王旸
- 作品数：4 被引量：8H指数：2
- 供职机构：清华大学信息科学技术学院计算机科学与技术系更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划更多>>
- 相关领域：电子电信更多>>
- 一种新的光学临近校正方法(英文)
- 2003年
- 提出了一种新的光学临近矫正算法 .首先建立了一套高效并且适用性强的规则描述 ,然后提出了一种新的规则运用方法 .算法在规则数据表的基础上通过 v- SVR方法建立规则描述同矫正数据之间的数学表达式 ,使得对于任意输入的规则描述都能够精确计算出相应的矫正数据 .实验结果表明 ,该算法比传统的查表插值方法具有更高的精度 .
- 李卓远吴为民王旸洪先龙
- 光学邻近效应矫正(OPC)技术及其应用被引量：3
- 2007年
- 随着集成电路设计和制造进入超深亚微米(VDSM)阶段,特征尺寸已经接近甚至小于光刻工艺中所使用的光波波长,因此光刻过程中,由于光的衍射和干涉现象,实际硅片上得到的光刻图形与掩膜版图形之间存在一定的变形和偏差,光刻中的这种误差直接影响电路性能和生产成品率.为尽量消除这种误差,一种有效的方法是光学邻近效应矫正(OPC)方法.目前由于OPC矫正处理时间过长,产生的文件大小呈指数级增长,使掩膜版的制造成本成倍地增加.文中首先针对OPC矫正技术进行了深入研究,提出了具有图形分类预处理功能的自适应OPC矫正技术,将芯片图形按其对性能的影响分为关键图形与一般图形,对两类图形采用不同的容差,提高了OPC处理效率.其次,提出并实现了图形分段分类的基于模型的OPC矫正算法,在保证矫正精度的同时提高了矫正的效率.提出了具有通用性、简洁性和全面性的OPC矫正规则,在此基础上实现了规则库的自动建立和规则库的查找与应用,实现了效率高、扩展性强的基于规则的掩膜版矫正算法.算法对规则数据进行有效地描述、存储和处理,提高了光刻矫正技术实际应用效率.第三,设计实现了高效、高精度的光学邻近效应矫正系统MR-OPC,系统综合应用了基于规则的OPC矫正技术和基于模型的OPC矫正技术,很好地解决了矫正精度和矫正效率之间的矛盾,取得了最佳的矫正优化结果.
- 蔡懿慈周强洪先龙石蕊王旸
- 关键词：版图集成电路
- 优化的基于模型的光学邻近矫正算法
- 2005年
- 提出了一种新的优化的基于模型的光学邻近矫正算法,该算法充分考虑了图形内部及图形之间的光学邻近影响,实现了线段切割和移动步长的自适应性,提高了系统的矫正精度及矫正速度,实验结果表明该算法是有效的.
- 蔡懿慈王旸周强洪先龙
- 关键词：光刻光学邻近效应
- 成品率驱动下基于模型的掩模版优化算法被引量：5
- 2004年
- 提出并实现了以分段分类思想为基础的掩模版优化算法 ,它是一种基于模型的光学邻近效应方法 .该算法具有矫正精度高、灵活性强和矫正效率较高的特点 ,适合于版图中关键图形的矫正 .实验表明 ,该优化算法可以实现矫正功能并且具有很好的矫正效果 .
- 王旸蔡懿慈石蕊洪先龙
- 关键词：掩模光刻
