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曹丽梅

作品数：1 被引量：25H指数：1
供职机构：中南工业大学矿物工程系更多>>
发文基金：湖南省中青年科技基金更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 1篇氧化硅
  • 1篇抛光
  • 1篇二氧化硅
  • 1篇半导体
  • 1篇半导体工业
  • 1篇CMP技术

机构

  • 1篇中南工业大学

作者

  • 1篇覃文庆
  • 1篇徐兢
  • 1篇胡岳华
  • 1篇曹丽梅

传媒

  • 1篇湖北化工

年份

  • 1篇2000
共 1 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
半导体工业中的化学机械抛光(CMP)技术被引量：25
2000年
介绍了半导体工业中蓬勃发展的化学机械抛光 (CMP)技术。重点叙述了CMP技术所采用的设备及消耗品 ,CMP过程机理 ,抛光片的检测及影响抛光片质量的因素 ,CMP技术的应用及发展趋势。
曹丽梅胡岳华徐兢覃文庆
关键词：CMP技术半导体工业二氧化硅抛光
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共1页<1>
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