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袁长坤

作品数:26 被引量:72H指数:6
供职机构:山东理工大学更多>>
发文基金:山东省自然科学基金国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学电子电信化学工程自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 26篇中文期刊文章

领域

  • 16篇理学
  • 13篇电子电信
  • 1篇化学工程
  • 1篇机械工程
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 21篇导电薄膜
  • 21篇透明导电
  • 21篇透明导电薄膜
  • 19篇溅射
  • 19篇磁控
  • 18篇磁控溅射
  • 10篇ZNO
  • 7篇溅射法
  • 5篇英文
  • 5篇光电
  • 5篇光电性
  • 5篇光电性能
  • 5篇ZR
  • 4篇直流磁控
  • 4篇膜厚
  • 4篇溅射功率
  • 4篇薄膜厚度
  • 4篇
  • 4篇衬底
  • 4篇磁控溅射法

机构

  • 23篇山东理工大学
  • 3篇山东工程学院

作者

  • 26篇袁长坤
  • 22篇张化福
  • 21篇刘汉法
  • 18篇类成新
  • 10篇袁玉珍
  • 1篇王新峰
  • 1篇荣玮
  • 1篇闫桂英
  • 1篇周爱萍
  • 1篇魏功祥
  • 1篇刘云燕
  • 1篇穆晓东

传媒

  • 4篇半导体技术
  • 4篇液晶与显示
  • 4篇大学物理实验
  • 3篇人工晶体学报
  • 3篇电子元件与材...
  • 3篇真空科学与技...
  • 2篇太阳能学报
  • 2篇材料导报
  • 1篇山东理工大学...

