Ｌｉ涂覆壁则为０．１。对ｎｅ归一化的出气量的Ｈ密度能有效地表示再循环系数（Ｒ）的大小。
- 严东海王恩耀王志文许正华张炜刘建宏崔成和
- 关键词：托卡马克硼化硅化
- HL-2M装置初始等离子体放电阶段的直流辉光放电清洗系统研制被引量：1
- 2021年
- 基于HL-2M托卡马克初始等离子体放电的工程需求,设计并研制了直流辉光放电清洗系统,包括电极、馈线、电源、控制以及监测等关键部件和辅助子系统。研制完成后开展了系统装配和工程调试,并投入到首次等离子体放电。实验结果表明,该直流辉光放电系统运行稳定、可靠,且此辉光放电清洗显著降低了真空室本底杂质浓度,能满足HL-2M装置初始等离子体放电的壁条件需求。
- 曹诚志曹曾崔成和高霄雁胡毅黄向玫周军李斌斌HL-2M研制团队
