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赵培

作品数:3 被引量:15H指数:3
供职机构:重庆大学材料科学与工程学院更多>>
发文基金:国家大学生创新性实验计划更多>>
相关领域:一般工业技术更多>>

文献类型

  • 3篇中文期刊文章

领域

  • 3篇一般工业技术

主题

  • 3篇晶态
  • 3篇光催化
  • 3篇非晶
  • 3篇非晶态
  • 3篇催化
  • 2篇溅射
  • 2篇溅射制备
  • 2篇TIO
  • 2篇WO
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 2篇磁控溅射制备
  • 1篇亚甲基
  • 1篇亚甲基蓝
  • 1篇氧化钛
  • 1篇失活
  • 1篇甲基
  • 1篇甲基蓝
  • 1篇光催化性
  • 1篇光催化性能

机构

  • 3篇重庆大学

作者

  • 3篇黄佳木
  • 3篇赵培
  • 2篇蔡小平
  • 2篇李璐
  • 1篇李月霞
  • 1篇刘园园
  • 1篇董思勤

传媒

  • 2篇化工进展
  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 1篇2010
  • 2篇2009
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
磁控溅射制备非晶态TiO_2-V薄膜的光催化性能研究被引量:8
2009年
采用磁控溅射方法,在玻璃基片上制备V掺杂非晶态TiO2薄膜,研究了射频掺杂功率、基片温度以及薄膜厚度等因素对薄膜光催化性能的影响。X射线衍射(XRD)及X光电子能谱(XPS)分析表明:薄膜为非晶态,薄膜主要成分为钛(Ti)和钒(V),其比例为8.7∶1。光催化降解10mg/L的亚甲基蓝溶液实验表明:随着薄膜厚度的增加,光催化降解率递增,当厚度达129nm时,薄膜对亚甲基蓝的降解率为83.36%。
黄佳木蔡小平赵培李月霞
关键词:光催化亚甲基蓝磁控溅射
磁控溅射制备非晶态WO_3薄膜的光催化性能被引量:3
2010年
采用射频反应磁控溅射工艺在玻璃基片上沉积了非晶态WO3薄膜。通过光催化降解亚甲基蓝和罗丹明B溶液实验,研究了所制WO3薄膜的光催化活性和使用寿命。X射线衍射(XRD)分析表明:所制备的WO3薄膜为非晶态。光催化实验表明:紫外光照3h后,薄膜对亚甲基蓝和罗丹明B溶液的最大降解率分别为83.26%和72.73%。重复使用3次后,薄膜对亚甲基蓝的降解率保持在75%以上,7次使用后薄膜基本丧失光催化活性。采用去离子水超声处理30min的方法可使已失活薄膜对亚甲基蓝的降解率从20%恢复至81%。
黄佳木李璐刘园园赵培董思勤
关键词:WO3薄膜光催化非晶态磁控溅射
非晶态TiO_2/WO_3光催化复合薄膜的失活与再生被引量:5
2009年
研究了非晶态TiO2/WO3薄膜降解亚甲基蓝的光催化活性、失活及活性再生等问题。在本实验条件下,新制非晶态TiO2/WO3薄膜对亚甲基蓝的降解率为93.8%。试验表明,使用6次后其对亚甲基蓝的降解率仍可达85%以上,经10次使用后薄膜基本丧失光催化活性。对于失活的光催化薄膜,分别采用(a)蒸馏水浸泡30min、(b)乙醇浸泡30min、(c)蒸馏水超声处理30min、(d)乙醇中超声处理30min对其进行活性再生实验。上述4种方法可将使用9次后的光催化膜对亚甲基蓝的降解率从10.3%分别恢复至23.2%、28.3%、79.2%、90.5%。
黄佳木蔡小平赵培李璐
关键词:二氧化钛非晶态失活光催化
共1页<1>
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