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张广良

作品数：20 被引量：4H指数：1
供职机构：西北工业大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：自动化与计算机技术航空宇航科学技术金属学及工艺医药卫生更多>>

合作作者

文献类型

  • 17篇专利
  • 3篇期刊文章

领域

  • 2篇自动化与计算...
  • 1篇金属学及工艺
  • 1篇机械工程
  • 1篇电子电信
  • 1篇交通运输工程
  • 1篇航空宇航科学...
  • 1篇医药卫生

主题

  • 4篇接线
  • 3篇掉头
  • 3篇支撑架
  • 3篇制动
  • 3篇制动装置
  • 3篇接线柱
  • 3篇机器人
  • 3篇固定式
  • 3篇齿轮
  • 3篇齿轮传动
  • 3篇齿轮传动机构
  • 3篇传动
  • 3篇传动机构
  • 2篇陶瓷
  • 2篇抛光
  • 2篇晶体
  • 2篇控制器
  • 2篇功能陶瓷
  • 2篇烘丝
  • 2篇烘丝机

机构

  • 20篇西北工业大学

作者

  • 20篇张广良
  • 3篇任敬心
  • 3篇李懿
  • 2篇曹静
  • 2篇李玲
  • 2篇滕霖
  • 2篇王永锋
  • 1篇郭温

传媒

  • 2篇航空精密制造...
  • 1篇航空制造工程

年份

  • 1篇2023
  • 2篇2022
  • 1篇2021
  • 1篇2020
  • 6篇2019
  • 2篇2018
  • 1篇2017
  • 2篇2015
  • 1篇2013
  • 1篇1995
  • 2篇1994
共 20 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
一种固定式汽车掉头平台
本实用新型公开了一种固定式汽车掉头平台，包括支撑架、底座和停车架、齿圈、限位装置、制动装置、探测器组和接线柱，停车架套设在支撑架外，齿圈、支撑架和停车架均设置在底座内，限位装置的下部设置在底座内的中心位置，限位装置的上部...
屈倩杨晓龙张广良韩云龙付朋辉周通邬宇轩
文献传递
YAG、GGG晶体机械损伤层X射线检测
1995年
介绍了在普通Ｘ射线衍射仪上利用旋转样品台，通过精确调鳌，使晶面法线处于衍射平面，从而进行晶体机械加工损伤层的Ｘ射线衍射分析．衍射分析结果表明，研磨后的晶体表面是由破碎镶嵌层、裂纹及晶格畸变等损伤层组成．配合腐蚀实验，确定出不同工艺方法产生的损伤程度及损伤层深度，并证实通过控制机械化学抛光时间能够实现ＹＡＧ、ＧＧＧ晶体的无损伤加．
滕霖任敬心张广良
关键词：X射线衍射研磨抛光
一种烘丝机用烟丝松散装置
本实用新型公开了一种烘丝机用烟丝松散装置，包括多个均布设在烘丝机的干燥室侧壁上的松散杆；松散杆内端插入至待烘干烟丝内且其外端安装在滑移座上，干燥室侧壁上设置有竖向滑槽，竖向滑槽底部设置有电动推杆，且电动推杆呈竖直向布设；...
郝杰张广良
文献传递
便携式智能语音系统
本实用新型公开了一种便携式智能语音系统，包括腕带、设置在所述腕带上的壳体，以及设置在所述壳体内的微控制器，以及分别与所述微控制器连接的时钟单元、加速度传感器、报警单元和电源单元。该便携式智能语音系统能定时提示工作人员一定...
李茜张广良郗梦璐
文献传递
人机交互式座椅系统
本实用新型公开了一种人机交互式座椅系统，包括椅脚、椅面、椅背和扶手；所述椅面包括固定在所述椅脚上的基座，以及从下至上依次设置的第一格栅板、弹簧、第二格栅板和第一弹性物质填充层；所述基座内设有若干用于支撑所述第一格栅板的肋...
李茜张广良
文献传递
GGG单晶的胶体软磨料抛光液的制备研究被引量：1
1994年
讨论了适用于ＧＧＧ单晶体胶体软磨料抛光液的作用原理、组成及制备方法．用正交试验法确定影响ＳｉＯ２胶体的诸因素──温度、ＣａＣｌ２浓度及加入量、Ｎａ２ＳｉＯ３浓度的最佳配合．
滕霖张广良任敬心
关键词：GGG胶体颗粒化学抛光机械抛光晶体表面磁泡存储器
轨道式高速公路专用垃圾捡拾机器人
本实用新型公开了一种轨道式高速公路专用垃圾捡拾机器人，包括机架总成、连接于机架总成背部用于将机架总成悬挂于防护栏上并带动机架总成沿护栏行走的行走装置、设置于机架总成上为行走装置提供动力的动力总成、连接于机架总成上并可被驱...
李茜张广良李懿邬宇轩
文献传递
色谱饼支撑装置
本实用新型公开了一种色谱饼支撑装置，包括支撑板，所述支撑板上设有用于检测其上表面水平状态的水平检测器及用于供色谱饼接头通过的接头孔，所述支撑板的底部设有若干根支撑高度可调的支撑柱；本实用新型的色谱饼支撑装置，使用时色谱饼...
屈倩张广良
柏油盘光学抛光表面温度分布规律被引量：3
1994年
本文利用新型高精度温度传感器定量地测量了柏油盘光学抛光表面温度，并对抛光温度随抛光时间、抛光速度和抛光压力的分布变化规律进行了分析和研究。
腾霖张广良任敬心
关键词：表面温度煤沥青
一种BNT‑BLT‑BMNT反铁电储能陶瓷及其制备方法
本发明公开了一种BNT‑BLT‑BMNT反铁电储能陶瓷及其制备方法，属于功能陶瓷制备技术领域，分子式为：[(Bi<Sub>1/2</Sub>Na<Sub>1/2</Sub>)<Sub>0.92</Sub>Ba<Sub>0...
曹静王永锋李兆张广良
文献传递
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