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室温常压溶液法合成烯丙基功能化的正六边形硅纳米晶体: 2011年; 室温常压下,以氢化铝锂为还原剂在溶液中还原烯丙基三氯硅烷和四氯化硅体系,制备了烯丙基功能基团修饰的正六边形硅单晶.采用透射电子显微镜（Transmission Electron Microscopy,TEM）和傅里叶变换红外光谱（Fourier Transform Infrared,FTIR）对产物进行表征.研究了硅晶体的尺寸分布、晶面取向及表面组成,推测了可能的反应机理.结果表明,三氯硅烷与四氯化硅浓度比为1：3时经过还原可生成尺寸为20~50nm,表面有烯丙基基团的（111）晶向的单晶硅.; 王晶孙树清; 关键词：纳米晶体晶体硅表面修饰

一种表面增强拉曼基底及其制备方法和应用: 本发明提供了一种表面增强拉曼基底的制备方法，该方法包括以下步骤：使硅片在含有氢氟酸的电解液中电解，制得多孔硅基底；在超声条件下，将所述多孔硅基底浸入硝酸银水溶液中进行反应，然后取出，干燥后制得表面增强拉曼基底。本发明还提...; 赖宇明王晶贺涛孙树清; 文献传递

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王晶