年份

  • 1篇2013
  • 2篇2012
  • 2篇2011
  • 2篇2010
  • 12篇2009
  • 3篇2008
  • 1篇2006
  • 1篇1997
  • 1篇1996
  • 1篇1995
26 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
缓冲层厚度对透明导电薄膜ZnO∶Zr性能的影响(英文)
2009年
利用直流磁控溅射法在有ZnO∶Zr缓冲层的水冷玻璃衬底上成功制备出了ZnO∶Zr透明导电薄膜,缓冲层的厚度介于35~208nm。利用XRD、SEM、四探针测试仪和紫外-可见分光光度计研究ZnO∶Zr薄膜的结构、形貌、电光性能。结果表明,薄膜的颗粒尺寸和电阻率对缓冲层厚度具有较强的依赖性。当缓冲层厚度从35nm增加到103nm时,薄膜的颗粒尺寸增大,电阻率减小。而当缓冲层厚度从103nm增加到208nm时,薄膜的颗粒尺寸减小,电阻率增大。当缓冲厚度为103nm时,薄膜的电阻率最小为2.96×10-3Ω.cm,远小于没有缓冲层时的12.9×10-3Ω.cm。实验结果表明,在沉积薄膜之前先沉积一层适当的缓冲层是提高ZnO∶Zr薄膜质量的一种有效方法。
张化福李雪类成新刘汉法袁长坤
关键词:缓冲层磁控溅射透明导电薄膜
浅谈编写物理实验教材的几点做法被引量:1
1995年
本文就如何编写物理实验教材,从三方面谈了一下自己的作法。
袁长坤闫桂英
关键词:物理实验优化教学
玻璃衬底和硅衬底沉积TZO透明导电薄膜的对比研究被引量:4
2011年
利用直流磁控溅射法在室温水冷玻璃衬底和硅片衬底上制备出掺钛氧化锌(ZnO:Ti)透明导电薄膜。SEM和XRD研究结果表明,两种衬底上的ZnO:Ti薄膜均为为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有C轴择优取向。讨论了衬底对掺钛氧化锌透明导电薄膜光学、电学性能的影响。当玻璃衬底薄膜厚度为568nm时,薄膜电阻率达到最小值1.64×10^-4Ω·cm,硅衬底上薄膜厚度为641nm时有最小电阻率2.69x10“Q·啪。两种衬底所制备薄膜都具有良好的附着性能,玻璃衬底薄膜样品在波长为500—800nm的可见光中平均透过率都超过了91%,硅衬底上薄膜样品的折射率约为2.05,ZnO:Ti薄膜可以用作薄膜太阳电池的透明电极。
刘汉法张化福袁玉珍袁长坤类成新
关键词:透明导电薄膜磁控溅射光电性能
射频磁控溅射法制备掺锆氧化锌透明导电薄膜被引量:4
2008年
利用射频磁控溅射法在室温下制备出了掺锆氧化锌(ZnO∶Zr)透明导电薄膜。研究了溅射压强对ZnO∶Zr薄膜表面形貌、结构、光学和电学性能的影响。结果表明:ZnO∶Zr薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有c轴择优取向,溅射压强对薄膜电阻率有显著影响,压强为1.5Pa时,电阻率具有最小值1.77×10–3Ω·cm。所制备的ZnO∶Zr薄膜具有良好的附着性能,在可见光区平均透过率超过93%。
刘汉法张化福类成新袁长坤
关键词:透明导电薄膜磁控溅射
掺锆氧化锌透明导电薄膜的制备及特性研究被引量:3
2008年
利用射频磁控溅射法在室温水冷玻璃衬底上成功地制备出了掺锆氧化锌(ZnO∶Zr)透明导电薄膜。研究了溅射功率对ZnO∶Zr薄膜结构、形貌和光电性能的影响。研究结果表明,溅射功率对ZnO∶Zr薄膜的结构和电阻率有显著影响。X射线衍射(XRD)表明,ZnO∶Zr薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有C轴择优取向。在溅射功率为150 W时,实验获得的ZnO∶Zr薄膜电阻率具有最小值3.8×10-3Ω.cm。实验制备的ZnO∶Zr薄膜具有良好的附着性能,可见光区平均透过率超过92%。ZnO∶Zr薄膜可以用作薄膜太阳能电池和液晶显示器的透明电极。
刘汉法张化福类成新袁长坤
关键词:透明导电薄膜磁控溅射溅射功率
溅射压强对低阻高透过率掺钛氧化锌透明导电薄膜的影响被引量:12
2010年
利用直流磁控溅射法在室温水冷玻璃衬底上制备出了高质量的掺钛氧化锌透明导电薄膜(ZnO:Ti)。研究了溅射压强对ZnO:Ti薄膜结构、形貌和光电性能的影响。研究结果表明,溅射压强对ZnO:Ti薄膜的结构和电阻率有显著影响。X射线衍射(XRD)表明,ZnO:Ti薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有c轴择优取向。在溅射压强为5.0Pa时,实验获得的ZnO:Ti薄膜电阻率最小值为1.084×10-4Ω.cm。实验制备的ZnO:Ti薄膜具有良好的附着性能,可见光区平均透过率超过91%。ZnO:Ti薄膜可以用作薄膜太阳能电池和液晶显示器的透明电极。
刘汉法袁玉珍张化福袁长坤
关键词:透明导电薄膜溅射压强磁控溅射
利用直流磁控溅射法在柔性衬底上制备ZnO:Zr新型透明导电薄膜(英文)被引量:6
2009年
室温下利用直流磁控溅射法在有ZnO缓冲层的柔性衬底PET上制备出了可见光透过率高、电阻率低的掺锆氧化锌(ZnO∶Zr)透明导电薄膜,研究了厚度对ZnO∶Zr薄膜结构及光电性能的影响。结果表明,ZnO∶Zr薄膜为六方纤锌矿结构的多晶薄膜。实验获得ZnO∶Zr薄膜的最小电阻率为2.4×10-3Ω.cm,其霍尔迁移率为18.9 cm2.V-1.s-1,载流子浓度为2.3×1020cm-3。实验制备的ZnO∶Zr薄膜具有良好的附着性能,其可见光平均透过率超过92%。
张化福类成新刘汉法袁长坤
关键词:柔性衬底直流磁控溅射透明导电薄膜
旋光仪维修及调整
2013年
首先提出了旋光仪在使用中出现的故障,经过分析,找出故障原因;说明维修方法以及如何调整仪器的影荫角和零位;使故障仪器不仅迅速恢复使用,而且处于最佳工作状态,同时节省了仪器厂家人员维修仪器的时间和费用。
穆晓东袁长坤
关键词:旋光仪起偏器
关于电子电荷的测定计时方法研究
1996年
本文对电子电荷的测定时,找出计量时间所带来的误差原因,改变了计量时间的措施,使得在测量中,操作简单,数据准确。
袁长坤闫桂英
直流磁控溅射法制备ZnO∶Zr透明导电薄膜及性能研究被引量:1
2009年
利用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备了ZnO∶Zr(ZZO)透明导电薄膜。研究了厚度对薄膜结构及光电性能的影响。研究结果表明,厚度对薄膜的结构和电学性能有很大的影响。制备的ZZO薄膜为六角纤锌矿结构的多晶薄膜,具有c轴择优取向。在厚度为593nm时,薄膜的电阻率具有最小值1.9×10-3Ω·cm。所制备薄膜样品的可见光平均透过率都超过93%。
张化福类成新刘汉法袁长坤
关键词:薄膜厚度透明导电薄膜
共3页<123>
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